接近和远离金属靶标测量装置、接近开关和位移传感器制造方法及图纸

本方案公开了一种接近和远离金属靶标测量装置、接近开关和位移传感器，包括，采样电路，用于将目标金属物体的接近信号转换成第一电信号；信号处理电路，连接于所述的采样电路，用于根据第一电信号生成第二电信号，且第二电信号包括信号处理电路对第一电信号的处理结果信息；综合处理电路，连接于所述的信号处理电路，用于根据所述的第二电信号确定目标金属物体的接近信息，以及，用于根据接近信息给出接近响应。本方案提出一种接近和远离金属靶标测量装置，基于该测量装置能够实现对金属结构接近或远离过程的检测，能够实现多种基于接近和远离检测的测量功能。和远离检测的测量功能。和远离检测的测量功能。

【技术实现步骤摘要】
接近和远离金属靶标测量装置、接近开关和位移传感器


[0001]本技术属于距离测量
，尤其涉及一种接近和远离金属靶标测量装置、接近开关和位移传感器。

技术介绍

[0002]涉及到距离检测的装置有接近开关、位移传感器等。
[0003]接近开关又称无触点接近开关，是理想的电子开关量传感器。当金属检测体接近开关的感应区域，开关就能无接触，无压力、无火花、发出电气指令，准确反应出运动机构的位置和行程，即使用于一般的行程控制，其定位精度、操作频率、使用寿命、安装调整的方便性和对恶劣环境的适用能力，是一般机械式行程开关所不能相比的。
[0004]目前，接近开关的类型有无源接近开关，涡流式接近开关、电容式接近开关、霍尔接近开关、光电接近开关等。其中涡流式接近开关是一种也叫电感式接近开关，它是利用导电物体在接近这个能产生电磁场接近开关时，使物体内部产生涡流，这个涡流反作用到接近开关，使开关内部电路参数发生变化，由此识别出有无导电物体移近，进而控制开关的通或断。它的工作原理是，由电感线圈和电容及晶体管组成震荡器，并产生一个交变磁场，当有金属物本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种接近和远离金属靶标测量装置，其特征在于，包括，采样电路（1），用于将目标金属物体（5）的接近信号转换成第一电信号；信号处理电路（2），连接于所述的采样电路（1），用于根据第一电信号生成第二电信号，且第二电信号包括信号处理电路（2）对第一电信号的处理结果信息；综合处理电路（3），连接于所述的信号处理电路（2），用于根据所述的第二电信号确定目标金属物体（5）的接近信息，以及，用于根据接近信息给出接近响应。2.根据权利要求1所述的接近和远离金属靶标测量装置，其特征在于，所述的采样电路（1）包括，激励电路，用于输出周期性激励信号，以产生周期性变化的电磁场；次级线圈L2，用于根据周期性变化的电磁场产生电动势，且相应于目标金属物体（5）设置，通过目标金属物体（5）对其所产生电动势的影响将目标金属物体（5）的接近信号转换成第一电信号。3.根据权利要求2所述的接近和远离金属靶标测量装置，其特征在于，所述的激励电路包括相互连接的电容C1和初级线圈L1，所述电容C1远离所述初级线圈L1的一端连接于所述的综合处理电路（3）以受综合处理电路（3）控制输出周期性激励信号；初级线圈L1远离电容C1的一端连接于地端，用于在周期性激励信号的作用下产生周期性变化的电磁场，次级线圈L2与初级线圈L1电磁耦合。4.根据权利要求3所述的接近和远离金属靶标测量装置，其特征在于，所述的采样电路（1）包括一个初级线圈L1和至少一个次级线圈L2，当有多个次级线圈L2时，各次级线圈L2之间相互独立；所述初级线圈L1呈闭合弧形或闭合多边形结构；所述的次级线圈L2呈闭合弧形或多边形结构；一个或多个次级线圈L2位于初级线圈L1围成的闭合结构内部；或者，一个或多个次级线圈L2位于初级线圈L1围成的闭合结构外部。5.根据权利要求4所述的接近和远离金属靶标测量装置，其特征在于，所述的初级线圈L1和次级线圈L2均被印制于印刷电路板上；测量装置包括一圆柱体结构，圆柱体结构的一端具有一印刷电路板，初级线圈L1和次级线圈L2被印制于该印刷电路板上，圆柱体结构远离印刷电路板的一端具有引出线，用于将圆柱体结构处的电路连接于外部电路。6.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：祝向辉，
申请(专利权)人：杭州全仁电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：