本发明专利技术涉及陶瓷加工技术领域，为一种陶瓷正反面喷釉装置，包括链条输送机，链条输送机的输送带呈回字形，由上层输送带和下层输送带一体成型组成，输送带间隔布置有若干根辊筒，相邻的两根辊筒之间设置有喷涂工位和/或空白工位，喷涂工位和空白工位沿输送带的传输方向交错布置，上层输送带的上方或下层输送带的下方设有用于喷涂上釉的喷涂机构。本发明专利技术喷涂上釉时，陶瓷器皿位于上层输送带时正面朝上，陶瓷器皿位于下层输送带时反面朝上，且因为喷涂工位和空白工位交错布置，所以喷涂机构能够同时对陶瓷器皿的正反面进行喷涂上釉，避免人工翻转陶瓷器皿，简化上釉工序，提高生产效率和降低成本。降低成本。降低成本。
【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷正反面喷釉装置
[0001]本专利技术涉及陶瓷加工
，更具体地说是指一种陶瓷正反面喷釉装置。
技术介绍
[0002]陶瓷是陶器和瓷器的统称，不仅是我国一种传统的工艺美术品，同时也是不可或缺的日常生活用品，如陶瓷碟、碗、盘等。喷釉，则是在烧制好的陶瓷毛坯上喷涂一层玻璃质的釉层，主要起到保护和装饰作用。喷釉过程中，对于一些需要正反面均上釉的陶瓷器皿而言，如陶瓷碟、碗、盘，通常是先对陶瓷器皿的正面或反面喷涂上釉，等其干燥后，由人工翻转陶瓷器皿，再回送喷涂，对陶瓷器皿的另一面进行喷涂上釉。该上釉方式，工序繁琐，耗时长，且需投入大量人力资源，成本高。
技术实现思路
[0003]本专利技术提供一种陶瓷正反面喷釉装置，以解决现有陶瓷器皿正反面喷涂上釉工序繁琐，耗时长，且需投入大量人力资源，成本高等问题。
[0004]本专利技术采用如下技术方案：一种陶瓷正反面喷釉装置，包括链条输送机，所述链条输送机的输送带呈回字形，由上层输送带和下层输送带一体成型组成，所述输送带间隔布置有若干根辊筒，相邻的两根辊筒之间设置有用于挟持陶瓷器皿的喷涂工位和/或没有挟持陶瓷器皿的空白工位，所述喷涂工位和空白工位沿输送带的传输方向交错布置，所述上层输送带的上方或下层输送带的下方设有用于喷涂上釉的喷涂机构。
[0005]进一步地，所述喷涂工位包括架设于相邻的两根辊筒之间的底框，所述底框上可拆卸地设有用于挟持固定所述陶瓷器皿的挟持座。
[0006]进一步地，所述输送带沿传输方向依次划分有卸料区、上料区和喷涂区，所述喷涂区位于输送带中部，所述喷涂机构设置于所述喷涂区上方。
[0007]进一步地，所述喷涂机构包括喷涂座，所述喷涂座连接有一输料管，喷涂座上设有若干个用于喷涂上釉的喷头，所述喷头通过喷涂座与输料管连通，所述喷涂区内每个喷涂工位和空白工位上方对应设有至少一个喷头。
[0008]进一步地，每个喷头连接有用于驱动喷头朝输送带方向做上下往返运动的驱动机构。
[0009]进一步地，所述喷头通过一伸缩管与所述喷涂座连接。
[0010]进一步地，所述喷头沿输送带的传输方向呈波浪状起伏布置于喷涂座上，所述驱动机构控制喷头随着输送带传输做上下往返运动，使得喷涂座上波浪状起伏布置的喷头，其波峰位置的喷头位于喷涂区上层输送带的空白工位上方，其波谷位置的喷头位于喷涂区上层输送带的喷涂工位上方。
[0011]进一步地，还包括第一烘干区和第二烘干区，所述第一烘干区设置于所述上层输送带上，且位于所述喷涂区的后方，用于烘干上层输送带上的陶瓷器皿，所述第二烘干区设
置于所述下层输送带上，且位于所述喷涂区的前方，用于烘干下层输送带上的陶瓷器皿。
[0012]进一步地，还包括热风烘干机构，所述热风烘干机构包括用于吹送热风的第一出风罩和第二出风罩，所述第一出风罩和第二出风罩分别对应设置于第一烘干区和第二烘干区的上方。
[0013]由上述对本专利技术结构的描述可知，和现有技术相比，本专利技术具有如下优点：1、 本专利技术喷涂上釉时，由于输送带为回字型输送结构，陶瓷器皿位于上层输送带时，陶瓷器皿正面朝上，陶瓷器皿位于下层输送带时，陶瓷器皿反面朝上，且喷涂工位和空白工位沿输送带的传输方向交错布置；因此，当喷涂机构开始喷涂时，能够对上层输送带的陶瓷器皿的正面进行喷涂上釉，同时又通过空白工位对下层输送带的陶瓷器皿的反面进行喷涂上釉，避免人工翻转陶瓷器皿正反面，简化上釉工序，提高生产效率和降低成本。
[0014]2、 本专利技术的喷头连接有用于驱动喷头朝输送带方向做上下往返运动的驱动机构，陶瓷器皿正反面喷涂上釉时，由于喷头呈波浪状起伏布置，且能够在驱动机构的控制下，波浪状起伏布置的喷头，其波峰、波谷能随着输送带传输而起伏变化，使其保持着波峰对应空白工位，波谷对应喷涂工位，通过波峰、波谷的间距来弥补上下层输送带的间距，从而使得陶瓷正反面的上釉能够更为均匀，避免出现陶瓷正面釉层过厚，陶瓷背面釉层过薄的现象。
附图说明
[0015]图1为本专利技术结构示意图；图2为本专利技术输送带未设置喷涂工位时的局部俯视图；图3为本专利技术输送带设置喷涂工位和空白工位的局部俯视图；图4为本专利技术喷头及驱动机构的结构示意图。
[0016]其中，图中标号为：输送带10，上层输送带11，下层输送带12，辊筒13，喷涂工位14，空白工位15，卸料区21，上料区22，喷涂区23，第一烘干区24，第二烘干区25，喷涂机构30，喷涂31，喷涂座32，输料管33，伸缩管34，电机35，齿轮36，齿条37，滑槽38，环体39，第一出风罩41，第二出风罩42，底框51，挟持座52，陶瓷器皿60。
具体实施方式
[0017]下面参照附图说明本专利技术实施例的具体实施方式。
[0018]参照图1至图3，一种陶瓷正反面喷釉装置，包括链条输送机，链条输送机优选为辊筒输送机。即链条输送机的输送带10呈回字形，由上层输送带11和下层输送带12一体成型组成，输送带10上间隔布置有若干根辊筒13，相邻的两根辊筒13之间设置有用于挟持陶瓷器皿60的喷涂工位14和/或没有挟持陶瓷器皿60的空白工位15。喷涂工位14和空白工位15沿输送带10的传输方向交错布置。以两根辊筒13之间作为一列，以输送带10的传输方向作为一排；两根辊筒13之间可以设置多个工位，同一列的工位可以都是喷涂工位14或空白工位15，也可以是喷涂工位14或空白工位15交错布置；输送带10则根据同一列设置的工位数量形成多排工位，输送带10上每一排工位均是喷涂工位14和空白工位15交错布置。
[0019]参照图3，喷涂工位14包括固定架设于相邻的两根辊筒13之间的底框51，底框51上可拆卸地设有用于挟持固定陶瓷器皿60的挟持座52。挟持座52可通过卡扣、磁吸附或螺纹
旋紧等可拆卸连接方式与底框51连接。
[0020]参照图1，输送带10以上层输送带11的传输方向划分成前、中、后三部分，并依次划分有卸料区21、上料区22、喷涂区23、第一烘干区24和第二烘干区25。其中，卸料区21和上料区22设置于上层输送带11的前部；喷涂区23设置于上层输送带11的中部，并向下延伸至下层输送带12的中部；第一烘干区24设置于上层输送带11的后部，用于烘干上层输送带11上的陶瓷器皿60；第二烘干区25设置于下层输送带12的前部，用于烘干下层输送带12上的陶瓷器皿60。
[0021]参照图1至图4，上层输送带11的上方或下层输送带12的下方设有用于喷涂上釉的喷涂机构30。本实施例中，喷涂机构30优选设置于上层输送带11的上方，并对应设置于输送带10的喷涂区23的上方。喷涂机构30包括喷涂座32，喷涂座32连接有一输料管33，喷涂座32上设有若干个用于喷涂上釉的喷头31，喷头31通过喷涂座32与输料管33连通，输料管33则与釉料箱和压力泵连接。本实施例中，输料管33、釉料箱和压力泵为现有常规的喷釉机的组成结构，其具体连接和工作原理，与现有喷釉机基本相同，在此不做进一步赘述。
[0022]参本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种陶瓷正反面喷釉装置，其特征在于：包括链条输送机，所述链条输送机的输送带呈回字形，由上层输送带和下层输送带一体成型组成，所述输送带上间隔布置有若干根辊筒，相邻的两根辊筒之间设置有用于挟持陶瓷器皿的喷涂工位和/或没有挟持陶瓷器皿的空白工位，所述喷涂工位和空白工位沿输送带的传输方向交错布置，所述上层输送带的上方或下层输送带的下方设有用于喷涂上釉的喷涂机构。2.根据权利要求 1 所述的一种陶瓷正反面喷釉装置，其特征在于：所述喷涂工位包括架设于相邻的两根辊筒之间的底框，所述底框上可拆卸地设有用于挟持固定所述陶瓷器皿的挟持座。3.根据权利要求 1 所述的一种陶瓷正反面喷釉装置，其特征在于：所述输送带沿传输方向依次划分有卸料区、上料区和喷涂区，所述喷涂区位于输送带中部，所述喷涂机构设置于所述喷涂区上方。4.根据权利要求 3 所述的一种陶瓷正反面喷釉装置，其特征在于：所述喷涂机构包括喷涂座，所述喷涂座连接有一输料管，喷涂座上设有若干个用于喷涂上釉的喷头，所述喷头通过喷涂座与输料管连通，所述喷涂区内每个喷涂工位和空白工位上方对应设有至少一个喷头。5.根据权利要求 4 所述的一种陶瓷正反面喷釉...
【专利技术属性】
技术研发人员：苏晨义，苏尧政，黄诗福，
申请(专利权)人：福建省德化县佳美工艺品有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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