一种大面积连续双面处理的等离子体装置及其处理方法制造方法及图纸

技术编号:38410896 阅读:27 留言:0更新日期:2023-08-07 11:17
本发明专利技术提供一种大面积连续双面处理的等离子体装置及其处理方法,包括上等离子体电极和下等离子体电极,共用地电极为承接台;上等离子体电极和下等离子体电极等距安装在地电极上下两侧,通过共用的地电极实现同时放电;上等离子体电极和下等离子体电极分别与上方滑动导轨和下方滑动导轨连接,承接台前后端均安装有调整轮,待处理卷材通过调整轮经过承接台被上等离子体电极进行表面处理,再经过多个传送转轴实现换面,被下等离子体电极处理材料的另一面后,被收料转轴收取。本发明专利技术通过两个并列平板电极结构式的等离子体电极共用一个地电极,有效地在缩小装置尺寸的基础上实现大面积均匀放电,简化工序,并有益于实现连续双面自动处理。面自动处理。面自动处理。

【技术实现步骤摘要】
一种大面积连续双面处理的等离子体装置及其处理方法


[0001]本专利技术属于等离子体
,具体涉及一种大面积连续双面处理的等离子体装置及其处理方法。

技术介绍

[0002]近年来,随着对等离子体技术的深入研究,等离子体处理技术已成为有效的材料表面改性方法。该技术可提高材料的表面能,增强其耐磨性和耐腐蚀性等,从而显著提升材料性能。此外,等离子体表面处理还能在材料表面形成各种纳米结构,如纳米线和纳米颗粒等,为材料赋予新的性质和应用,例如提高其催化活性和生物相容性。尤其在表面涂层制备领域,等离子体处理技术克服了传统涂层制备过程中能耗大和易污染等缺陷。
[0003]在等离子体表面改性技术中,由于等离子体射流结构具有粒子活性高、适应性强等优势备受青睐。然而受自身放电结构的限制,等离子体处理面积较小,因此大面积化等离子体处理成为新的发展趋势。中国专利CN113490322A公开了一种便携式大面积等离子体射流装置系统,通过分布式电阻

针串联阵列电极实现了大面积射流放电,但是射流温度高,无法用于纤维塑料等低熔点材料表面处理;中国本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种大面积连续双面处理的等离子体装置,其特征在于,包括等离子体发生装置、卷绕机构、传动机构、壳体;所述等离子体发生装置包括上等离子体电极(5)和下等离子体电极(16),以及共用的地电极构成,共用地电极还为承接台(3);所述的上等离子体电极(5)和下等离子体电极(16)等距安装在地电极上下两侧,通过共用的地电极实现同时放电;所述上等离子体电极(5)和下等离子体电极(16)分别与上方滑动导轨(4)和下方滑动导轨(15)连接,上方滑动导轨(4)和下方滑动导轨(15)均固定在壳体上,上方滑动导轨(4)由上导轨控制电机(12)控制,下方滑动导轨(15)由下导轨控制电机(11)控制,通过电机控制带动等离子体放电电极往复式移动,移动速度在0.1

200mm/s范围内调节;气体管道设置于所述壳体外部且通过柔性管道分别与上等离子体电极(5)和下等离子体电极(16)连通;卷绕机构包括送料转轴(1)、收料转轴(7);传动机构包括多个传送转轴;送料转轴(1)设在承接台(3)前方,待处理卷材安装在送料转轴(1)上,卷材移动速度与等离子体电极移动速度相匹配,保证处理均匀性,可调节范围为0.01

10mm/s;承接台(3)前后端均安装有调整轮(2),待处理卷材通过调整轮(2)经过承接台(3)被上...

【专利技术属性】
技术研发人员:王瑞雪王慧妍闫安李好义程光起
申请(专利权)人:山东海迪科医用制品有限公司
类型:发明
国别省市:

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