上料台组件以及包括该上料台组件的磨床制造技术

技术编号:38741247 阅读:12 留言:0更新日期:2023-09-08 23:25
本实用新型专利技术涉及磨床等设备中的上料调整技术领域,具体提供了一种上料台组件以及包括该上料台组件的磨床,所述上料台组件包括:所述上料台组件包括至少一个支撑组,所述支撑组包括两个支撑台,所述支撑台上具有非平面的支撑面,以便:两个所述非平面的支撑面形成允许待加工件倾斜上料的承托空间;其中,同一个所述支撑组的两个所述支撑台之间能够产生靠近和/或远离彼此的相对运动。通过这样的构成,给出了上料台组件的一种可能结构的结构形式。基于此,便可根据实际对倾斜上料的需求,规划或者调整出与倾斜上料相适配的承托空间。者调整出与倾斜上料相适配的承托空间。者调整出与倾斜上料相适配的承托空间。

【技术实现步骤摘要】
上料台组件以及包括该上料台组件的磨床


[0001]本技术涉及磨床等设备中的上料调整
,具体提供一种上料台组件以及包括该上料台组件的磨床。

技术介绍

[0002]磨床是对硬脆材料进行磨削加工的设备。如磨床通常包括上料台组件、进给组件以及磨削组件。以硬脆材料的件为硅棒为例,如首先将开方后的硅棒固定至上料台组件,对其所处的位置和姿态进行后一定的初步调节后,将硅棒送达至进给组件的两个夹头之间,如两个夹头可以均为动夹头或者一个夹头为动夹头一个夹头为定夹头。通过的硅棒轴向运动,将硅棒送达磨削组件从而对第一组待磨削面进行包括粗磨和精磨在内的磨削加工。之后,通过使硅棒的旋转,从而转动至第二组待磨削面,在此基础上,对该第二组待磨削面进行包括粗磨和精磨在内的磨削加工。如此重复,直至硅棒所有的待磨削面按照设定的磨削标准被磨削。
[0003]仍以硬脆材料的件为硅棒为例,由于硅棒的规格不同且同种规格的硅棒的外形尺寸也有区别,因此,在将硅棒放在上料平台上的情形下,硅棒的轴线与两个夹头的轴线之间通常存在一定的位置偏差。此外,由于磨削前的硅棒表面本身存在不平整的现象,硅棒的轴线与两个夹头的轴线之间还存在一定的角度偏差。显然,位置偏差和角度偏差的存在均会对两根轴线的同轴度产生影响,而两根轴线之间的同轴度在磨床上则表现为硅棒的上料精度。上述位置偏差和角度偏差中的任一环节的不达标将会影响硅棒的上料精度,上料精度的降低通常会表现为不同程度的硅棒磨削量的增加、硅损提高,从而导致磨床的加工效率降低、硅棒的表面质量降低。目前对于硅棒的上料精度的调整通常是基于水平上料的基础姿态进行调整的,无法满足非水平上料情形下的调整需求。

技术实现思路

[0004]本技术旨在至少一部分地解决上述技术问题,具体而言,在硅棒等待加工件为非水平上料的情形下,仍能够对上述位置偏差和角度偏差中的任一环节进行抑制或者消除,从而在此基础上提高硅棒的上料精度,并因此至少一定程度地提高硅棒上料找正的精度,提高了磨削效率,并进而可以获得降低磨削损耗、减少硅棒的磨削余量的效果,进而提高磨床的加工效率以及硅棒的表面质量。
[0005]在第一方面,本技术提供了一种上料台组件,该上料台组件包括至少一个支撑组,所述支撑组包括两个支撑台,所述支撑台上具有非平面的支撑面,以便:两个所述非平面的支撑面形成允许待加工件倾斜上料的承托空间;其中,同一个所述支撑组的两个所述支撑台之间能够产生靠近和/或远离彼此的相对运动。
[0006]通过这样的构成,给出了上料台组件的一种可能结构的结构形式。伴随着相应的靠近和/或远离运动使得两个支撑面形成的承托空间有所调整。由于支撑面为非平面的结构,该调整过程中往往会伴随有角度的调整。
[0007]可以理解的是,本领域技术人员可以根据实际需求确定两个支撑台之间具体能够产生的运动形式,如二者之间可以是同步运动或者相对独立的运动方式,产生的运动形式可以是仅靠近、仅远离或者二者皆可。示例性地,两个支撑台中的一个的位置相对固定或者仅能够在设定的几个位置之间切换,另一个则可以自由运动。
[0008]可以理解的是,本领域技术人员可以根据实际需求确定支撑组的个数以及支撑台的结构形式等。如对应于同一支撑组的两个支撑台/支撑面之间可以相同或者不同,对应于不同的支撑组之间的支撑台/支撑面可以不同或者相同。
[0009]可以理解的是,本领域技术人员可以根据实际需求确定非平面的支撑面的具体形式,如可以为一段/多段曲面、一段/多段斜面、一段/多段曲面和斜面的组合等。以待加工件为硅棒为例,沿硅棒的长度方向观察,不同局部的支撑面可以相同或者不同。示例性地,位于中部区域的结构与靠近两端的区域的结构有所不同。
[0010]需要说明的是,此处的倾斜上料应当理解为:与传统的“径向水平摆放、轴向沿与上料方向大致相同的方向摆放、运动方向与上料方向大致相同”上料方式相比,可以在起步阶段便刻意地产生一定的偏差,如可观察到的偏差。具体在哪个方向产生何种程度的偏差,本领域技术人员可以根据实际上产需求灵活地设置。
[0011]对于上述上料台组件,在一种可能的实施方式中,同一个所述支撑组的两个所述支撑台之间能够以靠近/远离彼此的方式运动;并且/或者所述支撑组的两个所述支撑台之间能够以运动趋势相同的的方式运动。
[0012]通过这样的构成,有望通过支撑台的运动更好地调整承托空间的位置和角度,以便使得调整后的承托空间能够适配或者达到上料精度的需求。
[0013]如此处的运动趋势相同应当理解为运动方向相同或者大致相同,示例地,二者大致均为向右运动的趋势,但是在与严格向右这一基准相比,二者可以相同、对称或者有较小的区别等。
[0014]对于上述上料台组件,在一种可能的实施方式中,所述上料台组件包括第一引导机构,同一个支撑组的两个支撑台能够沿所述第一引导机构运动。
[0015]通过这样的构成,能够谋求通过第一引导机构限定同一个支撑组的两个支撑台的运动方向、范围等。
[0016]可以理解的是,在具有引导功能的前提下,本领域技术人员可以根据实际需求确定第一引导机构的具体形式以及对应的引导方向等。如第一引导机构可以是挡板、在水平面内布置的导轨、在竖直方向布置的导轨等,引导方向可以是与进给方向平行或者具有一定的夹角。
[0017]对于上述上料台组件,在一种可能的实施方式中,所述支撑台配置有第一驱动机构,所述第一驱动机构能够带动所述支撑台在第一引导机构的引导约束下的运动。
[0018]通过这样的构成,给出了支撑台得以产生运动的可能的驱动方式,如第一驱动机构可以是电机、动力缸或者多个部件形成的直线模组等。
[0019]示例地,第一驱动机构为丝杠电机(将电机与丝杠螺母机构集成设置的直线模组),第一引导机构为沿水平面布置的导轨滑块机构,丝杠电机的螺母与支撑台的侧部固接,支撑台的底部与导轨滑块机构的滑块固接。
[0020]对于上述上料台组件,在一种可能的实施方式中,每个所述支撑台均配置有第一
驱动机构,以便:各个所述支撑台能够以彼此独立的方式运动。
[0021]通过这样的构成,给出了支撑台构成支撑台组的可能的方式。
[0022]对于上述上料台组件,在一种可能的实施方式中,所述支撑面为斜面。
[0023]通过这样的构成,给出了支撑面的一种可能的结构形式。
[0024]可以理解的是,本领域技术人员可以根据实际需求确定斜面的细节要素,如斜面的形状、大小、倾斜方式以及倾斜程度等,如不同的支撑台的支撑面之间的细节要素可以相同或者不同。示例性地,形状大致相同,第一支撑台的支撑面由中部向外侧斜向上倾斜60
°
,第二支撑台的支撑面由中部向外侧斜向上倾斜30
°

[0025]对于上述上料台组件,在一种可能的实施方式中,同一个支撑组的两个支撑台的支撑面至少在倾斜方面对称设置。
[0026]通过这样的构成,给出了两个支撑台构成支撑组的一种可能的形式。示例性本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种上料台组件,其特征在于,所述上料台组件包括至少一个支撑组,所述支撑组包括两个支撑台,所述支撑台上具有非平面的支撑面,以便:两个所述非平面的支撑面形成允许待加工件倾斜上料的承托空间;其中,同一个所述支撑组的两个所述支撑台之间能够产生靠近和/或远离彼此的相对运动。2.根据权利要求1所述的上料台组件,其特征在于,同一个所述支撑组的两个所述支撑台之间能够以靠近/远离彼此的方式运动;并且/或者所述支撑组的两个所述支撑台之间能够以运动趋势相同的方式运动。3.根据权利要求2所述的上料台组件,其特征在于,所述上料台组件包括第一引导机构,同一个支撑组的两个支撑台能够沿所述第一引导机构运动。4.根据权利要求3所述的上料台组件,其特征在于,所述支撑台配置有第一驱动机构,所述第一驱动机构能够带动所述支撑台在第一引导机构的引导约束下的运动...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐德军马飞卢凯文
申请(专利权)人:青岛高测科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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