本申请涉及一种涂布装置及涂布设备，涂布装置包括：涂布模头，包括内腔，涂布模头上开设与内腔连通的排料口；及清洁组件，可移动地设置于内腔中，用于将内腔中的残留浆料推向排料口；其中，清洁组件的至少部分被配置为沿自身移动方向可伸缩地设置。本申请可以通过清洁组件将内腔中的残留浆料推向排料口并排出内腔；其中，清洁组件的至少部分沿自身移动方向可伸缩地设置，从而能够根据涂布模头的实际应用空间，调整清洁组件在内腔外的占用空间的大小，使得清洁组件能够更好地适配涂布模头的使用环境，减少周围环境对于清洁组件的空间限制，从而能够使清洁组件可以兼容不同规格的涂布模头的清洁需求。模头的清洁需求。模头的清洁需求。
【技术实现步骤摘要】
一种涂布装置及涂布设备
[0001]本申请涉及电池制备
，特别是涉及一种涂布装置及涂布设备。
技术介绍
[0002]在电池制备工艺中，通常需要采用涂布设备对电池单体的极片进行涂布浆料，以形成正极极片及负极极片。然而，当涂布完成之后，涂布模头内部会残留有部分浆料，浆料长时间在涂布模头内部容易发生沉积，一方面，沉积后的浆料容易引起涂布模头内部压力波动，影响极片上浆料涂布的一致性；另一方面，沉积后的浆料容易形成颗粒状，当再次进行涂布作用时，可能会损伤涂布模头，甚至可能堵塞涂布模头。
[0003]因此，在涂布完成之后，需要及时对涂布模头内部的残留浆料进行清理。然而，目前针对涂布模头的清洁装置通常结构复杂，需要占用较大的安装空间，不便于安装及操作。
技术实现思路
[0004]基于此，有必要针对目前涂布模头的清洁装置结构复杂、占用安装空间较大，不便于安装及操作的问题，提供一种涂布装置及涂布设备。
[0005]第一方面，本申请提供一种涂布装置，包括：
[0006]涂布模头，包括用于容置浆料的内腔，涂布模头上开设与内腔连通的排料口；及
[0007]清洁组件，可移动地设置于内腔中，用于将内腔中的残留浆料推向排料口；
[0008]其中，清洁组件的至少部分被配置为沿自身移动方向可伸缩地设置。
[0009]通过上述结构，在通过清洁组件实现对内腔中残留浆料的清洁作用的基础上，可以通过伸缩调节清洁组件在自身移动方向上的长度，减少涂布模头周围环境对于清洁组件的空间限制，从而能够使清洁组件可以兼容不同规格的涂布模头的清洁需求。
[0010]在一些实施例中，清洁组件包括伸缩件及推动件，推动件可移动设置于内腔中；伸缩件与推动件连接且至少部分外露于内腔外；
[0011]其中，伸缩件能够沿移动方向伸缩。
[0012]通过伸缩件与推动件的相互配合，能够实现将内腔中的残留浆料推向排料口，并经由排料口排出内腔，以实现内腔的清洁操作。此外，伸缩件还能够沿推动件的移动方向进行伸缩，从而调节清洁组件在内腔外的占用空间，使其能够兼容不同规格的涂布模头的清洁需求。
[0013]在一些实施例中，伸缩件包括相互套设的至少两根杆体，各杆体之间能够在移动方向上作伸缩运动。
[0014]通过上述结构，能够快速实现伸缩件在移动方向上的伸缩，从而快速调节伸缩杆在移动方向上的长度，结构简单，便于操作。
[0015]在一些实施例中，推动件包括相互连接的连接部与抵推部，连接部用于与伸缩件相连，抵推部用于将内腔中的残留浆料推向排料口；
[0016]其中，推动件还包括设置于连接部与抵推部之间的阻挡件，在与移动方向相交的
平面内，阻挡件的外轮廓与内腔的截面轮廓相匹配。
[0017]通过上述结构，可以使内腔中的浆料排出得更加彻底，提高清洁组件对于内腔的清洁效果。
[0018]在一些实施例中，阻挡件包括沿移动方向间隔设置的至少两个，相邻的阻挡件之间与内腔的腔壁共同形成用于容纳浆料的密封空间。
[0019]通过设置至少两个相互间隔的阻挡件，各阻挡件可以对浆料形成多次阻挡，从而提高对浆料的清洁作用。此外，相邻的阻挡件之间能够形成密封空间，通过密封空间可以减少浆料对于伸缩件的污染。
[0020]在一些实施例中，抵推部背离连接部的一端具有圆弧球面。由此，能够使抵推部在内腔中的移动更加顺畅。
[0021]在一些实施例中，在重力方向上，排料口的底壁高度等于或低于内腔的底壁高度。
[0022]由此，通过推动件将内腔中的浆料推送至排料口位置之后，内腔中的浆料能够从排料口排出得更加彻底，能够减小浆料残留在内腔中排不净的概率，使得内腔中的清洁效果更好。
[0023]在一些实施例中，内腔的腔底壁上还开设有进料口，进料口被配置为能够与进料管道连通或者能够排出内腔中的残留浆料。
[0024]由此，通过进料口与排料口的共同作用，能够进一步提高内腔中残留浆料的清除状态，使清洁效果更好。
[0025]在一些实施例中，涂布装置还包括封堵件，封堵件可拆卸密封连接于排料口。通过设置可拆卸地封堵件，可以实现涂布装置的涂布及清洁，互不影响。
[0026]第二方面，本申请提供一种涂布设备，包括如上所述的涂布装置，涂布装置用于对极片涂布浆料。
[0027]上述涂布装置及涂布设备，当涂布装置完成涂布操作之后，可以通过清洁组件将内腔中的残留浆料推向排料口，以使残留浆料可以从排料口排出内腔，从而保持内腔中的清洁；其中，清洁组件的至少部分沿自身移动方向可伸缩地设置，从而能够根据涂布模头的实际应用空间，调整清洁组件在内腔外的占用空间的大小，使得清洁组件能够更好地适配涂布模头的使用环境，减少周围环境对于清洁组件的空间限制，从而能够使清洁组件可以兼容不同规格的涂布模头的清洁需求。
附图说明
[0028]图1为根据一个或多个实施例的涂布装置的结构示意图。
[0029]图2为根据一个或多个实施例的涂布装置中伸缩件的结构示意图。
[0030]图3为根据一个或多个实施例的涂布装置中推动件的结构示意图。
[0031]图4为根据一个或多个实施例的涂布装置中下模头的俯视图。
[0032]附图标记说明：100、涂布装置；10、涂布模头；20、清洁组件；30、封堵件；40、排料连接件；11、内腔；12、排料口；13、上模头；14、下模头；15、进料口；16、避让口；21、伸缩件；22、推动件；211、杆体；221、连接部；222、抵推部；223、阻挡件；a、移动方向；b、重力方向。
具体实施方式
[0033]为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本申请的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请。但是本申请能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本申请内涵的情况下做类似改进，因此本申请不受下面公开的具体实施例的限制。
[0034]在本申请中，除非另有明确的规定和限定，若有出现第一特征在第二特征“上”或“下”等类似的描述，其含义可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0035]需要说明的是，若元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。若一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。如若存在，本申请所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
[0036]目前本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种涂布装置，其特征在于，包括：涂布模头，包括用于容置浆料的内腔，所述涂布模头上开设与所述内腔连通的排料口；及清洁组件，可移动地设置于所述内腔中，用于将所述内腔中的残留浆料推向所述排料口；其中，所述清洁组件的至少部分被配置为沿自身移动方向可伸缩地设置。2.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，所述清洁组件包括伸缩件及推动件，所述推动件可移动设置于所述内腔中；所述伸缩件与所述推动件连接且至少部分外露于所述内腔外；其中，所述伸缩件能够沿所述移动方向伸缩。3.根据权利要求2所述的涂布装置，其特征在于，所述伸缩件包括相互套设的至少两根杆体，各所述杆体之间能够在所述移动方向上作伸缩运动。4.根据权利要求2所述的涂布装置，其特征在于，所述推动件包括相互连接的连接部与抵推部，所述连接部用于与所述伸缩件相连，所述抵推部用于将所述内腔中的残留浆料推向所述排料口；其中，所述推动件还包括设置于所述连接部与所述抵推部之间的阻挡件，在与所述移...
【专利技术属性】
技术研发人员：张亮，陈胜东，钟光成，宋雷，
申请(专利权)人：宁德时代新能源科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。