一种高压缩率的石英光罩抛光吸附垫及其制备工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种高压缩率的石英光罩抛光吸附垫及其制备工艺，属于抛光吸附垫技术领域，包括离型膜、胶粘层和吸附层，所述离型膜设置在胶粘层上，所述胶粘层设置在吸附层上。本发明专利技术解决了现有的石英光罩在抛光处理时，其抛光吸附垫的压缩率低下，导致抛光吸附垫易磨损而损坏，降低了抛光吸附垫的使用寿命的问题，本发明专利技术通过气孔接口向横向吸附缓冲条内抽气，此时横向吸附缓冲条、纵向吸附缓冲条和定位吸附柱内的气压降低，可提升抛光吸附垫的吸附性，且横向吸附缓冲条和纵向吸附缓冲条可对抛光吸附垫进行缓冲压缩，可提升抛光吸附垫的压缩率，避免抛光吸附垫磨损而损坏，可提升抛光吸附垫的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及抛光吸附垫，具体为一种高压缩率的石英光罩抛光吸附垫及其制备工艺。

技术介绍

1、抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。

2、抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度，而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的，有时也用以消除光泽，通常以抛光轮作为抛光工具，抛光轮一般用多层帆布、毛毡或皮革叠制而成，两侧用金属圆板夹紧，其轮缘涂敷由微粉磨料和油脂等均匀混合而成的抛光剂。抛光时，高速旋转的抛光轮压向工件，使磨料对工件表面产生滚压和微量切削，从而获得光亮的加工表面，表面粗糙度一般可达ra0.63-0.01微米，当采用非油脂性的消光抛光剂时，可对光亮表面消光以改善外观，大批量生产轴承钢球时，常采用滚筒抛光的方法。

3、现有的石英光罩在抛光处理时，其抛光吸附垫的压缩率低下，导致抛光吸附垫易磨损而损坏，降低了抛光吸附垫的使用寿命。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种高压缩率的石英光罩抛光吸附垫，包括离型膜(1)、胶粘层(2)和吸附层(3)，其特征在于，所述离型膜(1)设置在胶粘层(2)上，所述胶粘层(2)设置在吸附层(3)上，其中，离型膜(1)、胶粘层(2)和吸附层(3)的厚度比为1：1：4。

2.根据权利要求1所述的一种高压缩率的石英光罩抛光吸附垫，其特征在于，所述吸附层(3)包括支撑底垫(31)和抛光吸附垫(32)，所述抛光吸附垫(32)上设置有均匀分布的吸附气孔(321)，所述抛光吸附垫(32)设置在支撑底垫(31)上，所述支撑底垫(31)连接在胶粘层(2)上。

3.根据权利要求2所述的一种高压缩率的石英光罩抛...

【技术特征摘要】

1.一种高压缩率的石英光罩抛光吸附垫，包括离型膜(1)、胶粘层(2)和吸附层(3)，其特征在于，所述离型膜(1)设置在胶粘层(2)上，所述胶粘层(2)设置在吸附层(3)上，其中，离型膜(1)、胶粘层(2)和吸附层(3)的厚度比为1：1：4。

2.根据权利要求1所述的一种高压缩率的石英光罩抛光吸附垫，其特征在于，所述吸附层(3)包括支撑底垫(31)和抛光吸附垫(32)，所述抛光吸附垫(32)上设置有均匀分布的吸附气孔(321)，所述抛光吸附垫(32)设置在支撑底垫(31)上，所述支撑底垫(31)连接在胶粘层(2)上。

3.根据权利要求2所述的一种高压缩率的石英光罩抛光吸附垫，其特征在于，所述吸附层(3)还包括横向吸附缓冲条(33)和纵向吸附缓冲条(34)，所述横向吸附缓冲条(33)并排横向设置在支撑底垫(31)内，所述纵向吸附缓冲条(34)并排纵向设置在支撑底垫(31)内，所述横向吸附缓冲条(33)和纵向吸附缓冲条(34)相连通。

4.根据权利要求3所述的一种高压缩率的石英光罩抛光吸附垫，其特征在于，所述吸附层(3)还包括定位吸附柱(35)，所述定位吸附柱(35)设置在横向吸附缓冲条(33)和纵向吸附缓冲条(34)的交叉连接处，所述定位吸附柱(35)位于吸附气孔(321)内...

【专利技术属性】
技术研发人员：李加海，杨惠明，孙传东，
申请(专利权)人：安徽禾臣新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：