用于光学基材涂层的组合物及其用途制造技术

光学基材上的黑色涂层、用于生产此类涂层的组合物以及所述组合物用于边缘黑化和杂散光控制的用途。本涂层包括由固化聚合物与纳米颗粒和黑色颜料混合形成的薄膜，其中，所述薄膜的折射率超过1.6。本组合物包括5至100重量份的可固化聚合物；5至100重量份的纳米颗粒；和0.1至20重量份的黑色颜料，并且所述纳米颗粒和黑色颜料与所述可固化聚合物混合。本组合物表现出与高RI玻璃基材相匹配的RI值，同时提供了高效的边缘黑化特性。供了高效的边缘黑化特性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于光学基材涂层的组合物及其用途


[0001]本专利技术涉及使用含有可固化聚合物与填料混合的组合物的光学基材涂层。更具体地，本专利技术涉及光学基材上的黑色涂层、用于生产此类涂层的组合物以及所述组合物用于边缘黑化和杂散光控制的用途。

技术介绍

[0002]边缘黑化涂层应用于光学基材的边缘，或光学基材的特定限定位置，尤其是在光在基材内部传播的基材上。通常，涂层应用于光学组件，如透镜、棱镜、分束器、波导或衍射光学元件，以使在光学基材内部传播的光从基材
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空气界面的不希望反射减少到最低程度。另外，边缘黑化使通过涂层区域进入光学基材的光减少到最低程度。边缘区域通常包括未抛光的粗糙表面。从边缘反射的光通常会导致杂散光，这是光学系统性能的常见限制因素。
[0003]为了适当减少反射，用于涂层的材料应具有折射率，更具体地说是复折射率的实部，其与基材的折射率相匹配。然而，传统的边缘黑化涂层不具有高折射率，并且其在高折射率(RI)的基材上表现不佳。k值(即RI的复数部分)在黑色材料(即吸收材料)中始终不为零，并且它对反射率有部分贡献。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种黑色涂层，包括：
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薄膜，所述薄膜由与纳米颗粒和黑色颜料混合的固化聚合物形成，所述薄膜的折射率超过1.6。2.根据权利要求1所述的黑色涂层，其中，所述薄膜的厚度是1至200μm。3.根据权利要求1或2所述的黑色涂层，其中，所述薄膜在薄膜厚度为30μm时，在400和665nm之间的波长处的光密度超过4。4.根据前述权利要求中的任一项所述的黑色涂层，其中，所述薄膜的折射率超过1.75。5.根据前述权利要求中的任一项所述的黑色涂层，其中，所述纳米颗粒选自金属氧化物颗粒，如二氧化钛、二氧化锆、二氧化铪、氧化铝、二氧化锗及其组合，其Z平均粒径是1至200nm，特别是20至200nm。6.根据前述权利要求中的任一项所述的黑色涂层，其中，所述纳米颗粒和所述固化聚合物的重量比是99:1至1:99，特别是90:10至10:90，例如85:15至60:40。7.根据前述权利要求中的任一项所述的黑色涂层，其中，所述黑色颜料选自烟灰、炭黑、碳纳米管、石墨、有机颜料、金属络合染料和金属氧化物颗粒及其组合。8.根据前述权利要求中的任一项所述的黑色涂层，其中，所述薄膜在光学基材上，所述薄膜的折射率等于所述光学基材的折射率，特别是，所述薄膜的折射率与所述光学基材的折射率相差不超过
±
0.4个单位，特别是不超过
±
0.1个单位，特别是不超过
±
0.05个单位，所述折射率是在589nm处测量的。9.根据前述权利要求中的任一项所述的黑色涂层，其中，所述薄膜沉积在折射率超过1.6，特别是超过1.7，特别是1.75至2.3的光学基材或光学基材堆上。10.根据前述权利要求中的任一项所述的黑色涂层，其中，在400～665nm处，在所述光学基材和所述涂层薄膜之间的界面处的反射小于所述光学基材和空气之间的界面处的反射的10％。11.根据前述权利要求中的任一项所述的黑色涂层，其中，所述固化聚合物是硅氧烷聚合物。12.一种用于光学基材涂层的组合物，包括：
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5至100重量份的可固化聚合物；
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5至100重量份的纳米颗粒；以及
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0.1至20重量份的黑色颜料；所述纳米颗粒和所述黑色颜料与所述可固化聚合物混合。13.根据权利要求12所述的组合物，其中，所述可固化聚合物选自具有一个或数个活性基团，分子量(Mw)为500
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100000g/mol的硅氧烷预聚物，所述活性基团选自环氧基、环氧丙基、乙烯基、烯丙基、丙烯酸酯、氢化物、硫醇和甲基丙烯酸酯及其组合。14.根据要求12或13所述的组合物，其中，所述纳米颗粒选自金属氧化物颗粒，如二氧化钛、二氧化锆、二氧化铪、氧化铝、二氧化锗及其组合，其Z平均粒径是1至200nm，特别是20至200nm。15.根据权利要求12至14中的任一项所述的组合物，其中，所述纳米颗粒和所述可固化聚合物的重量比是99:1至1:99，特别是90:10至10:90，例如85:15至60:40。16.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：雅科，
申请(专利权)人：英克伦股份有限公司，
类型：发明
国别省市：