曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够实现微细图案成形的曝光装置。本发明专利技术的曝光装置具备射出曝光用光的光源、具有多个曝光用元件且配置在曝光用光的至少一部分的光路上的曝光图案形成装置、以及与曝光图案形成装置电连接的控制单元，控制单元通过将各曝光用元件切换成第1状态或者第2状态，对经由各曝光用元件的曝光用光是否照射至工件进行控制，使经由多个曝光用元件中的第1状态的第一曝光用元件的曝光用光的一部分光、以及经由多个曝光用元件中的与第一曝光用元件不同的第1状态的第二曝光用元件的曝光用光的一部分光伴随工件与曝光图案形成装置的相对移动，依次照射至预定曝光区域的规定区域，由此使规定区域中的曝光量累计。由此使规定区域中的曝光量累计。由此使规定区域中的曝光量累计。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】曝光装置


[0001]本专利技术涉及曝光装置的


技术介绍

[0002]光掩模例如用于制造显示装置(例如，液晶显示器或者有机EL显示器等)的显示器面板或半导体设备的集成电路。作为一例，已知为了制造光掩模，在工件形成期望的曝光图案的曝光装置。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：美国专利第10522329号
[0006]专利文献2：美国专利第7170584号
[0007]专利文献3：美国专利第6778257号

技术实现思路

[0008]本专利技术的曝光装置具备：射出曝光用光的光源；配置在曝光用光的至少一部分的光路上的曝光图案形成装置；以及与曝光图案形成装置电连接的控制单元，曝光图案形成装置具备多个曝光用元件，多个曝光用元件的至少一个曝光用元件用于向工件的预定曝光区域照射曝光用光的至少一部分光，控制单元通过将各曝光用元件切换成第1状态或者第2状态，对经由各曝光用元件后的曝光用光是否照射至工件进行控制，使经由多个曝光用元件中的第1状态的第一曝光用元件后的曝光用光的一部分光、以及经由多个曝光用元件中的与第一曝光用元件不同的第1状态的第二曝光用元件后的曝光用光的一部分光伴随工件与曝光图案形成装置的相对移动依次照射至预定曝光区域的规定区域，由此使规定区域中的曝光量累计。
[0009]在本专利技术的实施方式中，上述多个曝光用元件呈二维排列，第一曝光用元件与第二曝光用元件为多个曝光用元件中的同一列的彼此不同的曝光用元件。/>[0010]在本专利技术的实施方式中，上述控制单元基于伴随工件与曝光图案形成装置的相对移动依次向预定曝光区域的规定区域照射曝光用光的一部分光的第1状态的曝光用元件的数量，对规定区域中的累计曝光量进行控制。
[0011]在本专利技术的实施方式中，上述控制单元基于第1状态的曝光用元件的数量，对规定区域中的累计曝光时间进行控制。
[0012]在本专利技术的实施方式中，上述控制单元通过对规定区域中的累计曝光量进行控制，对经过基于向规定区域的曝光用光进行的曝光工序而形成在规定区域的图案的宽度进行控制。
[0013]在本专利技术的实施方式中，经由上述曝光用元件的曝光用光的一部分光向预定曝光区域照射的区域中的中心部分的光量比照射的区域中的周边部分的光量大。
[0014]在本专利技术的实施方式中，上述曝光图案形成装置为数字微镜器件，曝光用元件为
具有将曝光用光的一部分光反射的反射面的镜元件。
[0015]在本专利技术的实施方式中，上述控制单元一边使工件与曝光图案形成装置相对移动，一边使经由第1状态的第一曝光用元件后的曝光用光的一部分光、以及经由第1状态的第二曝光用元件后的曝光用光的一部分光依次照射至预定曝光区域的规定区域，由此使规定区域中的曝光量累计。
[0016]在本专利技术的实施方式中，还具备：将来自上述曝光图案形成装置的曝光用光的至少一部分光准直的准直光学系统；使从准直光学系统射出的曝光用光的至少一部分光朝向工件聚光的物镜光学系统；以及驱动装置，其使准直光学系统的一部分光学构件沿着物镜光学系统的光轴交叉的轴位移。
[0017]在本专利技术的实施方式中，上述控制单元使经由第1状态的第一曝光用元件后的曝光用光的一部分光、以及经由第1状态的第二曝光用元件后的曝光用光的一部分光伴随工件与曝光图案形成装置沿着主扫描轴的相对移动依次照射至规定区域，由此使规定区域中的曝光量累计，还以使经由多个曝光用元件的至少一个曝光用元件后的曝光用光的至少一部分光照射至相对于规定区域沿着与主扫描轴交叉的副扫描轴的预定曝光区域的一部分区域的方式，控制驱动装置以使一部分光学构件沿着光轴交叉的轴位移。
[0018]在本专利技术的实施方式中，上述曝光图案形成装置的多个曝光用元件呈二维排列，驱动装置以利用特定照射间隔使曝光用光的至少一部分光的照射位置位移的方式沿着与光轴交叉的轴使一部分光学构件位移，其中，特定照射间隔是指，比与呈二维排列的彼此相邻的曝光用元件的间隔对应的、预定曝光区域中的曝光用光的至少一部分光的照射间隔小的照射间隔。
[0019]在本专利技术的实施方式中，上述副扫描轴为与主扫描轴正交的轴，控制单元使沿着与光轴交叉的轴的一部分光学构件的位移、以及沿着主扫描轴的工件与曝光图案形成装置的相对移动分别反复进行，并且使经由彼此不同的多个第1状态的曝光用元件各自的曝光用光的至少一部分光伴随工件与曝光图案形成装置的相对移动依次向预定曝光区域中的多个区域的每一个照射，由此，在多个区域的每一个中，通过经由彼此不同的多个第1状态的曝光用元件后的光的照射使曝光量累计，沿着与主扫描轴和副扫描轴交叉的轴形成曝光区域。
[0020]在本专利技术的实施方式中，上述控制单元使工件与曝光图案形成装置沿着主扫描轴相对移动，还使所述工件与所述曝光图案形成装置沿着与所述主扫描轴交叉的副扫描轴相对移动，使经由彼此不同的多个第1状态的曝光用元件各自的曝光用光的至少一部分光伴随工件与曝光图案形成装置沿着副扫描轴的相对移动依次照射至相对于规定区域沿着副扫描轴的预定曝光区域的一部分区域，由此使曝光量累计。
[0021]在本专利技术的实施方式中，上述副扫描轴为与主扫描轴正交的轴，控制单元使沿着主扫描轴的工件与曝光图案形成装置的相对移动、以及沿着副扫描轴的工件与曝光图案形成装置的相对移动分别反复进行，并且使经由彼此不同的多个第1状态的曝光用元件各自后的曝光用光的至少一部分光伴随工件与曝光图案形成装置的相对移动依次向预定曝光区域中的多个区域的每一个照射，由此，在多个区域的每一个中，通过经由彼此不同的多个第1状态的曝光用元件的光的照射使曝光量累计，沿着与主扫描轴和副扫描轴交叉的轴形成曝光区域。
[0022]在本专利技术的实施方式中，上述控制单元使工件与曝光图案形成装置沿着主扫描轴相对移动，使经由彼此不同的多个第1状态的曝光用元件各自后的曝光用光的至少一部分光伴随工件与曝光图案形成装置的相对移动依次照射至在预定曝光区域中沿着主扫描轴与规定区域相邻的区域，由此使沿着主扫描轴与规定区域相邻的区域中的曝光量累计。
[0023]在本专利技术的实施方式中，上述控制单元通过对规定区域和沿着主扫描轴与规定区域相邻的区域的累计曝光量进行控制，对经过基于向沿着主扫描轴与规定区域相邻的区域照射的曝光用光进行的曝光工序而形成在规定区域形成的图案与形成在沿着主扫描轴与规定区域相邻的区域的图案在主扫描轴上的间隔进行控制。
[0024]在本专利技术的实施方式中，上述控制单元一边使工件与曝光图案形成装置相对移动，一边使经由彼此不同的多个第1状态的曝光用元件各自后的曝光用光的至少一部分光依次照射至沿着主扫描轴与规定区域相邻的区域，由此使沿着主扫描轴与规定区域相邻的区域中的曝光量累计。
[0025]在本专利技术的实施方式中，上述控制单元使工件与曝光图案形成装置沿着主扫描轴相对移动，使经由彼此不同的多个第1状态的曝光用元件各自后的曝光用光的至少一部分光伴随工件与曝光图案形成装置的相对移动依次向预定曝光区域中的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种曝光装置，其具备：射出曝光用光的光源；配置在所述曝光用光的至少一部分的光路上的曝光图案形成装置；以及与所述曝光图案形成装置电连接的控制单元，所述曝光图案形成装置具备多个曝光用元件，所述多个曝光用元件的至少一个曝光用元件用于使所述曝光用光的至少一部分光照射至工件的预定曝光区域，所述控制单元通过将各所述曝光用元件切换成第1状态或者第2状态，对经由各所述曝光用元件后的所述曝光用光是否照射至所述工件进行控制，所述控制单元使经由所述多个曝光用元件中的所述第1状态的第一曝光用元件后的所述曝光用光的一部分光、以及经由所述多个曝光用元件中的与所述第一曝光用元件不同的所述第1状态的第二曝光用元件后的所述曝光用光的一部分光伴随所述工件与所述曝光图案形成装置的相对移动依次照射至所述预定曝光区域的规定区域，由此使所述规定区域中的曝光量累计。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述多个曝光用元件呈二维排列，所述第一曝光用元件与所述第二曝光用元件为所述多个曝光用元件中的同一列的彼此不同的曝光用元件。3.根据权利要求1或者2所述的曝光装置，其中，所述控制单元基于伴随所述工件与所述曝光图案形成装置的相对移动依次向所述预定曝光区域的所述规定区域照射所述曝光用光的一部分光的所述第1状态的曝光用元件的数量，控制所述规定区域中的累计曝光量。4.根据权利要求3所述的曝光装置，其中，所述控制单元基于所述第1状态的曝光用元件的数量，控制所述规定区域中的累计曝光时间。5.根据权利要求1～4中任一项所述的曝光装置，其中，所述控制单元通过控制所述规定区域中的累计曝光量，对经过基于向所述规定区域照射的所述曝光用光进行的曝光工序而在所述规定区域形成的图案的宽度进行控制。6.根据权利要求1～5中任一项所述的曝光装置，其中，经由所述曝光用元件后的所述曝光用光的一部分光向所述预定曝光区域照射的区域中的中心部分的光量比所照射的区域中的周边部分的光量大。7.根据权利要求6所述的曝光装置，其中，所述曝光图案形成装置为数字微镜器件，所述曝光用元件为具有将所述曝光用光的一部分光反射的反射面的镜元件。8.根据权利要求1～7中任一项所述的曝光装置，其中，所述控制单元一边使所述工件与所述曝光图案形成装置相对移动，一边使经由所述第1状态的第一曝光用元件后的所述曝光用光的一部分光、以及经由所述第1状态的第二曝光用元件后的所述曝光用光的一部分光依次照射至所述预定曝光区域的所述规定区域，由此使所述规定区域中的曝光量累计。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的曝光装置，其还具备：将来自所述曝光图案形成装置的所述曝光用光的至少一部分光准直的准直光学系统；使从所述准直光学系统射出的所述曝光用光的至少一部分光朝向所述工件聚光的物镜光学系统；以及驱动装置，其使所述准直光学系统的一部分光学构件沿着与所述物镜光学系统的光轴交叉的轴位移。10.根据权利要求9所述的曝光装置，其中，所述控制单元使经由所述第1状态的所述第一曝光用元件后的所述曝光用光的一部分光、以及经由所述第1状态的所述第二曝光用元件后的所述曝光用光的一部分光伴随所述工件与所述曝光图案形成装置沿着主扫描轴的相对移动依次照射至所述规定区域，由此使所述规定区域中的曝光量累计，所述控制单元还以使经由所述多个曝光用元件的至少一个曝光用元件后的所述曝光用光的至少一部分光照射至相对于所述规定区域沿着与所述主扫描轴交叉的副扫描轴的所述预定曝光区域的一部分区域的方式，控制所述驱动装置以使所述一部分光学构件沿着与所述光轴交叉的轴位移。11.根据权利要求9或者10所述的曝光装置，其中，所述曝光图案形成装置的所述多个曝光用元件呈二维排列，所述驱动装置以利用特定照射间隔使所述曝光用光的至少一部分光的照射位置位移的方式沿着与所述光轴交叉的轴使所述一部分光学构件位移，所述特定照射间隔是指，比与呈二维排列的彼此相邻的曝光用元件的间隔对应的、所述预定曝光区域中的所述曝光用光的至少一部分光的照射间隔小的照射间隔。12.根据权利要求9～11中任一项所述的曝光装置，其中，所述副扫描轴为与所述主扫描轴正交的轴，所述控制单元使沿着与所述光轴交叉的轴的所述一部分光学构件的位移、以及沿着所述主扫描轴的所述工件与所述曝光图案形成装置的相对移动分别反复进行，并且使经由彼此不同的多个所述第1状态的所述曝光用元件各自后的所述曝光用光的至少一部分光伴随所述工件与所述曝光图案形成装置的所述相对移动依次向所述预定曝光区域中的多个区域的每一个照射，由此在所述多个区域的每一个中，通过经由彼此不同的多个所述第1状态的所述曝光用元件后的所述光的照射使曝光量累计，沿着与所述主扫描轴和所述副扫描轴交叉的轴形成曝光区域。13.根据权利要求1～8中任一项所述的曝光装置，其中，所述控制单元使所述工件与所述曝光图案形成装置沿着主扫描轴相对移动，所述控制单元还使所述工件与所述曝光图案形成装置沿着与所述主扫描轴交叉的副扫描轴相对移动，所述控制单元使经由彼此不同的多个所述第1状态的所述曝光用元件各自后的所述曝光用光的至少一部分光伴随所述工件与所述曝光图案形成装置的沿着所述副扫描轴的相对移动依次照射至相对于所述规定区域沿着所述副扫描轴的所述预定曝光区域的一部分区域，由此使曝光量累计。14.根据权利要求12所述的曝光装置，其中，
所述副扫描轴为与所述主扫描轴正交的轴，所述控制单元使沿着所述主扫描轴的所述工件与所述曝光图案形成装置的相对移动、和沿着所述副扫描轴的所述工件与所述曝光图案形成装置的相对移动分别反复进行，并且使经由彼此不同的多个所述第1状态的所述曝光用元件各自后的所述曝光用光的至少一部分光伴随所述工件与所述曝光图案形成装置的所述相对移动依次向所述预定曝光区域中的多个区域的每一个照射，由此在所述多个区域的每一个中，通过经由彼此不同的多个所述第1状态的所述曝光用元件后的所述光的照射使曝光量累计，沿着与所述主扫描轴和所述副扫描轴交叉的轴形成曝光区域。15.根据权利要求1～14中任一项所述的曝光装置，其中，所述控制单元使所述工件与所述曝光图案形成装置沿着主扫描轴相对移动，所述控制单元使经由彼此不同的多个所述第1状态的所述曝光用元件各自后的所述曝光用光的至少一部分光伴随所述工件与所述曝光图案形成装置的所述相对移动依次照射至在所述预定曝光区域中沿着所述主扫描轴与所述规定区域相邻的区域，由此使沿着所述主扫描轴与所述规定区域相邻的区域中的曝光量累计。16.根据权利要求15所述的曝光装置，其中，所述控制单元通过对所述规定区域和沿着所述主扫描轴与所述规定区域相邻的区域的累计曝光量进行控制，对经过基于向沿着所述主扫描轴与所述规定区域相邻的区域照射的所述曝光用光进行的曝光工序而形成在所述规定区域的图案和形成在沿...

【专利技术属性】
技术研发人员：村上晃一，滝上耕太郎，阿部哲也，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：