一种可再生展青霉素吸附剂及其制备方法技术

技术编号:38939119 阅读:31 留言:0更新日期:2023-09-25 09:39
本发明专利技术公开了一种可再生展青霉素吸附剂及其制备方法,本发明专利技术通过在g

【技术实现步骤摘要】
一种可再生展青霉素吸附剂及其制备方法


[0001]本专利技术涉及一种可再生展青霉素吸附剂及其制备方法。

技术介绍

[0002]展青霉素(PAT)是一种小分子真菌次生代谢产物,广泛存在于各类食品中,尤其是果蔬及其加工产品,具有较强的急、慢性毒性。吸附法是一种操作简单、高效经济的PAT去除方法,无需高昂的设备投资,甚少涉及消费者接受度和法规问题导致的产业化阻力,极具实用价值和商业化潜力。传统大孔树脂、活性炭等吸附剂对果汁品质的负面影响较大且PAT去除效果有限。近年来的多项研究表明,利用PAT的α,β

不饱和羰基与巯基(

SH)的共轭加成能够实现PAT吸附容量和选择性的突破性提升。然而,吸附过程中PAT与

SH的共价结合导致

SH功能化吸附剂难以重复利用,由此带来的成本问题制约了这项技术的产业化应用。
[0003]传统吸附剂对PAT的吸附容量和选择性较低,

SH功能化虽能有效提升PAT吸附性能,但二者之间的结合几乎不可逆,导致吸附剂无法循环利用。目前,二硫苏糖醇是唯一被证实能够实现

SH吸附剂再生的还原剂,然而其价格高昂,且具有一定毒性。

技术实现思路

[0004]针对现有技术中存在的不足,本专利技术提供了一种可再生PAT吸附剂及其制备方法。本专利技术利用光催化材料表面的高级氧化作用,解决巯基功能化PAT吸附剂结合PAT分子后

SH难以再生问题,实现基于
>‑
SH功能化的PAT吸附材料重复利用。
[0005]本专利技术通过在g

C3N4材料表面接枝

SH,提高其对PAT的吸附性能,同时,利用g

C3N4材料在可见光下的光催化效应,通过“避光吸附

光催化再生”过程,实现吸附剂的循环利用,降低吸附剂的成本。本专利技术关键的创新之处在于:1、巯基接枝方式;2、吸附

光催化耦连,实现材料的循环利用。
[0006]本专利技术的技术方案如下:
[0007]一种可再生的g

C3N4‑
SH吸附剂,以尿素为前体物质,通过煅烧形成g

C3N4,再以戊二醛为交联剂,L

半胱氨酸为巯基供体,对g

C3N4进行改性而得。
[0008]一种可再生的g

C3N4‑
SH吸附剂的制备方法,包括如下步骤:
[0009](1)制备g

C3N4[0010]将尿素用铝箔包裹,置于氧化铝坩埚中,然后置于马弗炉中升温至500~600℃,在空气气流下煅烧1~3h,得到g

C3N4;
[0011]优选升温速率为5℃/min;
[0012]优选煅烧的温度为550℃,时间为2h;
[0013](2)巯基接枝
[0014]将步骤(1)所得g

C3N4分散于戊二醛的水溶液中,加入L

半胱氨酸,20~40℃下搅拌反应4~8h,之后反应混合物用去离子水漂洗,烘干,得到g

C3N4‑
SH吸附剂;
[0015]优选g

C3N4与L

半胱氨酸的质量比为100:50~70,特别优选100:60;
[0016]优选戊二醛的水溶液的质量分数为2.5%;戊二醛的水溶液与g

C3N4的体积质量比为3~5:100,mL/mg;
[0017]优选反应的温度为30℃,时间为6h。
[0018]本专利技术所述可再生的g

C3N4‑
SH吸附剂可循环应用于PAT的吸附。
[0019]具体的,g

C3N4‑
SH吸附剂对PAT的吸附反应在避光条件下进行;吸附反应完成后,吸附有PAT的g

C3N4‑
SH在光照下降解,实现吸附剂的再生。
[0020]本专利技术的技术原理如下:
[0021]g

C3N4是一种具有较宽吸收光谱、能在可见光范围发挥作用的光催化材料,可由高碳、氮含量化合物煅烧形成。其表面含有较多氨基,有利于通过戊二醛交联的方法接枝

SH用于PAT分子的高效吸附。吸附后,利用g

C3N4的光催化特性,能够方便、快速的降解PAT和

SH的复合物,使

SH再生,从而实现巯基功能化PAT吸附剂的循环利用。
[0022]本专利技术的有益效果在于:
[0023]1.与目前普通巯基功能化PAT吸附剂相比,具有光催化活性的巯基化g

C3N4不仅具有高吸附容量和选择性,同时解决了一直以来备受关注的循环使用问题,有效降低了吸附剂成本。
[0024]2.尽管已有光催化材料降解PAT的研究,但由于光催化的非选择性高级氧化作用,直接将光催化剂应用于食品中对食品品质的影响极大。本专利技术中,将吸附与光催化技术结合,通过“避光吸附

光催化再生”既避免了直接光催化对食品品质的影响,又解决了普通巯基功能化吸附剂结合PAT后难以脱附并循环使用,造成吸附处理成本较高的问题。
[0025]3.与传统光催化材料TiO2相比,本研究中选择的g

C3N4吸收光谱范围更宽,可以在可见光下实现光催化,反应条件更便利,因而更有利于产业化应用推广。
附图说明
[0026]图1本专利技术工艺流程示意图。
[0027]图2煅烧后的g

C3N4。
[0028]图3展青霉素吸附过程中g

C3N4‑
SH吸附量和巯基含量变化曲线。
[0029]图4为g

C3N4‑
SH对展青霉素的可重复利用性。
具体实施方式
[0030]下面通过具体实施例进一步描述本专利技术,但本专利技术的保护范围并不仅限于此。
[0031]实施例1一种可重复利用的g

C3N4‑
SH展青霉素吸附剂的制备
[0032]制备方法如图1所示,以尿素为前体物质,通过高温煅烧形成淡黄色g

C3N4,然后以戊二醛为交联剂,L

半胱氨酸为巯基供体,对g

C3N4材料进行改性,得到g

C3N4‑
SH展青霉素吸附剂。
[0033]具体制备方法为:
[0034]1)制备g

C3N4材料:称取10g尿素置于带盖的氧化铝坩埚中,用铝箔包裹,然后在马弗炉中以5℃/min的升温速率加热至550℃,在空气气流下保持2h。将煅烧后得到的固体研磨收集,即为g<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可再生的g

C3N4‑
SH吸附剂,其特征在于,所述可再生的g

C3N4‑
SH吸附剂以尿素为前体物质,通过煅烧形成g

C3N4,再以戊二醛为交联剂,L

半胱氨酸为巯基供体,对g

C3N4进行改性而得。2.一种可再生的g

C3N4‑
SH吸附剂的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)制备g

C3N4将尿素用铝箔包裹,置于氧化铝坩埚中,然后置于马弗炉中升温至500~600℃,在空气气流下煅烧1~3h,得到g

C3N4;(2)巯基接枝将步骤(1)所得g

C3N4分散于戊二醛的水溶液中,加入L

半胱氨酸,20~40℃下搅拌反应4~8h,之后反应混合物用去离子水漂洗,烘干,得到g

C3N4‑
SH吸附剂。3.如权利要求2所述的制...

【专利技术属性】
技术研发人员:邱月严佳萍吕飞任灏陈张喜丁玉庭
申请(专利权)人:浙江工业大学
类型:发明
国别省市:

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