一种红外焦平面器件的不稳定像元测试方法技术

本发明专利技术公开了一种红外焦平面器件的不稳定像元测试方法，包括：得到面阵裸电路背景电压；得到面阵均压，得到面阵均压时间序列拟合曲线；得到面阵每个像元时间序列拟合曲线；计算得到每个像元电压拟合标准差；计算得到每个像元拟合差标准差；计算得到每个像元电流谱密度；由每个像元拟合标准差，判断单个像元的稳定性；由每个像元拟合差标准差，判断单个像元的稳定性；由每个像元电流谱密度，判断单个像元的稳定性，本发明专利技术从像元电压Ue时间序列的时域和频域出发，通过像元的时间序列，计算：拟合STD、拟合差STD、电流谱密度三类判据，从而准确的判断不稳定像元。的判断不稳定像元。的判断不稳定像元。

【技术实现步骤摘要】
一种红外焦平面器件的不稳定像元测试方法


[0001]本专利技术涉及红外探测器测试
，尤其涉及一种红外焦平面器件的不稳定像元测试方法。

技术介绍

[0002]红外焦平面器件(infrared Focal Plane Arrays)属于红外光学系统焦平面上，可使整个视场内景物的每一个像元与一个敏感元相对应的多元平面阵列红外探测器件。目前，拥有巨大的市场潜力和应用前景。
[0003]红外探测器的不稳定像元对红外探测图像质量有非常大的影响。探测器通过进行两点校正，生成K、B表(Y(ij)＝K(ij)*X(ij)+B(ij))，其中，Y(ij)表示校正后的图像中第i行第j列的像元；K(ij)表示第i行第j列的像元对应的校正系数；X(ij)表示原始图像中第i行第j列的的像元；B(ij))表示第i行第j列的像元对应的补偿量。对于面源黑体均匀面，探测器在做两点校正生成K、B表(y＝Kx+B)，对黑体均匀面，Y图发生非均匀波动，根本原因是因为像元电流Ie发生了变化,进而X图的像元电压Ue发生波动，Ue波动较大的即为不稳定像元(UeUNP)，参见图1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种红外焦平面器件的不稳定像元测试方法，其特征在于，包括：步骤S1，将探测器设置为与面源黑体距离一预设距离，并将所述面源黑体设置为一预设温度；步骤S2，关闭Gpol，设定最小积分时间，连续采集多张图像数据，并生成每次采集的红外探测图像，然后对面阵每个像元计算均值电压，得到面阵裸电路背景电压；步骤S3，设定Gpol，设定积分时间，连续采集多张图像数据，并平均生成每一次采集的红外探测图像，然后得到面阵均压，对面阵均压时间序列进行曲线拟合，得到面阵均压时间序列拟合曲线；并且对每个像元电压时间序列进行曲线拟合，得到面阵每个像元时间序列拟合曲线；步骤S4，由面阵每个像元电压时间序列及面阵每个像元时间序列拟合曲线，计算得到每个像元电压拟合标准差；步骤S5，由面阵每个像元时间序列拟合曲线，面阵均压时间序列拟合曲线，面阵每个像元时间序列拟合曲线均值及面阵均压时间序列拟合曲线均值，计算得到每个像元拟合差标准差；步骤S6，由面阵裸电路背景电压，面阵每个像元电压时间序列，像元积分电容及像元有效积分时间，计算得到每个像元电流谱密度；步骤S7，由每个像元拟合标准差，判断单个像元的稳定性；由每个像元拟合差标准差，判断单个像元的稳定性；由每个像元电流谱密度，判断单个像元的稳定性。2.根据权利要求1所述的红外焦平面器件的不稳定像元测试方法，其特征在于，所述步骤S1中，所述预设距离不大于1cm。3.根据权利要求1所述的红外焦平面器件的不稳定像元测试方法，其特征在于，所述步骤S1中，所述预设温度为15～40℃。4.根据权利要求1所述的红外焦平面器件的不稳定像元测试方法，其特征在于，所述步骤S2中，所述采集多张图像数据时的阱深为35％～65％。5.根据权利要求1所述的红外焦平面器件的不稳定像元测试方法，其特征在于，所述步骤S4中包括，求面阵每个像元电压时间序列与面阵每个像元时间序列拟合曲线序列...

【专利技术属性】
技术研发人员：谭必松，邱伟强，陈天晴，杜宇，毛剑宏，
申请(专利权)人：浙江珏芯微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：