一种釉料分配装置、喷釉模组及喷釉设备制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种釉料分配装置、喷釉模组及喷釉设备。该釉料分配装置包括主体，主体内限定至少一个用于输送釉料的输送通道，输送通道横向延伸。输送通道的上侧设有若干安装部和若干空腔，空腔连通至输送通道且其内部储存有气体，空腔被配置为储存和释放釉料的压力能。输送通道的下侧设有连通至输送通道的若干喷孔，若干安装部分别对应至若干喷孔，安装部用于安装阀门，阀门控制喷孔的打开或关闭。该空腔作用是减弱釉料打印过程的压力波动，从而改善了喷釉效果。善了喷釉效果。善了喷釉效果。

【技术实现步骤摘要】
一种釉料分配装置、喷釉模组及喷釉设备


[0001]本专利技术涉及喷釉设备
，尤其涉及一种釉料分配装置、喷釉模组及喷釉设备。

技术介绍

[0002]喷釉法是指采用喷釉设备将釉料均匀地喷到陶瓷制品表面的一种方法。现有技术中的其中一种喷釉设备包括喷釉模组，喷釉模组包括釉料分配装置以及设置在釉料分配装置上的阀门，釉料分配装置具有釉料进口、釉料输送通道和釉料出口，釉料输送通道上设有若干个用于喷釉的喷孔，若干阀门则对应至若干喷孔。工作时，釉料从釉料进口流入釉料输送通道然后从釉料出口流出，此时，通过阀门控制喷孔的开闭从而控制喷釉效果。具体地，当阀门封堵喷孔时，该喷孔不喷釉。当阀门打开喷孔而喷射釉料。
[0003]由上可知，喷釉模组打印时，加压后的釉料通过釉料输送通道时，由于零件相互干扰等原因，例如是密封件(管状)随动阀芯运动而扩大或收缩，体积发生变化，导致釉料的压力存在波动，若压力不能保持在稳定范围内，则会影响喷釉效果。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例为了解决现有技术中的喷釉模组打印时，加压后的釉料通过釉料输送通道，釉料的压力存在波动，若压力不能保持在稳定范围内，则会影响喷釉效果的技术问题，提供一种釉料分配装置、喷釉模组及喷釉设备。
[0005]为了解决上述技术问题，一方面，本专利技术实施例提供了一种釉料分配装置，包括主体，所述主体内限定至少一个用于输送釉料的输送通道，所述输送通道横向延伸；
[0006]所述输送通道的上侧设有若干安装部和若干空腔，所述空腔连通至所述输送通道且其内部储存有气体，所述空腔被配置为储存和释放所述釉料的压力能；
[0007]所述输送通道的下侧设有连通至所述输送通道的若干喷孔，若干所述安装部分别对应至若干所述喷孔，所述安装部用于安装阀门，所述阀门控制所述喷孔的打开或关闭。
[0008]在一些实施例中，所述输送通道的两端分别连接有输入通道和输出通道，所述输入通道和所述输出通道沿所述输送通道的侧向延伸；所述输入通道与所述输送通道的连接处设有第一导向部，所述输出通道与所述输送通道的连接处设有第二导向部。
[0009]在一些实施例中，所述第一导向部和所述第二导向部包括内圆弧导向面和外圆弧导向面。
[0010]在一些实施例中，所述安装部和所述空腔沿所述输送通道的延伸方向交替布置。
[0011]在一些实施例中，所述空腔的深度方向垂直于所述输送通道的延伸方向；
[0012]所述空腔包括相连的下腔体和上腔体，所述上腔体位于所述空腔远离所述输送通道的一侧，所述下腔体的横截面积大于所述上腔体的横截面积。
[0013]在一些实施例中，所述主体包括层叠设置的上板体和下板体；
[0014]所述上板体和所述下板体之间设有密封结构；
[0015]所述主体的横截面均为平行四边形，平行四边形的的所述主体具有第一边以及与所述第一边相邻的第二边，多个所述喷孔排列为多行多列，任意一行所述喷孔的排列方向与所述第一边平行，任意一列所述喷孔的排列方向与所述第二边平行。
[0016]另一方面，本专利技术实施例还提供了一种喷釉模组，包括阀门以及所述的釉料分配装置。
[0017]在一些实施例中，所述阀门包括阀体、驱动部以及阀芯，所述驱动部设于所述阀体内，所述阀芯连接所述驱动部，所述阀芯具有封堵部，所述驱动部驱动所述阀芯往复移动以使所述封堵部封堵或打开所述喷孔。
[0018]在一些实施例中，该喷釉模组还包括外壳，所述外壳设于所述主体上且两者之间限定散热腔，所述阀体的底部内嵌在所述安装部且其上部伸出所述安装部而容置于所述散热腔内；
[0019]所述散热腔内还设有分隔结构，所述分隔结构包括第一隔板以及若干第二隔板，纵向设置的所述第二隔板的上侧连接于横向布置的所述第一隔板且所述第二隔板的下侧连接于所述主体；
[0020]多个所述阀门被配置为一列以上，所述第一隔板位于相邻的两列所述阀门之间；所述第一隔板和所述第二隔板使所述散热腔分隔为一个以上的散热风道；
[0021]所述外壳上设有进风结构和出风结构，所述进风结构和所述出风结构连接在所述散热风道的两端。
[0022]再一方面，本专利技术实施例还提供了一种喷釉设备，包括输送装置以及所述的喷釉模组；所述输送装置用于输送待喷釉工件，所述喷釉模组位于所述输送装置上方，以对所述待喷釉工件喷釉。
[0023]实施本专利技术实施例，具有如下有益效果：该釉料分配装置在输送通道的上侧设有若干安装部和若干空腔，空腔连通至输送通道且其内部储存有气体，当釉料的压力高于空腔内气压时，釉料压入空腔而使气体压缩，当釉料的压力低于空腔内气压时，气体膨胀而使釉料压出空腔，因此该空腔被配置为储存和释放釉料的压力能，该空腔作用是减弱釉料打印过程中的压力波动，从而改善了喷釉效果。
附图说明
[0024]图1是本专利技术一种釉料分配装置的第一实施例仰视图；
[0025]图2为沿图1中所示A
‑
A的剖视图；
[0026]图3是本专利技术一种喷釉模组的第二实施例结构示意图；
[0027]图4是本专利技术一种喷釉模组的第二实施例立体图；
[0028]图5是图4隐藏外壳后的结构示意图。
[0029]附图标记说明：
[0030]100、主体；110、输送通道；120、上板体；121、安装部；122、空腔；1221、下腔体；1222、上腔体；123、输入通道；124、输出通道；125、第一导向部；1251，1261、内圆弧导向面；1252，1262、外圆弧导向面；126、第二导向部；130、下板体；131、喷孔；140、密封圈；150、第一边；160、第二边；200、阀门；210、阀体；220、驱动部；230、阀芯；240、封堵部；250、弹簧；300、外壳；310、散热腔；311、散热风道；320、进风结构；330、出风结构；340、第一隔板；350、第二
隔板。
具体实施方式
[0031]为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术作进一步地详细描述。仅此声明，本专利技术在文中出现或即将出现的上、下、左、右、前、后、内、外等方位用词，仅以本专利技术的附图为基准，其并不是对本专利技术的具体限定。
[0032]在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”、“固定”等应做广义理解，例如，“固定”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0033]在本专利技术中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种釉料分配装置，其特征在于，包括主体，所述主体内限定至少一个用于输送釉料的输送通道，所述输送通道横向延伸；所述输送通道的上侧设有若干安装部和若干空腔，所述空腔连通至所述输送通道且其内部储存有气体，所述空腔被配置为储存和释放所述釉料的压力能；所述输送通道的下侧设有连通至所述输送通道的若干喷孔，若干所述安装部分别对应至若干所述喷孔，所述安装部用于安装阀门，所述阀门控制所述喷孔的打开或关闭。2.如权利要求1所述的釉料分配装置，其特征在于，所述输送通道的两端分别连接有输入通道和输出通道，所述输入通道和所述输出通道沿所述输送通道的侧向延伸；所述输入通道与所述输送通道的连接处设有第一导向部，所述输出通道与所述输送通道的连接处设有第二导向部。3.如权利要求2所述的釉料分配装置，其特征在于，所述第一导向部和所述第二导向部包括内圆弧导向面和外圆弧导向面。4.如权利要求1所述的釉料分配装置，其特征在于，所述安装部和所述空腔沿所述输送通道的延伸方向交替布置。5.如权利要求1所述的釉料分配装置，其特征在于，所述空腔的深度方向垂直于所述输送通道的延伸方向；所述空腔包括相连的下腔体和上腔体，所述上腔体位于所述空腔远离所述输送通道的一侧，所述下腔体的横截面积大于所述上腔体的横截面积。6.如权利要求1至5中任一项所述的釉料分配装置，其特征在于，所述主体包括层叠设置的上板体和下板体；所述上板体和所述下板体之间设有密封结构；所述主体的横截面均为平行四...

【专利技术属性】
技术研发人员：张勉，秦迎军，唐成，陈锦，
申请(专利权)人：佛山市赛普飞特科技有限公司，
类型：发明
国别省市：