运送装置、运送方法及用于制造半导体装置的方法制造方法及图纸

技术编号:38861540 阅读:24 留言:0更新日期:2023-09-17 10:03
根据一实施例,一种构造成运送基板(100)以便用激光照射基板(100)以形成线状照射区域(15a)的运送装置包括:悬浮单元(10),其构造成使所述基板在所述基板悬浮单元的上表面上方悬浮;保持机构(12),其构造成保持基板(100);以及移动机构(13),其构造成在从垂直于线状激光的长度方向的方向倾斜的方向上移动保持机构(12),以便改变激光在基板(100)中的照射位置。置。置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】运送装置、运送方法及用于制造半导体装置的方法


[0001]本公开涉及一种运送装置、一种运送方法和一种用于制造半导体装置的方法。

技术介绍

[0002]专利文献1公开了一种用于形成多晶硅薄膜的激光退火装置。在专利文献1中,投影透镜将激光聚焦在基板上,从而在其中形成线状照射区域。结果是,非晶硅膜结晶并变成多晶硅膜。
[0003]在专利文献1中,运送单元在基板被悬浮单元悬浮、即浮动的状态下运送基板。此外,基板在悬浮单元中的相同位置处被运入和运出所述悬浮单元。运送单元沿着悬浮单元的每一侧运送基板。此外,基板在悬浮单元上环绕移动两次(即,被运送以沿着悬浮单元的四个侧面环绕移动两次),使得基板的基本上整个表面被激光照射。
[0004]引用列表
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本未审查专利申请公开号2018-64048。

技术实现思路

[0007]在这种用于激光照射装置的运送装置中,期望适当地运送基板,从而以高速和稳定的方式执行激光照射过程。
[0008]根据本说明书和附图中的描述,要解本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种运送装置,所述运送装置构造成运送基板以便用线状激光照射所述基板,所述运送装置包括:基板悬浮单元,所述基板悬浮单元构造成使所述基板在所述基板悬浮单元的上表面上方悬浮;保持机构,所述保持机构构造成保持所述基板;以及移动机构,所述移动机构构造成在俯视观察时在从垂直于所述线状激光的长度方向的方向倾斜的方向上移动所述保持机构,以改变所述激光在所述基板中的照射位置。2.根据权利要求1所述的运送装置,其中,所述保持机构包括沿着运送方向排列的多个吸附单元,并且所述保持机构通过使所述多个吸附单元吸附所述基板的下表面来保持所述基板,并且为每个所述吸附单元设有阀。3.根据权利要求1或2所述的运送装置,其中,所述保持机构的所述吸附单元由金属材料制成,并且在所述吸附单元的上表面上形成有吸附槽。4.根据权利要求1至3中任一项所述的运送装置,其中,在俯视观察时,垂直于所述线状激光的长度方向的方向与所述运送方向形成的角度大于0
°
且不大于5
°
。5.根据权利要求1至4中任一项所述的运送装置,其中,所述基板是矩形的,并且在俯视观察时,所述运送方向从所述基板的四个边缘倾斜。6.根据权利要求1至5中任一项所述的运送装置,其中,在俯视观察时,垂直于所述线状激光的长度方向的方向与所述基板的边缘之间的角度大于0
°
且不大于5
°
。7.根据权利要求1至6中任一项所述的运送装置,其中,所述运送装置还包括旋转机构,所述旋转机构构造成使设置在所述基板悬浮单元上方的所述基板旋转。8.根据权利要求1至7中任一项所述的运送装置,其中,在俯视观察时,在通过以所述基板的边缘从垂直于所述线状激光的长度方向的方向倾斜的状态运送所述基板来用所述激光照射所述基板之后,通过旋转设置在所述基板悬浮单元上方的所述基板来使所述基板的边缘与垂直于所述线状激光的长度方向的方向平行。9.根据权利要求1至8中任一项所述的运送装置,其中,所述运送装置还包括狭缝机构,所述狭缝机构构造成在所述长度方向上调节所述激光的照射位置。10.一种运送装置,所述运送装置构造成运送基板以便用线状激光照射所述基板,所述运送装置包括:设置在所述基板下方的第一基板悬浮单元,所述第一基板悬浮单元构造成使所述基板悬浮,并且在俯视观察时设置在所述基板的从所述基板的中心部分延伸到所述基板的一端部的一部分处;设置在所述基板下方的第二基板悬浮单元,所述第二基板悬浮单元构造成使所述基板悬浮,并且在俯视观察时设置在所述基板的从所述基板的中心部分延伸到所述基板的另一端部的另一部分处;保持机构,所述保持机构设置在所述基板的中心部分下方,所述保持机构构造成通过吸附所述基板来保持所述基板;以及
移动机构,所述移动机构构造成沿着所述第一基板悬浮单元和第二基板悬浮单元之间的间隙移动所述保持机构,以便相对于所述激光的照射位置移动所述基板。11.一种用于运送基板以便用线状激光照射所述基板的运送方法,所述运送方法包括以下步骤:(a)通过悬浮单元使所述基板在所述悬浮单元的上表面上方悬浮;(b)通过保持机构保持所述基板;以及(c)在俯视观察时在从垂直于所述线状激光的长度方向的方向倾斜的方向上移动所述保持机构,以改变所述激光在所述基板中的照射位置。12.根据权利要求11所述的运送方法,其中,所述保持机构包括沿着运送方向排列的多个吸附单元,并且所述保持机构通过使所述多个吸附单元吸附所述基板的下表面来保持所述基板,并且为每个所述吸附单元设有阀。13.根据权利要求11或12所述的运送方法,其中,所述保持机构的所述吸附单元由金属材料制成,并且在所述吸附单元的上表面上形成有吸附槽。14.根据权利要求11至13中任一项所述的运送方法,其中,在俯视观察时,垂直于所述线状激光的长度方向的方向与所述运送方向形成的角度大于0
°
且不大于5
°
。15.根据权利要求11至14中任一项所述的运送方法,其中,所述基板是矩形的,并且在俯视观察时,所述运送方向从所述基板的四个边缘倾斜。16.根据权利要求11至15中任一项所述的运送方法,其中,在俯视观察时,垂直于所述线状激光的长度方向的方向与所述基板的边缘之间的角度大于0
°
且不大于5
°
。17.根据权利要求11至16中任一项所述的运送方法,其中,在用所述激光照射之...

【专利技术属性】
技术研发人员:山口芳广藤贵洋今村博亮
申请(专利权)人:JSW阿克迪纳系统有限公司
类型:发明
国别省市:

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