一种真空蒸镀装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种真空蒸镀装置。该真空蒸镀装置包括蒸发舟，设有多个用于容纳镀膜材料的蒸镀空间，蒸镀空间设有蒸发口；阻蒸电极柱，能够与电源导通，阻蒸电极柱用于对蒸发舟进行加热；调节板，转动设置于蒸发口；真空镀膜厚度测量仪，真空镀膜厚度测量仪的测量探头设置于蒸发口；中央控制器，与真空镀膜厚度测量仪和调节板之间信号连接。该真空蒸镀装置通过在蒸发口设置遮挡面积可调的调节板，并配合真空镀膜厚度测量仪对镀膜速率进行实时监测，能够在大面积基片旋转蒸镀中，实时调节每个调节板的转动角度，使蒸发口的开度得到调节，从而调节大面积基片径向方向的薄膜沉积均匀性，使得薄膜均匀性和一致性得到提升。使得薄膜均匀性和一致性得到提升。使得薄膜均匀性和一致性得到提升。

【技术实现步骤摘要】
一种真空蒸镀装置


[0001]本技术涉及真空蒸镀装置
，尤其涉及一种真空蒸镀装置。

技术介绍

[0002]在进行大面积基底旋转沉积薄膜时，现有的热蒸镀系统所使用的蒸发舟较难控制薄膜沉积的径向均匀性，导致薄膜的均匀性和一致性降低，严重影响薄膜沉积质量。
[0003]因此，如何提升大面积基底薄膜沉积质量，是本领域技术人员目前需要解决的技术问题。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本技术的目的在于提供一种真空蒸镀装置，以提升大面积基底薄膜沉积质量。
[0005]为了实现上述目的，本技术提供了如下技术方案：
[0006]一种真空蒸镀装置，包括：
[0007]蒸发舟，设有多个用于容纳镀膜材料的蒸镀空间，所述蒸镀空间设有蒸发口；
[0008]阻蒸电极柱，能够与电源导通，所述阻蒸电极柱用于对所述蒸发舟进行加热；
[0009]调节板，转动设置于所述蒸发口；
[0010]真空镀膜厚度测量仪，所述真空镀膜厚度测量仪的测量探头设置于所述蒸发口；
[0011]中央控制器，与所述真空镀膜厚度测量仪和所述调节板之间信号连接。
[0012]可选地，在上述真空蒸镀装置中，所述调节板通过安装轴转动设置于所述蒸发口。
[0013]可选地，在上述真空蒸镀装置中，所述真空蒸镀装置还包括蒸镀舱室底座，所述阻蒸电极柱和所述安装轴设置于所述蒸镀舱室底座上。
[0014]可选地，在上述真空蒸镀装置中，所述安装轴转动设置于所述蒸镀舱室底座，所述调节板固定设置在所述安装轴上，所述中央控制器与所述安装轴信号连接；
[0015]或者，所述安装轴固定设置于所述蒸镀舱室底座，所述调节板转动设置所述安装轴上，所述中央控制器与所述调节板之间信号连接。
[0016]可选地，在上述真空蒸镀装置中，所述调节板采用耐高温材质制造；
[0017]和/或，所述蒸发舟采用耐高温材质制造。
[0018]可选地，在上述真空蒸镀装置中，所述蒸发舟的数量为多个，每个所述蒸发舟内的镀膜材料相同，或者，至少两个所述蒸发舟内的镀膜材料不同。
[0019]使用本技术所提供的真空蒸镀装置时，将镀膜材料放置在蒸发舟的蒸镀空间内，将阻蒸电极柱与电源导通，以通过阻蒸电极柱对蒸发舟进行加热，使蒸镀空间内的镀膜材料蒸发，蒸发出的蒸发分子通过蒸发口排出；由于真空镀膜厚度测量仪的测量探头设置在蒸发口，因此，通过真空镀膜厚度测量仪可以对蒸发舟的镀膜速率进行在线检测，由于中央控制器与真空镀膜厚度测量仪和调节板之间信号连接，因此，真空镀膜厚度测量仪能够将检测到的镀膜速率传输给中央控制器，中央控制器通过内置的算法计算出大面积基片径
向镀膜厚度，并判断大面积基片径向镀膜的厚度差值是否超过差值阈值，如果大面积基片径向镀膜的厚度差值是否超过差值阈值，则通过中央控制器控制调节板转动，使得调节板对蒸发口的遮挡面积得到调节，也就是说，通过调节板将蒸发口的开度进行调节；由此可见，本技术所提供的真空蒸镀装置通过在每个蒸发口设置遮挡面积可调的调节板，并配合真空镀膜厚度测量仪对镀膜速率进行实时监测，能够在大面积基片旋转蒸镀中，实时调节每个调节板的转动角度，使蒸发口的开度得到调节，从而调节大面积基片径向方向的薄膜沉积均匀性，使得薄膜均匀性和一致性得到提升，提高了大面积基底薄膜沉积质量。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0021]图1为本技术实施例所提供的一种真空蒸镀装置的结构示意图；
[0022]图2为本技术实施例所提供的一种调节板遮挡蒸发口的结构示意图。
[0023]其中，100为蒸发舟，101为蒸发口，200为阻蒸电极柱，300为调节板，400为安装轴，500为蒸镀舱室底座。
具体实施方式
[0024]有鉴于此，本技术的核心在于提供一种真空蒸镀装置，以提升大面积基底薄膜沉积质量。
[0025]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0026]如图1至图2所示，本技术实施例公开了一种真空蒸镀装置，包括蒸发舟100、阻蒸电极柱200、调节板300、真空镀膜厚度测量仪和中央控制器。
[0027]其中，蒸发舟100设有多个用于容纳镀膜材料的蒸镀空间，蒸镀空间设有蒸发口101；阻蒸电极柱200能够与电源导通，阻蒸电极柱200用于对蒸发舟100进行加热；调节板300转动设置于蒸发口101；真空镀膜厚度测量仪的测量探头设置于蒸发口101；中央控制器与真空镀膜厚度测量仪和调节板300之间信号连接。
[0028]使用本技术所提供的真空蒸镀装置时，将镀膜材料放置在蒸发舟100的蒸镀空间内，将阻蒸电极柱200与电源导通，以通过阻蒸电极柱200对蒸发舟100进行加热，使蒸镀空间内的镀膜材料蒸发，蒸发出的蒸发分子通过蒸发口101排出；由于真空镀膜厚度测量仪的测量探头设置在蒸发口101，因此，通过真空镀膜厚度测量仪可以对蒸发舟100的镀膜速率进行在线检测，由于中央控制器与真空镀膜厚度测量仪和调节板300之间信号连接，因此，真空镀膜厚度测量仪能够将检测到的镀膜速率传输给中央控制器，中央控制器通过内置的算法计算出大面积基片径向镀膜厚度，并判断大面积基片径向镀膜的厚度差值是否超过差值阈值，如果大面积基片径向镀膜的厚度差值是否超过差值阈值，则通过中央控制器
控制调节板300转动，使得调节板300对蒸发口101的遮挡面积得到调节，也就是说，通过调节板300将蒸发口101的开度进行调节；由此可见，本技术所提供的真空蒸镀装置通过在每个蒸发口101设置遮挡面积可调的调节板300，并配合真空镀膜厚度测量仪对镀膜速率进行实时监测，能够在大面积基片旋转蒸镀中，实时调节每个调节板300的转动角度，使蒸发口101的开度得到调节，从而调节大面积基片径向方向的薄膜沉积均匀性，使得薄膜均匀性和一致性得到提升，提高了大面积基底薄膜沉积质量
[0029]应当理解，本技术所提供的调节板300可以是方形或者圆形等形状，蒸发口101亦可以是长条形或者圆形等形状，本技术对上述调节板300和蒸发口101的形状均不作具体限定，只要是能够满足使用要求的形状均属于本技术保护范围内。
[0030]上述中央控制器的内置算法属于现有技术，例如通过真空镀膜厚度测量仪检测出镀膜速率后，将镀膜速率乘以时间即可计算出大面积基片径向镀膜厚度，从而计算出大面积本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空蒸镀装置，其特征在于，包括：蒸发舟，设有多个用于容纳镀膜材料的蒸镀空间，所述蒸镀空间设有蒸发口；阻蒸电极柱，能够与电源导通，所述阻蒸电极柱用于对所述蒸发舟进行加热；调节板，转动设置于所述蒸发口；真空镀膜厚度测量仪，所述真空镀膜厚度测量仪的测量探头设置于所述蒸发口；中央控制器，与所述真空镀膜厚度测量仪和所述调节板之间信号连接。2.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述调节板通过安装轴转动设置于所述蒸发口。3.根据权利要求2所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述真空蒸镀装置还包括蒸镀舱室底座，所述阻蒸电极柱和所述安装轴设置于所述蒸镀舱室...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊继光，肖平，赵志国，赵东明，李梦洁，秦校军，秦文涛，伏丰义，
申请(专利权)人：华能新能源股份有限公司，
类型：新型
国别省市：