本发明专利技术提供了一种耐清洗的光学材料组合物，包括以下原料：多官环硫化合物、3官能度以上的多硫醇化合物、多异氰酸酯和含羟基的化合物。本申请还提供了一种光学树脂材料和一种光学透镜。本申请提供的光学材料组合物，通过引入含羟基的化合物并结合其他组分，使得到的光学材料可同时适用于亚克力清洗线和聚氨酯清洗线，清洗不烧片、不发雾、清洁干净，这是聚氨酯镜片及常规超高折聚硫醚树脂材料难以实现的。的。
【技术实现步骤摘要】
一种耐清洗的光学材料组合物、光学树脂材料和光学透镜
[0001]本专利技术涉及光学树脂
，尤其涉及一种耐清洗的光学材料组合物、光学树脂材料和光学透镜。
技术介绍
[0002]与玻璃材质相比，光学树脂材料具有低比重、高冲击韧性、不易破碎、佩戴舒适、加工方便、产品系列丰富以及易染色等优点，被越来越广泛的应用到光学镜片市场。
[0003]光学树脂材料的加工过程中包括：配料、搅拌脱气、浇注、一次固化、切边、清洗、二次固化和加硬镀膜等几个简单工艺流程；其中树脂材料的清洗效果尤为关键，直接影响材料的品质。清洗目的是清洗开模造成的残留油污和切片造成的残留污渍或碎屑。
[0004]目前，光学树脂的清洗基本分为亚克力清洗线和聚氨酯清洗线；亚克力清洗线一般碱液浓度高、清洗温度高；而聚氨酯清洗线碱液浓度低、表活剂类浓度高、清洗温度低。在光学镜片材料清洗过程中部分厂家需要准备两条清洗线，不仅占用的场地空间大，而且采购多套清洗设备及多种不同清洗线的清洗液，显著增加生产成本。还有部分厂家为避免浪费采用同一条清洗线，但是在清洗不同类型的镜片时需要重新调试清洗温度、清洗液种类和浓度等工艺参数，费时费力操作繁琐，如果操作不当易造成表面清洗不干净或者烧片的后果。
[0005]清洗光学材料时，若采用亚克力清洗线清洗聚氨酯类材料，因浸泡强碱容易因腐蚀原因批量产生发雾、烧片或者压克现象；若采用聚氨酯类清洗线洗亚克力镜片，易造成清洗不干净，表面留有污渍等现象，后续需人员擦拭，降低了工作效率和镜片生产效率，且因镜片未清洗干净在空气中长时间放置，增加了腐蚀概率。因此，提供给一种光学材料以同时适用于亚克力清洗线和聚氨酯清洗线具有重要意义。
技术实现思路
[0006]本专利技术解决的技术问题在于提供一种耐清洗的光学材料组合物，其可同时满足聚氨酯和亚克力清洗线的要求，具有高耐清洗的特点，同时其具有较好的光学品质。
[0007]有鉴于此，本申请提供了一种耐清洗的光学材料组合物，包括以下原料：多官环硫化合物、3官能度以上的多硫醇化合物、多异氰酸酯和含羟基的化合物。
[0008]优选的，所述多官环硫化合物的含量为70～85重量份，所述多异氰酸酯的含量为5～10重量份，所述多硫醇化合物的含量为10～20重量份，所述含羟基的化合物的含量为0.5～5重量份。
[0009]优选的，所述原料中还包括催化剂，所述催化剂的含量为0.05～2重量份。
[0010]优选的，所述多官环硫化合物选自双(β
‑
环硫丙基)硫醚、双(β
‑
环硫丙基)二硫醚、双(β
‑
环硫丙基)三硫醚、双(β
‑
环硫丙基硫)甲烷、1,2
‑
双(β
‑
环硫丙基硫)乙烷、1,3
‑
双(β
‑
环硫丙基硫)丙烷、1,4
‑
双(β
‑
环硫丙基硫)丁烷和双(β
‑
环硫丙基硫乙基)硫醚中的一种或多种。
[0011]优选的，所述多硫醇化合物选自1,5,9,13
‑
四巯基
‑
3,7,11
‑
三硫杂十三烷、4
‑
巯基甲基
‑
1,8
‑
二巯基
‑
3,6
‑
二硫代辛烷，四(巯基甲基)甲烷、季戊四醇四
‑
(3
‑
巯基丙酸)酯、1,1,2,2
‑
四
‑
(巯基甲基硫代)乙烷、六(3
‑
巯基丙酸)二季戊四醇酯、季戊四醇四
‑
(3
‑
巯基丁酸)酯和三羟甲基丙烷三
‑
(3
‑
巯基丙酸)酯中的一种或多种。
[0012]优选的，所述多异氰酸酯选自4,4
‑
二环己基甲烷二异氰酸酯、降冰片烷二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、亚甲基双环己基二异氰酸酯和氢化苯二亚甲基二异氰酸酯中的一种或多种。
[0013]优选的，所述含羟基的化合物选自季戊四醇二(3
‑
巯基丙酸)酯、2，3
‑
二硫代(2
‑
巯基)
‑1‑
丙醇、1,2
‑
环硫
‑
5,9
‑
二羟基
‑
7,11
‑
二硫
‑
13,14
‑
环硫
‑
十四烷和季戊四醇一(3
‑
巯基丙酸)酯中的一种或多种。
[0014]优选的，所述含羟基的化合物的含量为0.9
‑
3重量份。
[0015]本申请还提供了一种光学树脂材料，由所述的组合物固化得到。
[0016]本申请还提供了一种光学透镜，由所述的光学树脂材料制备得到。
[0017]本申请提供了一种耐清洗的光学材料组合物，其包括以下原料：多官环硫化合物、3官能度以上的多硫醇化合物、多异氰酸酯和含羟基的化合物；其中，3官能度以上的多硫醇化合物提升了材料的交联密度，降低了氨基甲酸酯极性基团的比例，提升了树脂材料的疏水性，同时含羟基的化合物使一次固化后形成的树脂材料间化学键强度增加，表面结构更加致密稳定，容易清洗；且材料表面含有的羟基可提高耐碱性，碱液难以对表面造成腐蚀，从而极大提高了光学材料的耐清洗性。
具体实施方式
[0018]为了进一步理解本专利技术，下面结合实施例对本专利技术优选实施方案进行描述，但是应当理解，这些描述只是为进一步说明本专利技术的特征和优点，而不是对本专利技术权利要求的限制。
[0019]鉴于现有技术中不同类型光学材料需匹配不同清洗工艺的问题，本专利技术提供了一种耐清洗的光学材料组合物，其可同时满足聚氨酯和亚克力清洗线的要求，具有高耐清洗的优点，且具有较好的光学品质。具体的，本专利技术实施例公开了一种耐清洗的光学材料组合物，包括以下原料：多官环硫化合物、3官能度以上的多硫醇化合物、多异氰酸酯和含羟基的化合物。
[0020]本申请提供的光学材料组合物中，所述多官环硫化合物以改善聚合物材料的折射率和阿贝数；在本申请中，所述多官环硫化合物选自选自双(β
‑
环硫丙基)硫醚、双(β
‑
环硫丙基)二硫醚、双(β
‑
环硫丙基)三硫醚、双(β
‑
环硫丙基硫)甲烷、1,2
‑
双(β
‑
环硫丙基硫)乙烷、1,3
‑
双(β
‑
环硫丙基硫)丙烷、1,4
‑
双(β
‑
环硫丙基硫)丁烷、双(β
‑
环硫丙基硫乙基)硫醚中的一种或多种。所述多官环硫化合物的含量为70～85重量份，具体的，所述多官环硫化合物的含量为71重量份、72重量本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种耐清洗的光学材料组合物，包括以下原料：多官环硫化合物、3官能度以上的多硫醇化合物、多异氰酸酯和含羟基的化合物。2.根据权利要求1所述的光学材料组合物，其特征在于，所述多官环硫化合物的含量为70～85重量份，所述多异氰酸酯的含量为5～10重量份，所述多硫醇化合物的含量为10～20重量份，所述含羟基的化合物的含量为0.5～5重量份。3.根据权利要求1所述的光学材料组合物，其特征在于，所述原料中还包括催化剂，所述催化剂的含量为0.05～2重量份。4.根据权利要求1所述的光学材料组合物，其特征在于，所述多官环硫化合物选自双(β
‑
环硫丙基)硫醚、双(β
‑
环硫丙基)二硫醚、双(β
‑
环硫丙基)三硫醚、双(β
‑
环硫丙基硫)甲烷、1,2
‑
双(β
‑
环硫丙基硫)乙烷、1,3
‑
双(β
‑
环硫丙基硫)丙烷、1,4
‑
双(β
‑
环硫丙基硫)丁烷和双(β
‑
环硫丙基硫乙基)硫醚中的一种或多种。5.根据权利要求1所述的光学材料组合物，其特征在于，所述多硫醇化合物选自1,5,9,13
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四巯基
‑
3,7,11
‑
三硫杂十三烷、4
‑
巯基甲基
‑
1,8
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二巯基
‑
3,6
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二硫代辛烷，四(巯基甲基)甲烷、季戊四醇四
‑
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【专利技术属性】
技术研发人员：孔凡波，梁万根，崔卫华，易先君，曹飞羽，邢莹莹，李迎春，
申请(专利权)人：益丰新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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