【技术实现步骤摘要】
太阳能电池的制备方法及太阳能电池、光伏组件
[0001]本申请实施例涉及太阳能电池领域,特别涉及一种太阳能电池的制备方法及太阳能电池、光伏组件。
技术介绍
[0002]太阳能电池具有较好的光电转换能力,在太阳能电池中,需要在硅片表面进行扩散工艺以制备p
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n结,目前的太阳能电池中,通常会在硅片表面进行硼扩散工艺以在硅片表面形成发射极。发射极一方面与硅片形成p
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n结,另一方面还与金属电极电连接,以使发射极中移动的载流子可以被金属电极收集。因此,发射极对太阳能电池的光电转换性能影响较大。
[0003]然而,采用目前的方法形成发射极后,最终制备得到的太阳能电池的光电转换性能较低。
技术实现思路
[0004]本申请实施例提供一种太阳能电池的制备方法及太阳能电池、光伏组件,至少有利于提高太阳能电池的光电转换性能。
[0005]本申请实施例提供一种太阳能电池的制备方法,包括:提供基底;在基底第一表面形成第一薄膜层,第一薄膜层中含有P型掺杂源,且第一薄膜层中还包括:硼元素、氧元素、硅元素、氯元素、氮元素以及碳元素中的至少一种;采用掺杂工艺将预设区域第一薄膜层中的P型掺杂源扩散至基底内,以在预设区域的基底内部形成第一发射极,基底露出第一发射极的顶面;采用氧化工艺在基底的第一表面形成第二薄膜层,且第二薄膜层的厚度大于第一薄膜层的厚度,以在预设区域以外的基底内形成第二发射极,基底露出第二发射极的顶面,第二发射极顶面的掺杂浓度小于或等于第一发射极顶面的掺杂浓度,且在垂直 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括:提供基底;在所述基底第一表面形成第一薄膜层,所述第一薄膜层中含有P型掺杂源,且所述第一薄膜层中还包括:硼元素、氧元素、硅元素、氯元素、氮元素以及碳元素中的至少一种;采用掺杂工艺将预设区域的所述第一薄膜层中的P型掺杂源扩散至所述基底内,以在所述预设区域的所述基底内部形成第一发射极,所述基底露出所述第一发射极的顶面;采用氧化工艺在所述基底的第一表面形成第二薄膜层,且所述第二薄膜层的厚度大于所述第一薄膜层的厚度,以在所述预设区域以外的所述基底内形成第二发射极,所述基底露出所述第二发射极的顶面,所述第二发射极顶面的掺杂浓度小于或等于所述第一发射极顶面的掺杂浓度,且在垂直于所述基底第一表面的方向上,所述第二发射极的结深小于或等于所述第一发射极的结深;在所述基底的第二表面且在远离所述基底的方向上依次形成隧穿层以及掺杂导电层。2.根据权利要求1所述的太阳能电池的制备方法,其特征在于,形成第一薄膜层的方法包括:在所述基底的第一表面沉积P型掺杂源,所述P型掺杂源为含三价元素的单质或化合物;沉积所述P型掺杂源的时间为10s
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2000s,温度为500℃~1200℃。3.根据权利要求2所述的太阳能电池的制备方法,其特征在于,在形成所述第一发射极的步骤之后,且在形成所述第二薄膜层的步骤之前,还包括:对所述基底进行清洗步骤,以去除所述第一薄膜层。4.根据权利要求3所述的太阳能电池的制备方法,其特征在于,形成所述第二薄膜层的方法包括:通入第一流量的氧气,对所述基底的第一表面进行氧化步骤,所述氧化步骤的温度为400℃
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1500℃,时间为300s
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10800s。5.根据权利要求4所述的太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述第一流量为100sccm
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80000sccm。6.根据权利要求1或5所述的太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述第一薄膜层的厚度为1nm
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300nm,所述第二薄膜层的厚度为10nm
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500nm。7.根据权利要求1所述的太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述预设区域为待形成金属电极区域,还包括:形成第一金属电极,所述第一金属电极与所述第一发射极电连接。8.根据权利要求1所述的太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述第一发射极顶面的掺杂浓度为1E
15
~9E
20
atom/cm3,所述第二发射极顶面的掺杂浓度为1E
14
~9E
19
atom/cm3。9.根据权利要求8所述的太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述第一发射极顶面与所述第一发射极底面的掺杂浓度差为1E
16
atom/cm3~5E
20
atom/cm3,所述第二发射极顶面与所述第二发射极底面的浓度差为1E
16
atom/cm3~1E
20
atom/cm3。10.根据权利要求1或9所述的太阳...
【专利技术属性】
技术研发人员:王利朋,沈梦超,杨忠翔,王钊,杨洁,张昕宇,
申请(专利权)人:晶科能源股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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