光学成像模块、相机模块与电子装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种光学成像模块，包含一成像透镜组、一光路转折元件以及一遮光元件。成像透镜组包含至少一光学透镜元件。光路转折元件设置于成像透镜组的像侧。光路转折元件具有一入光面、一出光面以及至少一光学反射面。遮光元件与光路转折元件的所述至少一光学反射面相对设置。遮光元件包含一间隔区，且间隔区与光路转折元件之间维持一间距。所述至少一光学反射面为一光学全反射面，且光学全反射面用于将光学成像模块的成像光线于光路转折元件之中进行全内反射。遮光元件的间隔区与光学全反射面之间形成一空气间隙。本实用新型专利技术还公开具有上述光学成像模块的相机模块及具有相机模块的电子装置。机模块的电子装置。机模块的电子装置。

【技术实现步骤摘要】
光学成像模块、相机模块与电子装置


[0001]本技术涉及一种光学成像模块、相机模块与电子装置，特别是一种适用于电子装置的光学成像模块与相机模块。

技术介绍

[0002]随着科技日新月异，具有高光学品质的镜头俨然成为不可或缺的一环。并且，配备光学镜头的电子装置的应用范围更加广泛，对于光学镜头的要求也是更加多样化。
[0003]然而，近年来传统的光学镜头已难以满足多元化发展下的电子产品的高光学品质需求，特别是在光学镜头内部的非成像光会造成光学品质不佳。已知的光学镜头其内部常会因反射面的透光现象而易形成非成像杂散光，故无法满足目前日渐严格的光学品质市场需求。因此，如何改良光学镜头来避免产生非成像杂散光，以满足现今对电子装置高规格的需求，已成为目前相关领域的重要议题。

技术实现思路

[0004]鉴于以上提到的问题，本技术揭露一种光学成像模块、相机模块与电子装置，有助于遮蔽特定的杂散光，借此提升总体的光学品质。
[0005]本技术的一实施例所揭露的光学成像模块，包含一成像透镜组、一光路转折元件以及一遮光元件。成像透镜组包含至少一光学透镜元件。光路转折元件设置于成像透镜组的像侧。光路转折元件具有一入光面、一出光面以及至少一光学反射面。遮光元件与光路转折元件的所述至少一光学反射面相对设置。遮光元件包含一间隔区，且间隔区与光路转折元件之间维持一间距。所述至少一光学反射面为一光学全反射面，且光学全反射面用于将光学成像模块的成像光线于光路转折元件之中进行全内反射。遮光元件的间隔区与光学全反射面之间形成一空气间隙。
[0006]本技术的另一实施例所揭露的光学成像模块，包含一成像透镜组、一光路转折元件以及一遮光元件。成像透镜组包含至少一光学透镜元件。光路转折元件设置于成像透镜组的像侧。光路转折元件具有一入光面、一出光面以及至少一光学反射面。遮光元件与光路转折元件的所述至少一光学反射面相对设置。遮光元件包含一间隔区，且间隔区与光路转折元件之间维持一间距。遮光元件还包含一固定区。固定区设置有一黏着元件，且黏着元件用于将遮光元件固定至光路转折元件。遮光元件的间隔区与光路转折元件的所述至少一光学反射面之间形成一空气间隙。
[0007]本技术的另一实施例所揭露的光学成像模块，包含一成像透镜组、一光路转折元件以及一遮光元件。成像透镜组包含至少一光学透镜元件。光路转折元件设置于成像透镜组的像侧。光路转折元件具有一入光面、一出光面以及至少一光学反射面。遮光元件与光路转折元件的所述至少一光学反射面相对设置。遮光元件包含一间隔区，且间隔区与光路转折元件之间维持一间距。遮光元件的间隔区与光路转折元件的所述至少一光学反射面之间形成一空气间隙。空气间隙的宽度为d，其满足下列条件：0.002[毫米]<d<0.10[毫米]。
[0008]本技术的另一实施例所揭露的相机模块，包含前述的光学成像模块以及一电子感光元件，其中电子感光元件设置于光学成像模块的一成像面上。
[0009]本技术的另一实施例所揭露的电子装置，包含前述的相机模块。
[0010]根据上述实施例所揭露的光学成像模块，通过遮光元件与其对应元件的配置，有助于遮蔽特定的杂散光，借此提升总体的光学品质。并且，通过在间隔区与所述至少一光学反射面之间配置空气间隙，可提高遮蔽效率，并且保护所述至少一光学反射面的反射功效。
[0011]当d满足上述条件时，可防止遮光元件与光路转折元件松脱。
[0012]以上关于本
技术实现思路
的说明及以下实施方式的说明是用以示范与解释本技术的原理，并且提供本技术的专利申请范围更进一步的解释。
附图说明
[0013]图1是根据本技术的第一实施例所绘示的光学成像模块的立体示意图。
[0014]图2是图1的光学成像模块的分解示意图。
[0015]图3是图1的光学成像模块安装于相机模块内的侧面剖视示意图。
[0016]图4是图3的光学成像模块的AA区域的放大示意图。
[0017]图5是图1的光学成像模块的下视示意图。
[0018]图6是图5的光学成像模块的遮光元件搭配黏着元件的正视示意图。
[0019]图7是根据本技术的第二实施例所绘示的光学成像模块的分解示意图。
[0020]图8是图7的光学成像模块的遮光元件搭配黏着元件的正视示意图。
[0021]图9是根据本技术的第三实施例所绘示的遮光元件搭配黏着元件的正视示意图。
[0022]图10是根据本技术的第四实施例所绘示的遮光元件搭配黏着元件的正视示意图。
[0023]图11是根据本技术的第五实施例所绘示的遮光元件搭配黏着元件的正视示意图。
[0024]图12是根据本技术的第六实施例所绘示的相机模块的侧面剖视示意图。
[0025]图13是图12的相机模块的光学成像模块的BB区域的放大示意图。
[0026]图14是图12的相机模块的光学成像模块的分解示意图。
[0027]图15是图14的光学成像模块的遮光元件搭配黏着元件的正视示意图。
[0028]图16是根据本技术的第七实施例所绘示的相机模块的侧面剖视示意图。
[0029]图17是图16的相机模块的光学成像模块的遮光元件搭配黏着元件的正视示意图。
[0030]图18绘示依照本技术第八实施例的一种电子装置的一侧的立体示意图。
[0031]图19绘示图18的电子装置的另一侧的立体示意图。
[0032]图20绘示以超广角相机模块撷取影像的示意图。
[0033]图21绘示以高像素相机模块撷取影像的示意图。
[0034]图22绘示以摄远相机模块撷取影像的示意图。
[0035]图23绘示依照本技术第九实施例的一种电子装置的一侧的立体示意图。
[0036]图24绘示依照本技术第十实施例的一种电子装置的立体示意图。
[0037]图25绘示图24的电子装置的侧视示意图。
[0038]图26绘示图24的电子装置的上视示意图。
[0039]【符号说明】
[0040]1、6、7、80、80a、80b、80c、90、90a、90b、90c、90d、90e、90f、90g、90h、100:相机模块
[0041]11、21、61、71:光学成像模块
[0042]110、210、610、710:光轴
[0043]111、211、611、711:成像透镜组
[0044]1111、2111、6111、7111:光学透镜元件
[0045]112、212、612、712:光路转折元件
[0046]1121、6121、7121:入光面
[0047]1122、6122、7122:出光面
[0048]1123a、1123b、1123c、1123d、2123、6123a、6123b、6123c、71本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学成像模块，其特征在于，包含：一成像透镜组，包含至少一光学透镜元件；一光路转折元件，设置于所述成像透镜组的像侧，其中所述光路转折元件具有一入光面、一出光面以及至少一光学反射面；以及一遮光元件，与所述光路转折元件的所述至少一光学反射面相对设置，其中所述遮光元件包含一间隔区，且所述间隔区与所述光路转折元件之间维持一间距；其中，所述至少一光学反射面为一光学全反射面，且所述光学全反射面用于将所述光学成像模块的成像光线于所述光路转折元件之中进行全内反射；其中，所述遮光元件的所述间隔区与所述光学全反射面之间形成一空气间隙。2.根据权利要求1所述的光学成像模块，其特征在于，所述空气间隙于所述遮光元件靠近所述出光面的位置与外部连通。3.根据权利要求1所述的光学成像模块，其特征在于，所述遮光元件还包含一固定区，所述固定区设置有一黏着元件，且所述黏着元件用于将所述遮光元件固定至所述光路转折元件。4.根据权利要求3所述的光学成像模块，其特征在于，所述遮光元件的所述固定区披覆有所述黏着元件的区域面积为Ab，所述遮光元件的总区域面积为As，其满足下列条件：0.05<Ab/As<0.65。5.根据权利要求4所述的光学成像模块，其特征在于，所述遮光元件的所述固定区披覆有所述黏着元件的区域面积为Ab，所述遮光元件的总区域面积为As，其满足下列条件：0.10<Ab/As<0.60。6.根据权利要求1所述的光学成像模块，其特征在于，所述光路转折元件沿所述光学成像模块之一光轴的方向的高度为H，其满足下列条件：1毫米<H<5毫米。7.根据权利要求1所述的光学成像模块，其特征在于，所述空气间隙的宽度为d，其满足下列条件：0.002毫米<d<0.10毫米。8.根据权利要求7所述的光学成像模块，其特征在于，所述空气间隙的宽度为d，其满足下列条件：0.005毫米<d<0.07毫米。9.根据权利要求1所述的光学成像模块，其特征在于，所述空气间隙的宽度为d，所述遮光元件的厚度为t，其满足下列条件：0.03<d/t<7.50。10.根据权利要求1所述的光学成像模块，其特征在于，所述遮光元件与所述光路转折元件之间有实体承靠。11.根据权利要求1所述的光学成像模块，其特征在于，所述遮光元件还包含一裁减开口，所述裁减开口对应所述至少一光学反射面，且所述裁减开口与所述间隔区连接设置。12.根据权利要求1所述的光学成像模块，其特征在于，所述遮光元件对应至所述空气间隙的区域面积为Aa，所述遮光元件的总区域面积为As，其满足下列条件：0.10<Aa/As<0.90。
13.根据权利要求12所述的光学成像模块，其特征在于，所述遮光元件对应至所述空气间隙的区域面积为Aa，所述遮光元件的总区域面积为As，其满足下列条件：0.15<Aa/As<0.85。14.一种光学成像模块，其特征在于，包含：一成像透镜组，包含至少一光学透镜元件；一光路转折元件，设置于所述成像透镜组的像侧，其中所述光路转折元件具有一入光面、一出光面以及至少一光学反射面；以及一遮光元件，与所述光路转折元件的所述至少一光学反射面相对设置，其中所述遮光元件包含一间隔区，且所述间隔区与所述光路转折元件之间维持一间距；其中，所述遮光元件还包含一固定区，所述固定区设置有一黏着元件，且所述黏着元件用于将所述遮光元件固定至所述光路转折元件；其中，所述遮光元件的所述间隔区与所述光路转折元件的所述至少一光学反射面之间形成一空气间隙。15.根据权利要求14所述的光学成像模块，其特征在于，所述遮光元件的所述固定区披覆有所述黏着元件的区域面积为Ab，所述遮光元件的总区域面积为As，其满足下列条件：0.05<Ab/As<0.65。16.根据权利要求15所述的光学成像模块，其特征在于，所述遮光元件的所述固定区披覆有所述黏着元件的区域面积为Ab，所述遮光元件的总区域面积为As，其满足下列条件：0.10<Ab/As<0.60。17.根据权利要求14所述的光学成像模块，其特征在于，所述光路转折元件沿所述光学成像模块之一光轴的方向的高度为...

【专利技术属性】
技术研发人员：童伟哲，张临安，周明达，林正峰，
申请(专利权)人：大立光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：