一种耐强碱洗净的镀膜及镀膜方法技术

本发明专利技术提出了一种耐强碱洗净的镀膜，包括玻璃基板，所述玻璃基板上依次设有二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅、镧系材料镀层、二氧化硅、镧系材料镀层，其镀膜方法包括：S1:提供玻璃基材；S2：将镀膜溅射机抽真空至5.00*10

【技术实现步骤摘要】
一种耐强碱洗净的镀膜及镀膜方法


[0001]本专利技术涉及透镜镀膜领域，尤其涉及耐强碱洗净的镀膜及镀膜方法。

技术介绍

[0002]真空成膜工艺一般有真空腔，抽气系统，加热系统，成膜材料加热系统及监控系统组成，成膜产品用于比较广泛，如手机摄像头，照相机，投影仪，安防摄像头等。
[0003]目前国内常用的是加热方式用TI3O5/SIO2进行成膜，其成膜结构为层状制密性不佳(附图1)，造成后续环测时间较短，实际只可做为设备内部配件使用，同时洗净耐碱性(PH≥12，温度：70度时间：5分)不佳，对成品制程造成困扰。需更多的投入人工进行手工擦拭作业。

技术实现思路

[0004]为解决上述技术问题，本专利技术提出了一种耐强碱洗净的镀膜，包括玻璃基板，所述玻璃基板上依次设有二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅、镧系材料镀层、二氧化硅、镧系材料镀层。
[0005]优选的，镧系材料镀层包括镧、铈、镨、钕、钷、钐、铕、钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱、镥中的一种或者几种的混合。
[0006]优选的，所述镧系材料中还混合有钽元素和钛元素。
[0007]一种耐强碱洗净镀膜的镀膜方法，包括以下步骤：
[0008]S1:提供玻璃基材；
[0009]S2：将镀膜溅射机抽真空至5.00*10
‑
3PA；
[0010]S3：材料预融，在腔体内固定三组阴极靶材，取固体五氧化三钛通过设置设备电流强度为440MA预融加热至液体，取固体粉末形态的镧系材料配合二氧化钛靶和五氧化二钽，通过设置设备电流强度为480MA预融加热至液态，使镧系材料混合有钛元素和钽元素，各自降温后形成固体阴极靶；二氧化硅作为第三组阴极靶；
[0011]S4：材料蒸镀，后注入氧气和氩气，氧气和氩气的比例为1:3～5；通过溅射设备将氩气电离，离子轰击轰击阴极阴极靶材，先后按照二氧化硅、五氧化三钛、二氧化硅、五氧化三钛、二氧化硅、五氧化三钛、二氧化硅、镧系材料镀层、二氧化硅、镧系材料镀层的顺序溅射，得到的五氧化三钛镀膜厚度为450nm，使用电流为：420MA，速率为二氧化硅镀膜厚度为418nm，电流：180MA，速率镧系材料混合物镀膜厚度为53nm，电流：460MA，速率460MA，速率
[0012]S5：进行保压30分；
[0013]S6：进行泄气作业；
[0014]S7：耐碱性洗净测量光谱检查包装流后程。
[0015]优选的，蒸镀过程中调节氩气和氧气的比例和量，在镀二氧化硅和五氧化三钛时，注入总量为量为1和0.8％，氧气和氩气的注入比例为1:3和2:5，在镀镧系材料镀层时，注入
总量为量为0.4％，氧气和氩气比例注入1:5。
[0016]优选的，预溶温度为1800℃
‑
2000℃。
[0017]本专利技术提出的耐强碱洗净的镀膜有以下有益效果：本专利技术采用了离子源成膜工艺使用TI3O5/SIO2进行成膜，同时加入适量的镧系材料进行加工成膜，其成膜结构为柱状(附图2)，制密性更佳。并且镀膜工艺通过调整氧气和氩气的比例能够保证薄膜强度以及薄膜的密度，提高抗酸碱性。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
[0019]图1为现有技术中普通二氧化硅和五氧化三钛的镀膜微观图；
[0020]图2为本专利技术的镀膜结构图；
[0021]图3为本专利技术的镀膜微观图；
[0022]图4为本专利技术的可靠性试验报告测试方法汇总表；
[0023]图5为本专利技术的镀膜分光测试表；
[0024]图6为本专利技术的清洗分光测试表；
[0025]图7为本专利技术的高温高湿存储测试表；
[0026]图8为本专利技术的冷热冲击测试表；
[0027]图9为本专利技术的高温存储测试表；
[0028]图10为本专利技术的低温存储测试表；
[0029]其中，1、储液筒；1A、挡液板；2、进口管路；3、出口管路；4、通气管路；5、第一流量控制部件；6、高压气体；7、液体连接管路；8、第二流量控制部件；9、低压管路。
具体实施方式
[0030]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
[0031]实施例1
[0032]一种耐强碱洗净的镀膜，包括玻璃基板，所述玻璃基板上依次设有二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅、铈钽钛混合层、二氧化硅、镧系材料镀层。
[0033]实施例2
[0034]一种耐强碱洗净的镀膜，包括玻璃基板，所述玻璃基板上依次设有二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅、镧钽钛混合层、二氧化硅、镧系材料镀层。
[0035]实施例3
[0036]一种耐强碱洗净的镀膜，包括玻璃基板，所述玻璃基板上依次设有二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅、镨钽钛混合层、二氧化硅、镧系材料镀层。
[0037]实施例4
[0038]一种耐强碱洗净的镀膜，包括玻璃基板，所述玻璃基板上依次设有二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅、铕钽钛混合层、二氧化硅、镧系材料镀层。
[0039]实施例5
[0040]一种耐强碱洗净镀膜的镀膜方法，包括以下步骤：
[0041]S1:提供玻璃基材；
[0042]S2：将镀膜溅射机抽真空至5.00*10
‑3PA；
[0043]S3：材料预融，在腔体内固定三组阴极靶材，取固体五氧化三钛通过设置设备电流强度为440MA预融加热至液体，预溶温度为1800℃，取固体粉末形态的镧系材料配合二氧化钛靶和五氧化二钽，镧系金属材料、二氧化钛和五氧化二钽在此温度下也熔融混合，通过设置设备电流强度为480MA预融加热至液态，使镧系材料混合有钛元素和钽元素，各自降温后形成固体阴极靶；二氧化硅作为第三组阴极靶；
[0044]S4：材料蒸镀，后注入氧气和氩气，氧气和氩气注入量为腔体的1％和0.8％，且氧气和氩气的比例为1:3和2:5；通过溅射设备将氩气电离，离子轰击轰击阴极阴极靶材，阴极靶材料通过溅射设备内部的转盘转动，可调整阴极靶位置，先后按照二氧化硅、五氧化三钛、二氧化硅、五氧化三钛、二氧化硅、五氧化三钛、二氧化硅、镧系材料镀层、二氧化硅、镧系材料镀层的顺序溅射，溅射镧系材料混合镀层时时，气体注入量0.4％，得到的五氧化三钛镀膜厚度为450nm，使用电流为：420MA，速率为二氧化硅镀膜厚度为418nm，电流：180MA，速率镧系材料混合物镀膜厚度为53nm，电流：460MA，速率镧系材料混合物镀膜厚度为53nm，电流：460MA，速率
[0045]S本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种耐强碱洗净的镀膜，其特征在于，包括玻璃基板，所述玻璃基板上依次设有二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅镀层、五氧化三钛、二氧化硅、镧系材料镀层、二氧化硅、镧系材料镀层。2.根据权利要求1所述的耐强碱洗净的镀膜，其特征在于，镧系材料镀层包括镧、铈、镨、钕、钷、钐、铕、钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱、镥中的一种或者几种的混合。3.根据权利要求1所述的耐强碱洗净的镀膜，其特征在于，所述镧系材料中还混合有钽元素和钛元素。4.一种耐强碱洗净镀膜的镀膜方法，其特征在于，包括以下步骤：S1:提供玻璃基材；S2：将镀膜溅射机抽真空至5.00*10
‑
3PA；S3：材料预融，在腔体内固定三组阴极靶材，取固体五氧化三钛通过设置设备电流强度为440MA预融加热至液体，取固体粉末形态的镧系材料配合二氧化钛靶和五氧化二钽，通过设置设备电流强度为480MA预融加热至液态，使镧系材料混合有钛元素和钽元素，各自降温后形成固体阴极靶，二氧化硅作为第三组阴极靶；S4：材...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭芳伟，
申请(专利权)人：徐州联超光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：