一种像素结构制造技术

本实用新型专利技术揭示了一种像素结构，IC层上设有光源层，所述光源层由隔离层间隔为多个相互独立的发光区域，所述发光区域之间相互电学隔断，每个所述发光区域上设有由独立的阴极，每个所述阴极制作在CF层上，所述CF层制作在CG基板上，每个所述阴极和CF层之间均设有光学结构层。本实用新型专利技术的像素显示结构使得高ppi的OLED显示的串扰问题得以改善，特别是在硅基微显示领域等CG封装的显示领域，具有较强的使用性能。性能。性能。

【技术实现步骤摘要】
一种像素结构


[0001]本技术涉及显示
，尤其涉及硅基显示的像素结构技术。

技术介绍

[0002]进入21世纪以来，人类对信息技术的需求不断增大，伴随着互联网、移动互联网、物联网的发展，信息呈现爆炸式增长。人类从外界获取信息的方式依然主要来自视觉，因此，显示器作为信息的重要载体，人类对显示技术的需求也日益增加.现阶段显示技术包括阴极射线管，液晶显示器，有机发光显示器等。然而，人们对画质质量需求的提高，电子产品尺寸向更小发展的趋势，液晶显示器(liquid crystal display,LCD)己经取代阴极射线管(Cathode Ray Tube,CRT)显示成为主流显示技术。然而，随着移动互联网的发展，LCD产品增长趋于饱和，人们对更轻薄，低功耗，宽可视角等一系列优点的有机发光二极管(Organic Light
‑
Emitting Diode,OLED)显示更加青睐，AMOLED更被誉为下一代显示技术。
[0003]随着OLED手机，电视等显示的兴起，为了更方便的获取资讯，解放双手，微显示作为新的显示方式诞生。硅基微显示搭配光机模组可以营造出逼真的虚拟现实场景，被认为最有希望取代手机的新型显示，但目前的像素结构应用到高ppi的OLED显示中，会存在串扰问题。

技术实现思路

[0004]本技术所要解决的技术问题是实现一种像素结构，可以有效降低硅基显示ppi高造成的显示串扰问题。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用的技术方案为：一种像素结构，IC层上设有光源层，所述光源层由隔离层间隔为多个相互独立的发光区域，所述发光区域之间相互电学隔断，每个所述发光区域上设有由独立的阴极，每个所述阴极制作在CF层(color filter彩色滤光片)上，所述CF层制作在CG基板(cover glass盖板玻璃)上，每个所述阴极和CF层之间均设有光学结构层。
[0006]所述光学结构层为微透镜。
[0007]所述光源层由阳极、发光层和阳极保护层构成，所述阳极制作在IC层上。
[0008]所述发光层为OLED层
[0009]所述CG层和IC层周边设有一圈用于密封的密封层。
[0010]每个像素结构设有三个发光区域，分别用于发出红色光、蓝色光和绿色光。
[0011]每个像素结构的三个发光区域并排设置。
[0012]本技术的像素显示结构使得高ppi的OLED显示的串扰问题得以改善，特别是在硅基微显示领域等CG封装的显示领域，具有较强的使用性能。
附图说明
[0013]下面对本技术说明书中每幅附图表达的内容及图中的标记作简要说明：
[0014]图1为像素结构示意图；
[0015]上述图中的标记均为：1、CG基板；2、隔离层；3、光学结构层；4、OLED层；5、IC层；6、阳极保护层；7、阴极；8、阳极；9、密封层；CF层。
具体实施方式
[0016]下面对照附图，通过对实施例的描述，本技术的具体实施方式如所涉及的各构件的形状、构造、各部分之间的相互位置及连接关系、各部分的作用及工作原理、制造工艺及操作使用方法等，作进一步详细的说明，以帮助本领域技术人员对本技术的专利技术构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解。
[0017]像素结构如图1所示，IC层5上设有光源层，光源层由阳极8、发光层和阳极8保护层6构成，阳极8制作在IC层5上，其中发光层为OLED层4，光源层由隔离层2间隔为多个相互独立的发光区域，优选设置三个发光区域，分别用于发出红色光、蓝色光和绿色光，并且像素结构的三个发光区域并排设置。隔离层2作为阳极8和OLED层4的隔离机构，具有接近90
°
甚至负的tape角，使得蒸镀的OLED层4之间相互电学隔断。
[0018]CF层10制作在CG基板上，阴极7层与发光区域匹配为多个独立的机构，例如设有三个独立的CF层10和对应的阴极7层，独立的阴极7层分别接触对应的发光区域，当CG基本和IC层5相互键合时，可以实现OLED电路通路，正常发光。
[0019]每个阴极7和CF层10之间均设有光学结构层3，光学结构层3优选采用微透镜，为保证独立的像素结构密封可靠，CG层和IC层5周边设有一圈用于密封的密封层9，一般有密封胶填充构成圆形结构。
[0020]上述像素结构能够使得高ppi的OLED显示的串扰问题得以改善，主要原理是OLED层4制作时是整面成膜，发光像素正常电流流向是经过阳极8，OLED层4到达阴极7，引出到负电源实现电流回路，图1上，就是从下往上；当PPI很高时，相邻像素的距离很近，电流的流向有可能是阳极8，发光像素的OLED，横向串到相邻像素的oled，再往上到阴极7，导致相邻像素发光，形成串扰；增加隔离层2后可以实现OLED相邻像素之间的电气隔离；但带来的问题是会使得相邻像素的阴极7之间也是隔断的，无法形成电流回路，因此需要把阴极7单独到CG上，从而可以避免阴极之间的隔断。
[0021]上面结合附图对本专利技术进行了示例性描述，显然本技术具体实现并不受上述方式的限制，只要采用了本专利技术的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进，或未经改进将本专利技术的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种像素结构，IC层上设有光源层，其特征在于：所述光源层由隔离层间隔为多个相互独立的发光区域，所述发光区域之间相互电学隔断，每个所述发光区域上设有由独立的阴极，每个所述阴极制作在CF层上，所述CF层制作在CG基板上，每个所述阴极和CF层之间均设有光学结构层。2.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于：所述光学结构层为微透镜。3.根据权利要求2所述的像素结构，其特征在于：所述光源层由阳极、发光层和阳极保护层构成，所述阳极...

【专利技术属性】
技术研发人员：李光，
申请(专利权)人：安徽熙泰智能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：