一种高光泽弹性磨块及其制备工艺制造技术

本申请公开一种高光泽弹性磨块及其制备工艺，按质量百分比计，高光泽弹性磨块包括如下原料混合后制得：树脂25

【技术实现步骤摘要】
一种高光泽弹性磨块及其制备工艺


[0001]本申请涉及磨块
，特别涉及一种高光泽弹性磨块及其制备工艺。

技术介绍

[0002]随着建筑行业的不断发展，陶瓷砖开始衍生出各种不同的种类，一般的陶瓷砖需经过压坯、施加釉料、高温烧制和抛光等工艺制成，瓷砖产品要求表面平整、光滑，具有一定的耐污性；因此，抛光工序起着至关重要的作用。
[0003]目前，市场上流行的弹性磨块，经其抛磨后的瓷砖光泽度一般只有40
‑
70度左右，并且瓷砖表面容易产生雾状物(俗称抛光起雾)或者产生划痕，后续还需要采用超洁亮纳米液进行再次抛光，才能使瓷砖表面光泽度达到90度以上，同时也能修复表面的划痕。

技术实现思路

[0004]本申请的主要目的是提供一种高光泽弹性磨块及其制备工艺，旨在解决陶瓷砖经现有的弹性磨块抛光后，光泽度较低，且容易产生雾状物和划痕的技术问题。
[0005]为实现上述目的，本申请提出一种高光泽弹性磨块，按质量百分比计，包括如下原料混合后制得：树脂25
‑
53％、润滑剂1
‑
3％、成孔剂20
‑
40％、填料5
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15％、金刚石7
‑
15％、螯合剂0.1
‑
1.0％、分散剂0.1
‑
1.0％、二氧化硅3
‑
15％和氧化铈8
‑
20％；所述树脂由酚醛树脂和密胺树脂复配而成。
[0006]采用酚醛树脂和密胺树脂这二种树脂组合使用，获得的磨块具有足够的足够的耐热性和韧性，即磨块具有足够的锋利度和良好的使用寿命，经该磨块抛光后的瓷砖产品光泽度较高，且不容易起雾。选用SiO2和氧化铈作助抛光材料，获得的瓷砖光泽度进一步提高。
[0007]优选地，所述酚醛树脂和所述密胺树脂的质量比为(3.2
‑
100)：(5
‑
60)。
[0008]优选地，所述成孔剂为氯化钠，所述氯化钠需要经过预处理，所述预处理步骤为：将氯化钠溶解于水后加入Na2CO3、NaOH和BaCl2进行沉淀，过滤掉沉淀物，去除盐中的Ca
2+
、Mg
2+
和SO2‑4杂质离子得到氯化钠溶液，将其结晶后破碎，得到纯度≥99.9％的所述氯化钠。
[0009]成孔剂经过上述预处理工序，获得的孔径数量和尺寸适宜，将该磨块用于瓷砖的抛光，砖面不易起雾，瓷砖产品的镜面效果以及光洁度较高。
[0010]优选地，破碎后的所述氯化钠的尺寸为细度为20
‑
150目。
[0011]优选地，所述二氧化硅为纳米二氧化硅，所述纳米二氧化硅的尺寸为10
‑
150纳米。本方案中的二氧化硅采用纳米级，10
‑
150纳米的二氧化硅可以进一步改善瓷砖的光泽度。
[0012]优选地，所述填料为硫酸钡或钛白粉中的至少一种。
[0013]优选地，所述润滑剂为硬脂酸。硬脂酸锌是起润滑剂和脱模剂的作用。
[0014]优选地，所述螯合剂一般为乙二胺四乙酸二钠(EDTA)、氨基三乙酸(NTA)、二乙基三胺五乙酸(DTPA)、柠檬酸钠及葡萄糖酸钠上述物质中的至少一种。
[0015]优选地，所述分散剂一般为硅酸钠、三聚磷酸钠、六偏磷酸钠及聚丙烯酸钠上述物
质的至少一种。
[0016]除此之外，本专利技术还提出一种如上述任一项所述的高光泽弹性磨块的制备工艺，包括如下步骤：按质量百分比，将所述树脂、所述润滑剂、所述成孔剂、所述填料、所述金刚石、所述螯合剂、所述分散剂、所述二氧化硅和所述氧化铈置于容器中搅拌混合0.5
‑
4h，再经过热压成形，得到磨块工作层，将磨块工作层背面与弹性橡胶块和塑料底座用胶水粘合后即得到所述高光泽弹性磨块。
[0017]优选地，热压成形时的压力为12
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20MPa，温度为140
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180℃，保温时间为12
‑
18min。
[0018]本专利技术的高光泽弹性磨块具有如下有益效果：以酚醛树脂和密胺树脂组合作为结合剂，采用优选的金刚石为主磨料，以纳米二氧化硅、氧化铈为辅助磨料，以硫酸钡为填料，以硬脂酸锌为润滑剂和脱模剂，以预处理过后的氯化钠为成孔剂，同时添加适量的螯合剂和分散剂，解决瓷砖表面的抛光渣沉积问题，改善抛光微粉在水中的分散状态，从而提高抛光效率，获得的磨块具有足够的锋利度和良好的使用寿命，经该磨块抛光后的瓷砖产品光泽度较高，且不容易起雾，不容易产生划痕，在精抛磨头上使用上述磨块后，瓷砖的光泽度可达到90度以上，不用再打超洁亮纳米液，只需打一道防污剂即可。
具体实施方式
[0019]为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。
[0020]目前，瓷砖抛光中存在的问题主要是抛光后的瓷砖光泽度不够、表面起雾、有划痕。主要原因是磨块的锋利度不够和抛光渣在瓷砖表面沉积，一般由以下几个原因引起：(1)磨块中的成孔剂选择不当、添加量不合适，导致磨块中孔的数量、尺寸和形状不合适。当磨块中产生的孔的数量不够时，抛光下来的部分余渣会残留在瓷砖表面，影响抛光效率，且容易导致起雾。目前常用的成孔剂有纯碱、工业盐、糖等。现在多数厂家使用工业盐作成孔剂，其中含有的Ca
2+
、Mg
2+
和SO
42
‑
离子，会使抛光渣在砖表面凝结，影响抛光效率并且起雾，所以成孔剂的加入量不能过大，否则会影响磨块的抛光效果。(2)釉面在抛光过程中，由于产生的抛光渣很细，釉料会产生水解现象，释出Ca
2+
、Mg
2+
等离子，这些离子使得抛光渣容易凝结沉淀在瓷砖表面，影响抛光效果，产生起雾、发蒙现象；另外，陶瓷厂抛光线上用的水一般都是循环使用，水的硬度高，含有较高的Ca
2+
、Mg
2+
等离子。加入适量的螯合剂，把Ca
2+
、Mg
2+
等离子螯合剂起来，使得抛光渣不易在瓷砖表面凝结，可以有效解决抛光过程中瓷砖表面起雾发蒙的问题。(3)弹性磨块在抛光过程中，与水形成悬浮液。为了让金刚石和各种辅助材料充分分散悬浮均匀分散在水中，不沉淀在瓷砖的表面，充分提高抛光效率，加入分散剂是非常必要的。(4)磨块结合剂对金刚石的黏结效果。若把持过于牢固，金刚石不易脱落，即磨块的自锐性差，瓷砖的光泽度较低；若把持过松，金刚石脱落太快，磨块的寿命过短。(5)金刚石的质量对抛光后的瓷砖光泽度影响较大。(6)辅助抛光材料的选用。现有技术中往往选用碳化硅和刚玉作为辅助抛光材料，这二种材料的成本较低，但抛出来的瓷砖产品光泽度不够高。
[002本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高光泽弹性磨块，其特征在于，按质量百分比计，包括如下原料混合后制得：树脂25
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53％、润滑剂1
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3％、成孔剂20
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40％、填料5
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15％、金刚石7
‑
15％、螯合剂0.1
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1.0％、分散剂0.1
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1.0％、二氧化硅3
‑
15％和氧化铈8
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20％；所述树脂由酚醛树脂和密胺树脂复配而成。2.如权利要求1所述的一种高光泽弹性磨块，其特征在于，所述酚醛树脂和所述密胺树脂的质量比为(3.2
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100)：(5
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60)。3.如权利要求1所述的一种高光泽弹性磨块，其特征在于，所述成孔剂为经过预处理的氯化钠，所述预处理步骤为：将氯化钠溶解于水后加入Na2CO3、NaOH和BaCl2进行沉淀，过滤掉沉淀物得到氯化钠溶液，将其结晶后破碎，得到纯度≥99.9％的所述氯化钠。4.如权利要求3所述的一种高光泽弹性磨块，其特征在于，破碎后的所述氯化钠的细度为20
‑
150目。5.如权利要求1所述的一种高光泽弹性磨块...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡文烨，蔡飞虎，
申请(专利权)人：佛山市玻尔新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：