本实用新型专利技术公开了一种陶瓷产品加工用清洗装置，包括清洗水箱、水循环单元和清洗治具，清洗水箱外设置有机架，机架上设置有移动单元，移动单元上有用于夹持清洗治具的夹持单元，移动单元包括左支架、右支架和滑架，所述左支架和右支架上均设置有第一滑轨，滑架通过与第一滑轨配合的第一滑块滑动安装在左支架和右支架上，左支架上设置有第一齿条，滑架上设置有与第一齿条啮合的第一驱动机构，滑架上设置有第二滑轨，夹持单元通过与第二滑轨配合的第二滑块滑动安装在滑架上，滑架上设置有第二齿条，夹持单元上设置有与第二齿条啮合的第二驱动机构。解决了现有陶瓷水阀片清洗时效率不高，清洗质量不高，人工干预多，人工劳动强度大的问题。的问题。的问题。
【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷产品加工用清洗装置
[0001]本技术涉及陶瓷清洗
，具体为一种陶瓷产品加工用清洗装置。
技术介绍
[0002]陶瓷产品在加工过程中需要进行清洗，目前常规的清洗方式为振动清洗，通过将产品放入振动筒内通过清洗液进行清洗，在振动过程中产品之间摩擦接触面较多，会造成抛光面受到损坏，导致大量残次品的产生。基于此部分厂家通过专用治具如公告号为CN212733296U的中国专利，其公开了一种用于新能源汽车用陶瓷密封圈清洗装置，其将产品进行夹持，然后放入清洗筒内进行清洗，其有效减少了产品表面损伤，有利于生产。在实际生产过程中，产品在清洗后需要进行沥干和烘干步骤，并且需要人工进行再次摆盘，如此便需要大量劳动力，对生产效率有一定影响。
技术实现思路
[0003]本技术的目的在于提供一种陶瓷产品加工用清洗装置，以解决现有陶瓷水阀片清洗时效率不高，清洗质量不高，人工干预多，人工劳动强度大的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种陶瓷产品加工用清洗装置，包括清洗水箱、水循环单元和清洗治具，所述清洗水箱外设置有机架，所述机架上设置有移动单元，所述移动单元上有用于夹持清洗治具的夹持单元，所述移动单元包括左支架、右支架和滑架，所述左支架和右支架上均设置有第一滑轨，所述滑架通过与第一滑轨配合的第一滑块滑动安装在左支架和右支架上，所述左支架上设置有第一齿条，所述滑架上设置有与第一齿条啮合的第一驱动机构，所述滑架上设置有第二滑轨，所述夹持单元通过与第二滑轨配合的第二滑块滑动安装在滑架上，所述滑架上设置有第二齿条，所述夹持单元上设置有与第二齿条啮合的第二驱动机构。
[0005]作为上述技术方案的进一步改进：
[0006]所述清洗水箱包括多个分清洗箱，所述分清洗箱与水循环单元相连。
[0007]所述水循环单元包括若干与分清洗箱对应的进液箱和回液箱，所述分清洗箱上部设置有出液泵，所述分清洗箱下部设置有回液泵，所述出液泵与进液箱相连，所述回液泵与回液箱相连。
[0008]所述回液箱上设置有过滤网。
[0009]所述清洗治具包括U型架、第一网面和第二网面，所述第一网面和第二网面设置在U型架两侧，所述U型架上设置有提手。
[0010]所述夹持单元包括横架、设置于横架上的升降气缸和设置于升降气缸输出端的，所述第二滑块设置于横架上的夹板。
[0011]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0012]本技术的陶瓷产品加工用清洗装置通过设置清洗治具，对水阀片进行盛放，避免清洗时端面碰撞和端面摩擦。同时有助于下一步骤的沥水和烘干，减少了人工摆放料
工序，减轻了劳动强度，通过移动单元对清洗治具进行移动，带动清洗治具依次进入各个分清洗箱，完成清洗，保证了清洗效果，整个清洗过程采用机械化进行控制，效率高，人工干预少，解决了现有陶瓷水阀片清洗时效率不高，清洗质量不高，需要人工干预，人工劳动强度大的问题。
附图说明
[0013]图1为本技术整体结构示意图之一；
[0014]图2为本技术整体结构示意图之二；
[0015]图3为本技术局部结构示意图；
[0016]图4为本技术图3中A处放大结构示意图；
[0017]图5为本技术移动单元结构示意图；
[0018]图6为本技术清洗治具结构示意图；
[0019]图7为本技术回液箱结构示意图。
[0020]附图标记：1、清洗水箱；11、分清洗箱；2、水循环单元；21、进液箱；212、出液泵；22、回液箱；222、回液泵；23、过滤网；3、清洗治具；31、U型架；32、第一网面；33、第二网面；34、提手；4、机架；5、移动单元；51、左支架；52、右支架；53、滑架；54、第一滑轨；55、第一滑块；56、第一齿条；561、第一驱动机构；57、第二滑轨；58、第二滑块；59、第二齿条；591、第二驱动机构；6、夹持单元；61、横架；62、升降气缸；63、夹板。
具体实施方式
[0021]为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本技术。
[0022]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0023]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0024]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0025]如图1至图7所示，本实施例的陶瓷产品加工用清洗装置，包括清洗水箱1、水循环单元2和清洗治具3，清洗水箱1外设置有机架4，机架4上设置有移动单元5，移动单元5上有用于夹持清洗治具3的夹持单元6，移动单元5包括左支架51、右支架52和滑架53，左支架51
和右支架52上均设置有第一滑轨54，滑架53通过与第一滑轨54配合的第一滑块55滑动安装在左支架51和右支架52上，左支架51上设置有第一齿条56，滑架53上设置有与第一齿条56啮合的第一驱动机构561，滑架53上设置有第二滑轨57，夹持单元6通过与第二滑轨57配合的第二滑块58滑动安装在滑架53上，滑架53上设置有第二齿条59，夹持单元6上设置有与第二齿条59啮合的第二驱动机构591。
[0026]清洗水箱1包括多个分清洗箱11，分清洗箱11与水循环单元2相连。多个分清洗箱11可以将传统清洗分为多道工序，保证了清洗质量。
[0027]水循环单元2包括若干与分清洗箱11对应的进液箱21和回液箱22，分清洗箱11上部设置有出液泵212，分清洗箱11下部设置有回液泵222，出液泵212与进液箱21相连，回液泵222与回液箱22相连。
[0028]回液箱22上设置有过滤网23。过滤网23可以对大型杂质进行过滤，便于对清洗液的回收。
[0029]清洗治具3包括U型架31、第一网面32和第二网面33，第一网面32和第二网面33设置在U本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种陶瓷产品加工用清洗装置，包括清洗水箱(1)、水循环单元(2)和清洗治具(3)，其特征在于：所述清洗水箱(1)外设置有机架(4)，所述机架(4)上设置有移动单元(5)，所述移动单元(5)上有用于夹持清洗治具(3)的夹持单元(6)，所述移动单元(5)包括左支架(51)、右支架(52)和滑架(53)，所述左支架(51)和右支架(52)上均设置有第一滑轨(54)，所述滑架(53)通过与第一滑轨(54)配合的第一滑块(55)滑动安装在左支架(51)和右支架(52)上，所述左支架(51)上设置有第一齿条(56)，所述滑架(53)上设置有与第一齿条(56)啮合的第一驱动机构(561)，所述滑架(53)上设置有第二滑轨(57)，所述夹持单元(6)通过与第二滑轨(57)配合的第二滑块(58)滑动安装在滑架(53)上，所述滑架(53)上设置有第二齿条(59)，所述夹持单元(6)上设置有与第二齿条(59)啮合的第二驱动机构(591)。2.根据权利要求1所述的陶瓷产品加工用清洗装置，其特征在于：所述清洗水箱(1)包括多个分清洗箱(11)，所述分清洗箱(11)与水循环...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨理德，谢新丽，周锡辉，
申请(专利权)人：新化县德鑫电子陶瓷有限责任公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。