【技术实现步骤摘要】
成像镜头及电子装置
[0001]本专利技术涉及一种成像镜头与电子装置，特别是一种适用于电子装置的成像镜头。
技术介绍
[0002]随着科技日新月异，具有高光学品质的镜头俨然成为不可或缺的一环。并且，配备光学镜头的电子装置的应用范围更加广泛，对于光学镜头的要求也是更加多样化。
[0003]然而，近年来传统的光学镜头已难以满足多元化发展下的电子产品的高光学品质需求，特别是非成像光线容易在成像镜头内反射而影响成像品质。因此，如何改良成像镜头内部零件的结构来减弱非成像光线的反射强度，以满足现今对电子装置高规格的需求，已成为目前相关领域的重要议题。
技术实现思路
[0004]鉴于以上提到的问题，本专利技术揭露一种成像镜头与电子装置，有助于减少杂散光(非成像光线)的反射，可降低杂散光的影响，借此提升总体的光学品质。
[0005]本专利技术的一实施例所揭露的成像镜头，由一光轴通过。成像镜头包含一遮光片。遮光片包含一物侧面、一像侧面、一内环面、多个渐缩遮光结构以及一纳米结构层。物侧面垂直且环绕光轴设置。像侧面...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种成像镜头，其特征在于，由一光轴通过，所述成像镜头包含：一遮光片，包含：一物侧面，垂直且环绕所述光轴设置；一像侧面，与所述物侧面相对设置，且所述像侧面相较所述物侧面靠近所述成像镜头的像侧；一内环面，连接所述物侧面与所述像侧面，且所述内环面环绕所述光轴并定义出一通光孔；多个渐缩遮光结构，设置于所述内环面，其中所述渐缩遮光结构自所述内环面凸起并朝所述光轴渐缩延伸，所述渐缩遮光结构环绕所述光轴周期性设置，沿所述光轴方向观察时每一所述渐缩遮光结构的轮廓具有一第一曲线段以及一第二曲线段，所述第一曲线段相较所述第二曲线段靠近所述光轴，且所述第一曲线段与所述第二曲线段各自于所述内环面上形成一曲面；以及一纳米结构层，至少设置于所述第一曲线段与所述第二曲线段所形成的所述曲面上，且所述纳米结构层具有自所述曲面朝非定向延伸的多个脊状凸起。2.根据权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，所述遮光片包含塑胶材质。3.根据权利要求2所述的成像镜头，其特征在于，所述脊状凸起呈现下宽上窄的形状，且所述纳米结构层的结构平均高度大于等于98纳米且小于等于350纳米。4.根据权利要求2所述的成像镜头，其特征在于，所述第一曲线段的曲率半径中心相较所述第一曲线段远离所述光轴，所述第一曲线段的曲率半径为R
VC
，其满足下列条件：0.005毫米≤R
VC
≤0.37毫米。5.根据权利要求2所述的成像镜头，其特征在于，所述第二曲线段的曲率半径中心相较所述第二曲线段靠近所述光轴，所述第二曲线段的曲率半径为R
C
，其满足下列条件：0.008毫米≤R
C
≤0.42毫米。6.根据权利要求2所述的成像镜头，其特征在于，所述第一曲线段的曲率半径中心相较所述第一曲线段远离所述光轴，所述第二曲线段的曲率半径中心相较所述第二曲线段靠近所述光轴，所述第一曲线段的曲率半径为R
VC
，所述第二曲线段的曲率半径为R
C
，其满足下列条件：0.3≤R
C
/R
VC
≤35。7.根据权利要求2所述的成像镜头，其特征在于，所述纳米结构层进一步延伸至所述物侧面与所述像侧面两者之中的至少一者。8.根据权利要求7所述的成像镜头，其特征在于，所述纳米结构层进一步延伸至所述物侧面与所述像侧面两者之中的其中一者。9.根据权利要求2所述的成像镜头，其特征在于，所述遮光片还包含一微米结构，所述微米结构设置于所述物侧面与所述像侧面两者之中的至少一者，所述微米结构具有多个凸起，且所述微米结构的结构平均高度大于等于0.25微米且小于等于19微米。10.根据权利要求2所述的成像镜头，其特征在于，所述渐缩遮光结构与所述遮光片的其余部分为一体成型。11.根据权利要求2所述的成像镜头，其特征在于，所述渐缩遮光结构的数量为N，其满足下列条件：
39≤N≤147。12.根据权利要求7所述的成像镜头，其特征在于，所述物侧面与所述像侧面两者之中设置有所述纳米结构层的所述至少一者的表面对波长为750纳米至900纳米的光的平均反射率为R
7590
，其满足下列条件：R
7590
≤0.65％。13.根据权利要求7所述的成像镜头，其特征在于，所述物侧面与所述像侧面两者之中设置有所述纳米结构层的所述至少一者的表面对波长为380纳米至400纳米的光的平均反射率为R
3840
，其满足下列条件：R
3840
≤0.75％。14.根据权利要求7所述的成像镜头，其特征在于，所述物侧面与所述像侧面两者之中设置有所述纳米结构层的所述至少一者的表面对波长为400纳米至700纳米的光的平均反射率为R
4070
，其满足下列条件：R
4070
≤0.5％。15.根据权利要求2所述的成像镜头，其特征在于，所述遮光片的厚度为T，其满足下列条件：2微米≤T≤88微米。16.根据权利要求2所述的成像镜头，其特征在于，所述成像镜头还包含：一镜筒，容置所述遮光片，且所述镜筒包含：一筒状部，以所述光轴为轴心环绕所述光轴；以及一板状部，与所述筒状部连接，其中所述板状部朝靠近所述光轴的方向延伸并形成一光圈，且所述板状部具有：一承靠面，与所述遮光片实体接触；以及一内壁面，自所述光圈朝所述承靠面延伸，其中所述内壁面与所述遮光片沿平行所述光轴的方向相距一间隔距离，且所述间隔距离向远离所述光轴的方向渐缩。17.根据权利要求16所述的成像镜头，其特征在于，所述成像镜头沿所述光轴依序包含：所述遮光片；一第一透镜，容置于所述镜筒内；以及一第二透镜，容置于所述镜筒内；其中，所述间隔距离的最大值为Dmax，所述第二透镜沿所述光轴的厚度为CT2，其满足下列条件：0.26≤Dmax/CT2≤3.2。18.根据权利要求17所述的成像镜头，其特征在于，所述第二透镜沿所述光轴的厚度为CT2，其满足下列条件：0.08毫米≤CT2≤0.82毫米。19.根据权利要求2所述的成像镜头，其特征在于，还包含一透镜组，其中所述透镜组包含多个透镜，且所述透镜之中的至少一者设置有所述纳米结构层。20.一种成像镜头，其特征在于，由一光轴通过，所述成像镜头包含：一遮光片，包含：
一物侧面，垂直且环绕所述光轴设置；一像侧面，与所述物侧面相对设置，且所述像侧面相较所述物侧面靠近所述成像镜头的像侧；一内环面，连接所述物侧面与所述像侧面，且所述内环面环绕所述光轴并定义出一通光孔；多个渐缩遮光结构，设置于所述内环面，其中所述渐缩遮光结构自所述内环面凸起并朝所述光轴渐缩延伸，所述渐缩遮光结构环绕所述光轴周期性设置，沿所述光轴方向观察时每一所述渐缩遮光结构的轮廓具有至少一曲线段，且所述至少一曲线段于所述内环面上形成一曲面；以及一纳米结构层，设置于所述至少一曲线段所形成的所述曲面上，且所述纳米结构层具有自所述曲面朝非定向延伸的多个脊状凸起；其中，当所述至少一曲线段的曲率半径中心相较所述至少一曲线段远离所述光轴时，所述至少一曲线段的曲率半径为R
VC
，所述通光孔的半径为R
L
，其满足下列条件：0.05≤(R
VC
/R
L
)
×
1.02π4≤34；其中，当所述至少一曲线段的曲率半径中心相较所述至少一曲线段靠近所述光轴时，所述至少一曲线段的曲率半径为R
C
，所述通光孔的半径为R
L
，其满足下列条件：0.11≤(R
C
/R
L
)
×
1.02π4≤49。21.根据权利要求20所述的成像镜头，其特征在于，所述遮光片包含塑胶材质。22.根据权利要求21所述的成像镜头，其特征在于，所述脊状凸起呈现下宽上窄的形状，且所述纳米结构层的结构平均高度大于等于98纳米且小于等于350纳米。23.根据权利要求22所述的成像镜头，其特征在于，所述纳米结构层进一步延伸至所述物侧面与所述像侧面两者之中的至少一者。24.根据权利要求23所述的成像镜头，其特征在于，所述纳米结构层进一步延伸至所述物侧面与所述像侧面两者之中的其中一者。25.根据权利要求22所述的成像镜头，其特征在于，所述遮光片还包含一微米结构，所述微米结构设置于所述物侧面与所述像侧面两者之中的至少一者，所述微米结构具有多个凸起，且所述微米结构的结构平均高度大于等于0.25微米且小于等于19微米。26.根据权利要求21所述的成像镜头，其特征在于，所述渐缩遮光结构与所述遮光片的其余部分为一体成型。27.根据权利要求26所述的成像镜头，其特征在于，所述渐缩遮光结构的数量为N，其满足下列条件：39≤N≤147。28.根据权利要求23所述的成像镜头，其特征在于，所述物侧面与所述像侧面两者之中设置有所述纳米结构层的所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：童伟哲，
申请(专利权)人：大立光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。