【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】以涂料涂覆物体的系统和以涂料涂覆物体的方法
[0001]本专利技术总体上涉及工件的表面处理,并且具体地涉及以涂料特别是涂料粉末优选自动地涂覆工件。
[0002]根据本专利技术的一个方面,其涉及一种用于以涂料特别是涂料粉末优选自动地涂覆物体的系统,其中,该系统包括涂覆站,该涂覆站具有至少一个涂覆枪,该涂覆枪用于特别是在需要时在涂覆区域的方向上喷洒涂料。例如,涂覆站可以至少部分地设置在涂覆室或涂覆舱(Beschichtungszelle)内。
技术介绍
[0003]通常从现有技术已知用于特别是以涂料粉末涂覆工件的涂覆室或涂覆舱。这种涂覆室或涂覆舱通常包括涂覆腔,所述涂覆腔具有两个彼此对置地设置的工件通道。通常,涂覆室或涂覆舱配备有传送器机构,用于特别是连续地输送待涂覆的物体通过涂覆站的涂覆区域。
[0004]例如,出版物EP 0071756A2涉及一种具有传送器机构的涂覆室,该传送器机构经由入口和出口输送待涂覆的物体通过涂覆室的内部。通过可由至少一扇门打开的壁元件,在例如呈手动喷枪形式的喷洒装置的帮助下,涂料可以 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种优选自动地以涂料涂覆物体(11)的系统(1),所述涂料特别是涂料粉末,其中,所述系统(1)包括:
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涂覆站(2),所述涂覆站具有至少一个涂覆枪(3),用于特别是根据需要在涂覆区域(4)的方向上喷洒涂料;以及
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传送器机构(12),用于特别是连续地输送待涂覆的物体(11)通过所述涂覆区域(4),其特征在于,所述系统(1)包括用来检测监测区域(7)中是否存在待涂覆的物体(11)的装置(6),在所述传送器机构(12)的传送方向上看,所述监测区域位于所述涂覆站(2)的上游,其中,还提供控制装置(13),所述控制装置被设计成:根据用来检测是否存在待涂覆的物体(11)的所述装置(6)的检测结果地并且特别是在延迟之后地,对所述涂覆站(2)的所述至少一个涂覆枪(3)进行控制。2.根据权利要求1所述的系统(1),其中,用于检测是否存在待涂覆的物体(11)的所述装置(6)包括布置在所述监测区域(7)中的触感装置和/或非接触式传感器系统,所述非接触式传感器系统包括特别是呈光障的形式和/或光幕的形式的。3.根据权利要求1或2所述的系统(1),其中,所述控制装置(13)被设计成:根据用于检测是否存在待涂覆的物体(11)的所述装置(6)的检测结果地,并且还根据传送速度和/或所述监测区域(7)与所述涂覆区域(4)之间的距离地,对所述涂覆站(2)的所述至少一个涂覆枪(3)进行控制。4.根据权利要求1至3中任一项所述的系统(1),其中,提供特别是呈与所述传送器机构(12)一起工作的编码器的形式的装置,所述装置被设计成检测待涂覆的物体(11)被传送通过所述监测区域(7)的传送速度;和/或其中,用于检测是否存在待涂覆的物体(11)的所述装置(6)被设计成检测所述待涂覆的物体(11)通过所述监测区域(7)的传送速度。5.根据权利要求1至4中任一项所述的或根据权利要求1的前序部分所述的系统(1),其特征在于,所述系统(1)包括用于检测监测区域(9)中的待涂覆的物体(11)的至少一个区域的尺寸、几何结构和/或轮廓的装置(8),在所述传送器机构(12)的传送方向上看,所述监测区域(9)位于所述涂覆站(2)的上游,其中,所述涂覆站(2)配备有定位装置(10),所述定位装置用于特别是选择性地和/或根据需要地相对于所述涂覆区域(4)定位所述至少一个涂覆枪(3),并且其中,还提供控制装置(13),所述控制装置被设计成:根据所述待涂覆的物体(11)被检测到的尺寸、几何结构和/或轮廓地并且特别是在延迟之后地,控制所述涂覆站(2)的所述定位装置(10)。6.根据权利要求5所述的系统(1),其中,用于检测待涂覆的物体(11)的至少一个区域的尺寸、几何结构和/或轮廓的所述装置(8)包括第一光学检测系统,所述第一光学检测系统特别是呈至少一个第一激光扫描系统的形式,所述至少一个第一激光扫描系统被设计成:所述监测区域(9)中,用至少一个第一激光束(14),特别是以线或网格图案,扫描和/或扫掠所述待涂覆的物体(11)的所述至少一个区域,以便对其进行测量,其中,所述第一激光扫描系统的所述至少一个第一激光束
(14)在相对于所述传送器机构(12)的传送方向的第一方向上并且特别是垂直于或至少基本垂直于所述传送方向的第一方向上延伸。7.根据权利要求6所述的系统(1),其中,所述至少一个第一激光扫描系统特别地被实现和设计为极性测量激光扫描系统,所述极性测量激光扫描系统在所述监测区域(9)中用所述至少一个第一激光束(14)竖直地扫掠和/或扫描所述待涂覆的物体(11)的所述至少一个区域。8.根据权利要求6或7所述的系统(1),其中,用于检测待涂覆的物体(11)的至少一个区域的尺寸、几何结构和/或轮廓的所述装置(8)包括至少一个第二光学检测系统,所述至少一个第二光学检测系统特别是呈至少一个第二激光扫描系统的形式,所述至少一个第二光学检测系统被设计成:在用于检测尺寸、几何结构和/或轮廓的所述装置(8)的所述监测区域(9)中,用至少一个第二激光束(15、16),特别是以线或网格图案,扫描和/或扫掠所述待涂覆的物体(11)的所述至少一个区域,以便对其进行测量,其中,所述至少一个第二光学检测系统的所述至少一个第二激光束(15、16)在相对于所述传送器机构(12)的传送方向的第二方向上延伸,所述第二方向不同于所述第一方向并且特别地相对于所述传送器机构(12)的传送方向是倾斜的。9.根据权利要求8所述的系统(1),其中,所述至少一个第二光学检测系统包括至少一个第二激光扫描系统,所述至少一个第二激光扫描系统被设计成:在用于检测尺寸、几何结构和/或轮廓的所述装置(8)的所述监测区域(7)中,用至少一个第二激光束(15、16),特别是以线或网格图案,扫描和/或扫掠所述待涂覆的物体(11)的所述至少一个区域,以便对其进行测量,其中,所述至少一个第二激光扫描...
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