【技术实现步骤摘要】
抛光用带有底部缓冲保护层的缓冲阻尼布及其制备工艺
[0001]本专利技术涉及阻尼布
,具体为抛光用带有底部缓冲保护层的缓冲阻尼布及其制备工艺。
技术介绍
[0002]阻尼布,是一种丝绒状的磨光材料,它质地细腻,表面柔软,多孔,呈弹性,使用周期长。研磨时可有效含浸研磨液,提高切削力的同时避免划伤工件。阻尼布适用于光学元件、晶体及金属和玻璃材料的终道抛光,也可用来抛光特殊材质,如硅、锗、硒脂锌、砷化镓、合金钢、陶瓷和丙烯酸玻璃。
[0003]公开号为CN114683183B的中国专利公开了一种用于贵重金属表面抛光的阻尼布及其生产工艺,该种阻尼布从抛光接触面至吸附面依次包括助磨涂料层、拒水基垫和弹性垫;助磨涂料层由亲水改性的偏二氟乙烯和聚乙二醇为成膜材料,助磨涂料层的良好亲水性使得抛光液可均匀分散,聚乙二醇具有水溶性,在抛光过程中助磨涂料层缓慢浸蚀,磨料均匀释放参与抛光,可降低抛光液的浓度,使得抛光液中的磨粒易分散,从而提高抛光精度。
[0004]该专利虽然在一定程度上解决了
技术介绍
中的抛光切削下的微粉易卡在空隙中难以与抛光垫分离,使得贵重金属的抛光损失率较大的问题,但是该专利中弹性垫为聚氨酯多孔吸附垫,不同的弹性垫聚氨酯多孔吸附垫弹性差异较大。
技术实现思路
[0005]本专利技术的目的在于提供抛光用带有底部缓冲保护层的缓冲阻尼布及其制备工艺,通过棕榈纤维起到底部缓冲作用,棕榈纤维进行碱洗处理后,棕榈纤维的内部具有因木质素被碱分解而导致的孔洞结构,酯化后的棕榈纤维在冷却后棕榈酸甲酯成 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.抛光用带有底部缓冲保护层的缓冲阻尼布,包括基底缓冲层(1)、热熔胶层(2)和抛光面层(3),其特征在于:所述基底缓冲层(1)通过热熔胶层(2)与抛光面层(3)粘接,基底缓冲层(1)包括第一弹性层(11)、第二弹性层(12)、第一织物层(13)、第二织物层(14)和第三织物层(15),第一织物层(13)和第二织物层(14)之间夹有第一弹性层(11),第二织物层(14)和第三织物层(15)之间夹有第二弹性层(12),第一弹性层(11)由以下重量份原料制成:酯化棕榈纤维20
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45份、天然橡胶10
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25份、改性剂5
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8份;第二弹性层(12)由以下重量份原料制成:酯化棕榈纤维20
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45份、猪鬃15
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20份、天然橡胶10
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25份、改性剂5
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8份。2.根据权利要求1所述的抛光用带有底部缓冲保护层的缓冲阻尼布,其特征在于:所述第一织物层(13)为尼龙纤维编织而成,第二织物层(14)为芳纶纤维编织而成,第三织物层(15)为聚酯纤维编织而成。3.根据权利要求2所述的抛光用带有底部缓冲保护层的缓冲阻尼布,其特征在于:所述改性剂包括防静电剂和石墨烯,防静电剂和石墨烯的质量比为1:2。4.根据权利要求3所述的抛光用带有底部缓冲保护层的缓冲阻尼布,其特征在于:所述酯化棕榈纤维的制备过程如下:将棕榈叶鞘纤维片进行碱洗处理,获得碱处理棕榈纤维,再经打散、梳理分解成棕榈纤维单丝;使用制绳机将棕榈纤维单丝绞制成螺旋绳,高温定型后取出,将螺旋绳分解,获得卷曲的棕榈纤维;将碱洗处理后的棕榈纤维、甲醇和浓硫酸混合,进行酯化反应,制得酯化棕榈纤维。5.根据权利要求4所述的抛光用带有底部缓冲保护层的缓冲阻尼布,其特征在于:所述棕榈纤维单丝绞制成螺旋绳的环境温度为120
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140℃,保持时间为5
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7分钟。6.根据权利要求5所述的抛光用带有底部缓冲保护层的缓冲阻尼布,其特征在于:所述抛光面层(3)由以下重量份原料制成:聚氨酯38
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45份、环氧树脂25
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36份、分散剂2
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6份、磨料组分10
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13份。7.根据权利要求6所述的抛光用带有底部缓冲保护层的缓冲阻尼布,其特征在于:所述磨料组分包括以下原料:碳化硅23
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50%、氧化铝...
【专利技术属性】
技术研发人员:李加海,杨惠明,孙传东,
申请(专利权)人:安徽禾臣新材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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