【技术实现步骤摘要】
一种机台干燥系统
[0001]本申请涉及半导体领域,特别涉及一种机台干燥系统。
技术介绍
[0002]目前,WET Single(单片式湿法)机台可以对待处理物进行单片式湿法刻蚀处理,或者单片式湿法清洗处理,能满足大多数的刻蚀或清洗需求。但是,现有的WET Single机台并未对腔室内的湿度进行有效的控制,比如,在某些高深宽比的结构中会形成薄水层,这部分薄水层往往导致水汽残留,或因后续阴干产生Water Mark(水痕缺陷),从而影响产品特性,导致良率损失。
技术实现思路
[0003]有鉴于此,本申请的目的在于提供一种机台干燥系统,能够降低腔室内的湿度,减少水汽对腔室内产品的影响,减弱水汽的二次沉积从而减弱水汽残留和水痕缺陷,提升产品良率。其具体方案如下:
[0004]一方面,本申请提供了一种机台干燥系统,包括机台、控制单元、第一湿度传感器和湿度调控单元;所述第一湿度传感器位于所述机台的腔室内,用于测量所述腔室内的湿度;
[0005]所述控制单元与所述第一湿度传感器连接,用于获取所述腔室内的湿度; ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种机台干燥系统,其特征在于,包括机台、控制单元、第一湿度传感器和湿度调控单元;所述第一湿度传感器位于所述机台的腔室内,用于测量所述腔室内的湿度;所述控制单元与所述第一湿度传感器连接,用于获取所述腔室内的湿度;所述控制单元与所述湿度调控单元连接,用于在所述腔室内的湿度大于预设阈值时,控制所述湿度调控单元开启;所述湿度调控单元与所述机台连接,所述湿度调控单元包括至少一个冷凝器,所述湿度调控单元用于将外部气体通过所述冷凝器冷凝得到目标气体,以便将所述目标气体传输至所述机台的腔室内。2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述湿度调控单元还包括至少一个加热器,所述湿度调控单元用于将外部气体通过所述冷凝器冷凝后得到第一气体,利用所述加热器对所述第一气体加热,得到所述目标气体。3.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述湿度调控单元包括多个冷凝器,每个所述冷凝器的工作温度不同。4.根据权利要求2或3所述的系统,其特征在于,所述湿度调控单元包括多个加热器,在沿着气流方向上,多个所述加热器的工作温度呈梯度上升。5.根据权利要求1
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【专利技术属性】
技术研发人员:陈函,
申请(专利权)人:武汉楚兴技术有限公司,
类型:新型
国别省市:
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