一种可提高曝光精度的曝光机制造技术

技术编号:38954008 阅读:14 留言:0更新日期:2023-09-28 09:12
本实用新型专利技术公开了一种可提高曝光精度的曝光机,其应用于曝光机,其包括掩膜组件,所述掩膜组件的顶面设有稳定机构;所述掩膜组件的一侧侧壁上固定设有间隙传感器;所述稳定机构包括一号稳定组件与二号稳定组件,所述一号稳定组件位于掩膜组件的一侧上方,所述二号稳定组件位于掩膜组件的另一侧上方。本实用新型专利技术在掩膜板的顶面贴合稳定机构,使得稳定机构的吸板在负压设备的作用下稳定吸附在掩膜板上,使得在掩膜板因重力导致下垂时,通过设置的间隙传感器检测后,通过控制设备控制稳定机构的驱动设备启动拉动吸板移动,从而拉动掩膜板的四角移动,从而对掩膜板的下垂量进行调整,调整方便,从而通过调整掩膜板的下垂量提高曝光机的曝光精度。的曝光精度。的曝光精度。

【技术实现步骤摘要】
一种可提高曝光精度的曝光机


[0001]本技术涉及曝光机
,特别是涉及了一种可提高曝光精度的曝光机。

技术介绍

[0002]曝光机的掩模板基材通常采用苏打玻璃、石英玻璃,对于一些生产代数较高的产线,铬版的尺寸较大,掩模板放置在曝光机内由于自身重量的原因,发生弯曲下垂,导致掩模板和基材之间的间隙,由于掩模板的下垂,掩膜板和基板之间在各个位置的间隙不一致,导致曝光出来的图案在基板上的各个位置不一致,影响曝光精度,现有的曝光机在掩模板的长边设计有压条,只能通过调整压条来粗略调整掩模板的下垂量,不可以精确知道掩模板中心位置的下垂量,且不方便调整压条来调整掩膜板的下垂量。
[0003]如中国技术专利(CN218213785U)公开了一种立式曝光机高精度自动间隙调整系统,该方案采用立式安装左右两侧的玻璃掩膜版,减少因重力导致的玻璃掩膜版变形;每台X轴伺服马达独立控制,能根据对应的间隙测量传感器的测量数据进行调整,使左侧掩膜版与右侧掩膜版之间的间隙精度更高,从而能使产品曝光精度更好。
[0004]然而,本专利技术人具体实施此装置时,发现存在以下缺陷:该方案通过将曝光机设置成立式,减少掩膜板因重力导致变形造成的间隙变化,设置间隙测量传感器进行掩膜板的下垂量检测,但是由于设置成立式,掩膜板在重力作用下会向下移动变形,水平方向的间隙不容易发生变化,因此该方案设置的多个间隙传感器作用一般,且设置多个测量传感器成本较高,实用性不强,因此需要一种便于调节、曝光精度高、实用性强的曝光机。

技术实现思路

[0005]基于此,有必要针对上述技术问题,提供一种可提高曝光精度的曝光机,在安置掩膜板后,通过在掩膜板上方设置稳定机构,将稳定机构的吸板贴合在掩膜板的四角上,通过与吸板贯通连接的负压设备产生的负压使得吸板紧紧吸附掩膜板,使得在掩膜板下垂时,通过间隙传感器测量后,能够通过稳定机构的一号驱动设备拉动吸板移动,从而使得掩膜板的四角被向外侧拉动,从而调整掩膜板的下垂量,自动检测、调整方便,提高曝光机的曝光精度。
[0006]为了解决上述技术问题,本技术采用了如下的技术方案:
[0007]一种可提高曝光精度的曝光机,其应用于触摸屏,其包括掩膜组件,所述掩膜组件的顶面设有稳定机构;所述掩膜组件的一侧侧壁上固定设有间隙传感器;所述稳定机构包括一号稳定组件与二号稳定组件,所述一号稳定组件位于掩膜组件的一侧上方,所述二号稳定组件位于掩膜组件的另一侧上方。
[0008]作为本技术提供的可提高曝光精度的曝光机的一种优选实施方式,所述一号稳定组件包括一号驱动设备,所述一号驱动设备的驱动端上固定设有连接杆,所述连接杆的一端固定设有吸板,所述连接杆的一侧固定设有负压设备,所述负压设备的一侧固定设有二号驱动设备。
[0009]作为本技术提供的可提高曝光精度的曝光机的一种优选实施方式,所述连接杆包括伸缩杆,所述伸缩杆的一端固定在一号驱动设备的驱动端上,所述伸缩杆的另一端固定设有连接管,所述连接管贯通连接在吸板上,所述负压设备的一端贯通连接在连接管上。
[0010]作为本技术提供的可提高曝光精度的曝光机的一种优选实施方式,所述吸板上开设有连接孔,所述连接管的一端贯通连接连接孔,所述吸板的底面开设有吸孔,所述连接孔贯通连接吸孔,所述吸孔的外侧固定设有垫圈,所述垫圈贴合在掩膜组件的顶面。
[0011]作为本技术提供的可提高曝光精度的曝光机的一种优选实施方式,所述负压设备包括一号伸缩管,所述一号伸缩管的一端贯通连接连接孔,所述一号伸缩管的另一端贯通连接设有二号伸缩管,所述二号伸缩管的一端贯通连接二号驱动设备,所述二号伸缩管的另一端贯通连接设有集气管,所述一号伸缩管贯通连接集气管。
[0012]作为本技术提供的可提高曝光精度的曝光机的一种优选实施方式,所述掩膜组件包括基板,所述基板上方设有掩膜板,所述稳定机构位于掩膜板的上方,所述间隙传感器固定在基板的一侧。
[0013]作为本技术提供的可提高曝光精度的曝光机的一种优选实施方式,所述一号驱动设备与二号驱动设备结构相同。
[0014]作为本技术提供的可提高曝光精度的曝光机的一种优选实施方式,所述一号稳定组件与二号稳定组件结构相同。
[0015]作为本技术提供的可提高曝光精度的曝光机的一种优选实施方式,所述吸板位于掩膜板的一角顶面,所述垫圈贴合在掩膜板上。
[0016]作为本技术提供的可提高曝光精度的曝光机的一种优选实施方式,所述间隙传感器位于基板的侧壁中部。
[0017]与现有技术相比,本技术有以下有益效果:
[0018]本技术在安置掩膜板后进行曝光时,在掩膜板的顶面贴合稳定机构,使得稳定机构的吸板在负压设备的作用下稳定吸附在掩膜板上,使得在掩膜板因重力导致下垂时,通过设置的间隙传感器检测后,传递到外部控制设备,通过控制设备控制稳定机构的驱动设备启动拉动吸板移动,从而拉动掩膜板的四角移动,从而对掩膜板的下垂量进行调整,调整方便,从而通过调整掩膜板的下垂量提高曝光机的曝光精度;
[0019]且通过设置的位于基板侧壁中部的间隙传感器对掩膜板的下垂中心进行监测,由于掩膜板横向安置,在受重力影响时中心下垂明显,测量中心位置测量效果好,且减少间隙传感器的数量,节省成本。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本技术中的方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作一个简单介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0021]图1为本技术提供的整体结构示意图;
[0022]图2为本技术的掩膜组件立体示意图;
[0023]图3为本技术的一号稳定组件局部剖视图;
[0024]图4为本技术的图3中A处的放大示意图。
[0025]图中标记说明如下:
[0026]1、掩膜组件;11、基板;12、掩膜板;
[0027]2、稳定机构;21、一号稳定组件;211、一号驱动设备;212、连接杆;2121、伸缩杆;2122、连接管;213、吸板;2131、连接孔;2132、吸孔;2133、垫圈;214、负压设备;2141、一号伸缩管;2142、二号伸缩管;2143、集气管;215、二号驱动设备;22、二号稳定组件;
[0028]3、间隙传感器。
具体实施方式
[0029]为了使本
的人员更好地理解本技术方案,下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分的实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本技术保护的范围。
[0030]如
技术介绍
的,在曝光机曝光时,安置的掩膜板容易因重力导致下垂本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可提高曝光精度的曝光机,其应用于曝光机,其特征在于,其包括掩膜组件(1),所述掩膜组件(1)的顶面设有稳定机构(2);所述掩膜组件(1)的一侧侧壁上固定设有间隙传感器(3);所述稳定机构(2)包括一号稳定组件(21)与二号稳定组件(22),所述一号稳定组件(21)位于掩膜组件(1)的一侧上方,所述二号稳定组件(22)位于掩膜组件(1)的另一侧上方。2.根据权利要求1所述的可提高曝光精度的曝光机,其特征在于,所述一号稳定组件(21)包括一号驱动设备(211),所述一号驱动设备(211)的驱动端上固定设有连接杆(212),所述连接杆(212)的一端固定设有吸板(213),所述连接杆(212)的一侧固定设有负压设备(214),所述负压设备(214)的一侧固定设有二号驱动设备(215)。3.根据权利要求2所述的可提高曝光精度的曝光机,其特征在于,所述连接杆(212)包括伸缩杆(2121),所述伸缩杆(2121)的一端固定在一号驱动设备(211)的驱动端上,所述伸缩杆(2121)的另一端固定设有连接管(2122),所述连接管(2122)贯通连接在吸板(213)上,所述负压设备(214)的一端贯通连接在连接管(2122)上。4.根据权利要求3所述的可提高曝光精度的曝光机,其特征在于,所述吸板(213)上开设有连接孔(2131),所述连接管(2122)的一端贯通连接连接孔(2131),所述吸板(213)的底面开设有吸孔(2132),所述连接孔(2131)贯通连接吸...

【专利技术属性】
技术研发人员:张杰曾一鑫朱雁
申请(专利权)人:信利光电股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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