低反射膜以及使用了该低反射膜的照相机模块检查用罩制造技术

提供宽频带中透射率高、且能够以低成本制造的低反射膜。一种低反射膜，具备：由树脂构成的透明基材、设置在透明基材的一个面侧的最表面的第1反射防止层、以及设置在透明基材的另一个面侧的最表面的第2反射防止层，第1反射防止层的反射率最小的波长在500～550nm的范围内，第2反射防止层的反射率最小的波长在400～450nm的范围内，波长450～650nm的光的透射率为98％以上，波长390～780nm的光的平均透射率为96％以上，波长405～425nm的光的透射率和波长770～790nm的光的透射率均为50％以上。长770～790nm的光的透射率均为50％以上。长770～790nm的光的透射率均为50％以上。

【技术实现步骤摘要】
低反射膜以及使用了该低反射膜的照相机模块检查用罩


[0001]本专利技术涉及能够用于照相机模块的检查的低反射膜以及使用了该低反射膜的照相机模块检查用罩。

技术介绍

[0002]图6是示出照相机模块的检查方法的示意图。
[0003]照相机模块93的检查通过照射D65光源的光，并由照相机模块93检测光量(电流值)来进行，如果检测到的光量(电流值)为预定的阈值以上，则判定为良品。为了防止在检查时异物附着在照相机模块93上，如图6所示，将照相机模块93安装在检查用的冶具94上，进一步在被罩90覆盖的状态下检查。罩90具备：具有窗部的框架92、和覆盖框架92的窗部的罩玻璃91。来自光源的光透过罩玻璃91入射到照相机模块93上，但是在入射到罩玻璃91时和从罩玻璃91射出时，在罩玻璃91与空气的界面处发生反射。
[0004]在检查照相机模块93时，入射到摄像元件的光量是预先确定的，但是当因在罩玻璃91的表面的反射而导致入射到摄像元件的光量小于基准值时，本来应该判定为良品的照相机模块93被判定为不良品。因此，为了抑制入射到摄像元件的光量的降低，在罩玻璃91的两面实施反射防止加工。
[0005]作为反射防止层的形成方法，有：溅射或蒸镀等干式成膜法(例如，参照专利文献1)；利用湿涂的湿式成膜法(例如，参照专利文献2)。
[0006]现有技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1：日本特开2014
‑
224979号公报
[0009]专利文献2：日本特开2019
‑
159202号公报

技术实现思路

[0010]本专利技术要解决的课题
[0011]对于照相机模块的检查用的罩玻璃，要求在整个宽频带中透射率高。作为实现宽频带中的高透射率的方法，一般层叠多层反射防止层，但是即使在采用干式成膜法和湿式成膜法中的任一者的情况下，随着成膜工艺的增加，制造成本也增加。
[0012]因此，本专利技术的目的在于提供宽频带中透射率高、且能够以低成本制造的低反射膜。
[0013]用于解决课题的手段
[0014]本专利技术涉及的低反射膜具备：由树脂构成的透明基材、设置在透明基材的一个面侧的最表面的第1反射防止层、以及设置在透明基材的另一个面侧的最表面的第2反射防止层，第1反射防止层的反射率最小的波长在500～550nm的范围内，第2反射防止层的反射率最小的波长在400～450nm的范围内，波长450～650nm的光的透射率为98％以上，波长390～780nm的光的平均透射率为96％以上，波长405～425nm的光的透射率和波长770～790nm的
波长光的透射率均为50％以上。
[0015]本专利技术涉及的照相机模块检查用罩具备上述的低反射膜。
[0016]专利技术的效果
[0017]根据本专利技术，可以提供宽频带中透射率高、且能够以低成本制造的低反射膜。
附图说明
[0018][图1]示出第1实施方式涉及的低反射膜的层构成的剖面图。
[0019][图2]示出第2实施方式涉及的低反射膜的层构成的剖面图。
[0020][图3]示出第3实施方式涉及的低反射膜的层构成的剖面图。
[0021][图4]反射防止层的反射分光光谱。
[0022][图5]实施例和比较例涉及的低反射膜的透射分光光谱。
[0023][图6]示出照相机模块的检查方法的示意图。
[0024]符号的说明
[0025]1、1a、1b透明基材
[0026]2、2a、2b硬涂层
[0027]3a、3b低反射层
[0028]10、20、30低反射膜
具体实施方式
[0029](层构成)
[0030]图1是示出第1实施方式涉及的低反射膜的层构成的剖面图。
[0031]低反射膜10通过将在透明基材1a的一个面侧层叠有硬涂层2a和低反射层3a而成的层叠膜、和在透明基材1b的一个面侧层叠有硬涂层2b和低反射层3b而成的层叠膜经由OCA(Optical ClearAdhesive：光学透明胶)4粘贴而成。在低反射膜10中，透明基材1a和1b经由OCA4粘贴在一起。低反射层3a是设置在透明基材1a或1b的一个面侧的最表面的反射防止层，低反射层3b是设置在透明基材1a的另一个面侧的最表面和透明基材1b的另一个面侧的最表面的反射防止层。
[0032]图2是示出第2实施方式涉及的低反射膜的层构成的剖面图。
[0033]低反射膜20通过在透明基材1的一个面侧层叠硬涂层2a和低反射层3a、在透明基材1的另一个面侧层叠硬涂层2b和低反射层3b而成。低反射层3a和3b是分别设置在透明基材1的一个面侧的最表面和另一个面的最表面的反射防止层。
[0034]图3是示出第3实施方式涉及的低反射膜的层构成的剖面图。
[0035]低反射膜30通过在透明基材1的一个面侧层叠硬涂层2和低反射层3a、在透明基材1的另一个面侧层叠低反射层3b而成。低反射层3a和3b是分别设置在透明基材1的一个面侧的最表面和另一个面的最表面的反射防止层。
[0036]在上述各构成中，透明基材1a和1b可以由相同材料构成、也可以由不同材料构成。硬涂层2a和2b可以由相同材料构成、也可以由不同材料构成。同样地，低反射层3a和3b可以由相同材料构成、也可以由不同材料构成。需要说明的是，关于低反射层3a和3b的厚度，将在后面描述。
[0037](透明基材)
[0038]透明基材是成为低反射膜的基体的膜，由可见光线的透射性优异的材料形成。作为透明基材的形成材料，可以利用：聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯；聚甲基丙烯酸甲酯等聚丙烯酸酯；尼龙6、尼龙66等聚酰胺；聚酰亚胺、聚芳酯、聚碳酸酯、三乙酰纤维素、聚丙烯酸酯、聚乙烯醇、聚氯乙烯、环烯烃共聚物、含降冰片烯树脂、聚醚砜、聚砜等透明树脂或无机玻璃。对透明基材的厚度没有特别地限定，优选为10～200μm。另外，为了提高透射率，透明基材优选不含有紫外线吸收剂。
[0039]为了提高与硬涂层或低反射层的密合性，可以对透明基材的表面实施表面改性处理。作为表面改性处理，可以示例出碱处理、电晕处理、等离子体处理、溅射处理、表面活性剂、硅烷偶联剂等的涂布、Si蒸镀等。
[0040](硬涂层)
[0041]硬涂层是对低反射膜赋予硬度的层，可以通过涂布至少含有活性能量射线固化性树脂、光聚合引发剂、溶剂的硬涂层形成用组合物并使其固化来形成。对硬涂层的厚度没有特别地限定，优选为2～10μm。在硬涂层的厚度小于2μm的情况下，硬涂层的硬度可能不足。在硬涂层的厚度超过10μm的情况下，不利于低反射膜的薄型化，因此不优选。但是，硬涂层的膜厚可以根据光学膜所要求的表面硬度和整体的厚度适当设定。另外，为了调节折射率和赋予硬度，硬涂层也可以含有金属氧化物微粒。
[0042]活性能量本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种低反射膜，具备：由树脂构成的透明基材、设置在所述透明基材的一个面侧的最表面的第1反射防止层、以及设置在所述透明基材的另一个面侧的最表面的第2反射防止层，所述第1反射防止层的反射率最小的波长在500～550nm的范围内，所述第2反射防止层的反射率最小的波长在400～450nm的范围内，波长450～650nm的光的透射率为9...

【专利技术属性】
技术研发人员：尾，
申请(专利权)人：株式会社凸版巴川光学薄膜，
类型：发明
国别省市：