【技术实现步骤摘要】
一种含硼有机化合物及其应用
[0001]本专利技术涉及半导体
,尤其涉及一种含硼有机化合物及其在有机电致发光器件上的应用。
技术介绍
[0002]传统荧光掺杂材料受限于早期的技术,只能利用电激发形成的25%单线态激子发光,器件的内量子效率较低(最高为25%),外量子效率普遍低于5%,与磷光器件的效率还有很大差距。磷光材料由于重原子中心强的自旋
‑
轨道耦合增强了系间窜越,可以有效利用电激发形成的单线态激子和三线态激子发光,使器件的内量子效率达100%。但多数磷光材料价格昂贵,材料稳定性较差,色纯度较差,器件效率滚落严重等问题限制了其在OLED的应用。
[0003]随着5G时代的到来,对显色标准提出了更高的要求,发光材料除了高效、稳定,也需要更窄的半峰宽以提升器件发光色纯度。荧光掺杂材料可通过分子工程,实现高荧光量子、窄半峰宽,蓝色荧光掺杂材料已获得阶段性突破,硼类材料半峰宽可降低至30nm以下;而人眼更为敏感的绿光区域,研究主要集中在磷光掺杂材料,但其发光峰形难以通过简单方法缩窄,因此为满足更高的显色标准,研究窄半峰宽的高效绿色荧光掺杂材料具有重要意义。
[0004]另外,TADF敏化荧光技术(TSF)将TADF材料与荧光掺杂材料相结合,利用TADF材料作为激子敏化媒介,将电激发形成的三线态激子转变为单线态激子,通过单线态激子长程能量传递将能量传递给荧光掺杂材料,同样可以达到100%的器件内量子效率,该技术能弥补荧光掺杂材料激子利用率不足的缺点,有效发挥荧光掺杂材料高荧光量子产率 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种含硼有机化合物,其特征在于,所述含硼有机化合物的结构如通式(1)所示:通式(1)中,虚线表示不连接或者通过单键连接;Z表示为N或C
‑
R1;R1每次出现相同或不同的表示为氢原子、氘原子、氚原子、卤素原子、取代或未取代的C1~C
10
烷基、取代或未取代的C3~C
10
环烷基、取代或未取代的C1~C
10
烷氧基、取代或未取代的C6~C
10
芳氧基、取代或未取代的芳胺基、取代或未取代的C6~C
30
芳基、取代或未取代的C2~C
30
杂芳基中的一种;相邻的R1还可以连接成环;Z1、Z2分别表示为C
‑
R
a
、C
‑
R
b
;R
a
、R
b
分别独立的表示为氢原子、氘原子、氚原子、卤素原子、取代或未取代的C1~C
10
烷基、取代或未取代的C3~C
10
环烷基、取代或未取代的C1~C
10
烷氧基、取代或未取代的C6~C
10
芳氧基、取代或未取代的芳胺基、取代或未取代的C6~C
30
芳基、取代或未取代的C2~C
30
杂芳基中的一种;R
a
与R
b
还可以连接成环;当虚线表示不连接,R
a
与R
b
连接成环;A1表示为取代或未取代的C3~C
10
环烷基、取代或未取代的C3~C
10
环烯基、取代或未取代的C6~C
30
的芳基、取代或未取代的C2~C
30
杂芳基中的一种;用于取代基团的取代基任选自氘原子、氚原子、卤素原子、C1~C
10
的烷基、C3~C
10
的环烷基、C6~C
30
芳基、C2~C
30
杂芳基中的一种或多种。2.根据权利要求1所述的含硼有机化合物,其特征在于,所述含硼有机化合物的结构如通式(2)或通式(3)所示:通式(2)、通式(3)中,Z的含义同权利要求1中的限定。3.根据权利要求1所述的含硼有机化合物,其特征在于,所述含硼有机化合物的结构如
通式(4)~通式(20)中任一种所示:通式(4)~通式(20)中,Z的含义同权利要求1中的限定;X1、X2分别独立地表示为O、S、Se、N(R2)、C(R3)(R4)或Si(R5)(R6)其中的一种;R2‑
R6分别独立地表示为取代或未取代的C1~C
10
烷基、取代或未取代的C3~C
10
环烷基、取代或未取代的C6~C
30
的芳基、取代或未取代的C2~C
30
杂芳基中的一种;R3与R4、R5与R6之间还可以连接成环。4.根据权利要求3所述的含硼有机化合物,其特征在于,所述含硼有机化合物的结构如通式(4
‑
1)~通式(16
‑
1)中任一种所示:
通式(4
‑
1)~通式(16
‑
1)中,Z、X1、X2的定义同权利要求3中的限定。5.根据权利要求1或3所述的含硼有机化合物,其特征在于,所述R1、R
a
、R
b
分别独立地表示为氢原子、氘原子、氚原子、卤素原子、金刚烷基、甲基、氘代甲基、氚代甲基、三氟甲基、乙基、氘代乙基、氚代乙基、异丙基、氘代异丙基、氚代异丙基、叔丁基、氘代叔丁基、氚代叔丁基、环戊基、氘代环戊基、氚代环戊基、甲基取代的环戊基、环己基、苯基、氘代苯基、氚代苯基、二联苯基、氘代二联苯基、氚代二联苯基、三联苯基、氘代三联苯基、氚代三联苯基、二苯醚基、甲基取代的二苯醚基、萘基、蒽基、菲基、吡啶基、苯基取代的吡啶基、喹啉基、呋喃基、噻吩基、苯并呋喃基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、咔唑基、N
‑
苯基咔...
【专利技术属性】
技术研发人员:梁啸,侯美慧,李崇,段炼,
申请(专利权)人:江苏三月科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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