锗光电探测器及通过应力记忆提高其长波响应的方法技术

本发明专利技术提供一种锗光电探测器及通过应力记忆提高其长波响应的方法，属于锗光电探测器技术领域，包括以下步骤：在单晶硅衬底上以氧化硅开窗定义位置，选择性外延生长单晶锗层，然后沉积多晶硅层并刻蚀成覆盖锗层的图形，再沉积氮化硅，所述氮化硅将所述多晶硅层上方和四周全部包围；在高温下对此结构进行快速热退火；退火完成后去除氮化硅，再制成探测器。再制成探测器。再制成探测器。

【技术实现步骤摘要】
锗光电探测器及通过应力记忆提高其长波响应的方法


[0001]本专利技术涉及锗光电探测器
，具体涉及一种锗光电探测器及通过应力记忆提高其长波响应的方法。

技术介绍

[0002]硅基外延锗光电探测器弥补了硅探测器长波截止波长为1.1微米左右的局限，将响应波长延伸进入短波红外波段(SWIR，1.1~2.5微米)，覆盖了对光通信非常重要的红外O波段（1260nm~1360nm）、S波段（1460nm~1530nm）、C波段（1530nm~1565nm）。硅基锗外延探测器还具有同CMOS工艺兼容和易于集成的优点，成为迅速崛起的硅基光电集成芯片的关键器件之一，广泛用于光通信、光传感和光计算等领域。然而，锗对红外光波的吸收系数在1550nm以后急剧下降，使得锗光电探测器无法满足短波红外的更长波段乃至中红外波段的探测需求，而这些需求对于正在兴起的光传感（如激光雷达、生物医学检测等）和扩增的光通信波段 [如L波段（1565nm~1625nm）、U波段（1625
‑
1675 nm）] 非常重要，因而锗光电探测器在这些领域的应用受到限制。
[0003]学术界和工业界持续努力提高锗光电探测器的长波响应，发现在锗中通过掺入一定杂质和/或制造拉伸应变减小禁带宽度，可以有效提升锗在长波段的吸收系数和增加截止波长，探测波长2微米甚至更长的红外光波。提高锗光电探测器长波响应的现有技术可以分为几类：方法一，硅衬底和锗外延材料之间热膨胀系数存在差别，在硅衬底上高温外延锗而恢复到室温下使用时，由于锗的热膨胀系数大于硅，锗冷却后比硅产生更多收缩，因而在锗中产生拉伸应变；方法二，锗作为吸收层的金属
‑
半导体
‑
金属（MSM）探测器中，利用金属或氮化硅等高应力源层的附着或邻近，在锗中产生拉伸应变（参见专利CN103985788B、CN106653940B）；方法三，利用外延锗时原位掺入锡、铅等杂质生长锗锡、锗铅合金，产生能带结构的变化和减小禁带宽带，可以探测更长波长的光波（参见专利CN112534590A、CN110729373B）。
[0004]以上方法都有效提升锗在长波段的吸收系数和扩展长波探测限，但又各有其局限性：方法一，由于锗熔点较低和外延锗经历高温容易产生缺陷带来外延的高温限制，产生的拉伸应变效果有限，一般在0.3%以下；方法二只适用于MSM探测器，这类探测器虽然具有较高的带宽，但暗电流巨大，金属对光的吸收较高，导致信噪比有限，应用场景受到限制；方法三的长波响应提升效果显著，但是生长高质量的锗锡、锗铅合金非常困难，其外延厚度受到限制、容易产生缺陷和高暗电流，器件性能受限，并且掺杂的实施需要额外的掺杂源，还对外延设备腔体造成污染。因此需要开发新的拉伸应变锗制造技术，克服以上方法的缺点，或作为以上方法的协同或补充，取得更好的提升长波响应效果。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种锗光电探测器及通过应力记忆提高其长波响应的方法，解决提升锗在长波段的吸收系数和扩展长波探测限的现有技术存在的问题。
[0006]本专利技术公开了一种通过应力记忆技术提高锗光电探测器长波响应的方法，包括以下步骤：在单晶硅衬底上以氧化硅开窗定义位置，选择性外延生长单晶锗层，然后沉积多晶硅层并刻蚀成图形覆盖锗层，再沉积氮化硅，所述氮化硅将所述多晶硅层上方和四周全部包围；在高温下对此结构进行快速热退火；退火完成后去除氮化硅，再制成探测器。
[0007]在高温下快速热退火时，各种材料都会按照表1中的线性膨胀系数发生热膨胀，这一膨胀是可以恢复的弹性形变（Elastic deformation）；从表1中各材料的杨氏模量可以比较材料的刚度（Stiffness），按照氮化硅>单晶硅（多晶硅杨氏模量可以认为和单晶硅相同）>单晶锗>氧化硅的顺序依次降低。坚硬的氮化硅从上方和四周包围了多晶硅，迫使多晶膨胀时主要向下挤压较软的锗外延层；类似地，硅衬底也向上膨胀挤压较软的锗外延层；而锗外延的刚度大于四周的氧化硅，因此可以向外膨胀挤压氧化硅。这样，锗外延层在高温退火时形成了在竖直方向上压缩而水平方向上拉伸的应变。
[0008]当温度继续上升到一定程度时，多晶硅的晶粒会产生再结晶（Recrystallization）现象，这时多晶的膨胀就同时包含了一部分不可恢复的塑性形变（Plastic deformation）和一部分可恢复的弹性形变；在温度下降到室温时，多晶的弹性形变消失，但这部分塑性形变得以保持，继续向下挤压锗层，因此锗在竖直方向上呈现压缩应变、在水平方向则呈现拉伸应变。总的效果就是，快速热退火使多晶硅再结晶产生的塑性形变，在恢复室温时得以保持，继续向下挤压锗外延层，并在其中产生竖直方向的压缩应变和水平方向的拉伸应变，降低了锗的禁带宽度而提升了对长波光的吸收系数，因此对长波光产生更强的响应，并增加了光电探测的截止波长。
[0009]进一步的，所述单晶硅衬底为SOI衬底或体硅衬底。
[0010]进一步的，所述单晶硅衬底为SOI衬底时，所述单晶硅衬底自下而上包含了硅衬底、埋氧化硅层和顶硅层三个部分。
[0011]进一步的，所述埋氧化硅层厚度为0.1~3微米。较厚的埋氧化层可以降低射频频段下衬底的寄生效应和提升有源器件带宽，但同时也会增加SOI衬底制造成本。
[0012]进一步的，所述顶硅层厚度大于0.2微米。确保硅基锗外延的质量和P型掺杂层的横向导电能力。
[0013]进一步的，所述顶硅层自下而上又包含了 P层、掺杂浓度渐次增高的P
+
层和P
++
层。
[0014]进一步的，所述氧化硅通过两次沉积，分别沉积第一氧化硅层和第二氧化硅层，所述第一氧化硅层用于定义锗外延窗口，所述第二氧化硅层用于定义接触孔。
[0015]进一步的，所述第一氧化硅层厚度为0.1
‑
2微米。
[0016]进一步的，所述第二氧化硅层厚度为0.3
‑
1微米。
[0017]进一步的，所述单晶锗层包括非掺杂外延锗层和掺杂外延锗层。
[0018]进一步的，所述单晶锗层厚度与所述第一氧化硅层厚度差距不超过0.1微米。确保
锗外延后表面基本平坦，有利于同CMOS工艺兼容实现晶体管集成和多层技术连线。
[0019]进一步的，所述掺杂外延锗层厚度0.05~0.2微米，表面掺杂浓度为1x10
18
~5x10
20
cm
‑3。
[0020]进一步的，所述氮化硅厚度为0.05~0.3微米。
[0021]进一步的，所述多晶硅层包括掺杂N
+
层和掺杂N
++
层。
[0022]进一步的，所述多晶硅层经光刻刻蚀后的图形略大于所述锗外延窗口的尺寸，即多晶硅层宽度比锗的上表面层宽度大0.5
‑
1微米。
[0023]进一步的，所述多晶硅层厚度0.05~本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种通过应力记忆技术提高锗光电探测器长波响应的方法，其特征在于：包括以下步骤：在单晶硅衬底上以氧化硅开窗定义位置，选择性外延生长单晶锗层，然后沉积多晶硅层并刻蚀成覆盖锗层的图形，再沉积氮化硅，所述氮化硅将所述多晶硅层上方和四周全部包围；在高温下对此结构进行快速热退火；退火完成后去除氮化硅，再制成探测器。2.根据权利要求1所述的一种通过应力记忆技术提高锗光电探测器长波响应的方法，其特征在于：所述单晶硅衬底为SOI衬底或体硅衬底。3.根据权利要求2所述的一种通过应力记忆技术提高锗光电探测器长波响应的方法，其特征在于：所述单晶硅衬底为SOI衬底时，所述单晶硅衬底自下而上包含了硅衬底、埋氧化硅层和顶硅层三个部分。4.根据权利要求1所述的一种通过应力记忆技术提高锗光电探测器长波响应的方法，其特征在于：所述多晶硅层厚度0.05~0.2微米，表面掺杂浓度为1x10
18
~5x10
20 cm
‑3。5.根据权利要求1所述的一种通过应力...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨荣，余明斌，
申请(专利权)人：上海铭锟半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：