一种全自动游离二氧化硅前处理仪制造技术

本发明专利技术公开了一种全自动游离二氧化硅前处理仪，包括工作台，该工作台分为依序设置的反应区、清洗区以及过滤区；放置盘，转动设置于工作台上；反应机构；清洗机构；过滤排废机构；运动平台；其中，当杯叉处于初始位置时，放置盘转动至待取烧杯与杯叉相对应位置，控制组件控制杯叉移动对烧杯进行拿取；所述烧杯托盘与杯叉之间设置有导向结构，导向结构能够使烧杯顶部槽口始终处于易于倾倒液体的固定方向；本申请能够全自动加热搅拌样品，全自动加试剂、全自动清洗排废，实现手动游离二氧化硅的批量自动化检测，减轻实验人员的工作强度，提高检测效率，避免人工操作的失误，提高检测结果的一致性。致性。致性。

【技术实现步骤摘要】
一种全自动游离二氧化硅前处理仪


[0001]本专利技术涉及一种全自动游离二氧化硅前处理仪。

技术介绍

[0002]常见的游离二氧化硅国标检测方法为手动检测法。
[0003]实验人员需要作出大量实验动作例如：样品加热，试剂加液，反应搅拌，和样品过滤等，操作繁琐，特别是游离二氧化硅手动测试加热过滤操作繁琐，而且由于加热过程实验人员距离热源近，存在安全隐患。并且，重复的进行手动搅拌动作与试剂加热的蒸汽接触人体等问题。
[0004]因此，本申请针对以上一个或者多个问题设计一种全自动游离二氧化硅前处理仪。

技术实现思路

[0005]本专利技术提供了一种全自动游离二氧化硅前处理仪，可以有效解决上述问题。
[0006]本专利技术是这样实现的：
[0007]一种全自动游离二氧化硅前处理仪
[0008]作为进一步改进的，包含：
[0009]工作台，该工作台分为依序设置的反应区、清洗区以及过滤区；
[0010]放置盘，转动设置于工作台上，该放置盘包括上下分区设置为烧杯托盘以及滤杯托盘；
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种全自动游离二氧化硅前处理仪，其特征在于：包含：工作台(10)，该工作台(10)分为依序设置的反应区(11)、清洗区(13)以及过滤区(12)；放置盘(20)，转动设置于工作台(10)上，该放置盘(20)包括上下分区设置为烧杯托盘(21)以及滤杯托盘(22)；反应机构(30)，设置于工作台(10)的反应区(11)，该反应机构(30)包括用于向烧杯内加入反应溶液的加样件(32)、用于对溶液进行加热的加热件(31)以及用于对溶液进行搅拌的搅拌组件(33)；清洗机构(50)，设置于工作台(10)的清洗区(13)，该清洗机构(50)包括用于放置烧杯或滤杯的清洗架(51)，以及用于对烧杯或滤杯进行清洗的清洗组件(52)；过滤排废机构(40)，设置于工作台(10)过滤区(12)内，该过滤排废机构(40)包括过滤架(41)以及用于承接废液的排废组件(42)；运动平台(60)，设置于工作台(10)上，该运动平台(60)包括杯叉(61)以及用于控制杯叉(61)沿工作台(10)x轴、y轴以及z轴方向运动的控制组件(62)；其中，当杯叉(61)处于初始位置时，放置盘(20)转动至待取烧杯与杯叉(61)相对应位置，控制组件(62)控制杯叉(61)移动对烧杯进行拿取；所述烧杯托盘(21)与杯叉(61)之间设置有导向结构(80)，导向结构(80)能够使烧杯顶部槽口始终处于易于倾倒液体的固定方向。2.根据权利要求1所述的一种全自动游离二氧化硅前处理仪，其特征在于：烧杯托盘(21)上具有若干个呈圆周阵列分布的第一放置槽，所述导向结构(80)为与第一放置槽对应设置的限位板(81)，限位板(81)上具有豁口槽(811)；当烧杯位于第一放置槽内时，豁口槽(811)相对两个槽壁与烧杯顶部槽口相对的两侧相接触。3.根据权利要求2所述的一种全自动游离二氧化硅前处理仪，其特征在于：杯叉(61)由两个镜像对称的抓取臂构成，各抓取臂包括弹性弧板(611)以及设置于弹性弧板(611)一端的固接端(612)，固接端(612)与控制组件(62)连接在一起；两个弹性弧板(611)之间形成用于容置烧杯的取样空腔，靠近反应区(11)一侧的弹性弧板(611)上具有导向槽(6111)，当烧杯位于取样空腔内时，导向槽(6111)相对的两个槽壁与烧杯顶部槽口相对的两侧相接触。4.根据权利要求3所述的一种全自动游离二...

【专利技术属性】
技术研发人员：何毅霖，曾俊雄，田智源，庄锦锋，张士杰，刘恭恒，
申请(专利权)人：厦门宜鉴仪器有限公司，
类型：发明
国别省市：