一种超硬抗刮花涂层盖板的制作方法及盖板技术

本发明专利技术公开了一种超硬抗刮花涂层盖板的制作方法及盖板，属于电子产品透光膜领域，包括：在基板上镀设连接层；在镀有连接层的基板上溅射超硬耐刮花层；基板、连接层和超硬耐刮花层形成耐刮花的盖板；所述超硬耐刮花层为碳化X。生成高硬度碳化X，具有超高的硬度特点，可以实现镀制超过莫氏硬度8的特殊材料效果；常规玻璃基板的莫氏硬度小于3，镀完该超硬耐刮花层后莫氏硬度大于8，使得镀有该超硬耐刮花层的盖板在使用中不易被刮花损坏；镀有该超硬耐刮花层的盖板适用于3D产品，在弧边处无异色等外观差异，可用于手机、手表的前后盖；并且对于曲面和平面产品都适合。于曲面和平面产品都适合。于曲面和平面产品都适合。

【技术实现步骤摘要】
一种超硬抗刮花涂层盖板的制作方法及盖板


[0001]本专利技术涉及一种超硬增透涂层，具体是一种超硬抗刮花涂层盖板的制作方法及盖板。

技术介绍

[0002]目前在使用的手机显示屏，通常是玻璃盖板，因常与配饰、桌面等物体碰撞摩擦，配饰和桌面上会有砂砾或尖锐状棱角，导致手机盖板产生明显划痕。现有技术中为了防剐蹭，使用超硬耐刮层与其他增透层形成多层堆叠。为了有较好的超硬效果，耐刮花层非常厚，因镀膜时间长且膜层较厚，膜层本身会产生非常大的压应力，该应力会明显导致基板变形，产品外形受到影响。为了控制抵消变形，在制作过程中需要对基板进行预变形，增加了制作步骤的复杂度。
[0003]因此，本领域技术人员提供了一种超硬抗刮花涂层盖板的制作方法及盖板，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种超硬抗刮花涂层盖板的制作方法及盖板，通过使用射频磁控溅射反应工艺，生成高硬度碳化X形成超硬耐刮层，具有超高的硬度，厚度薄，两层堆叠，基板不会发生形变，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
[0006]一种超硬抗刮花涂层盖板的制作方法，包括：
[0007]在基板上镀设连接层；
[0008]在镀有连接层的基板上溅射超硬耐刮花层；基板、连接层和超硬耐刮花层形成耐刮花的盖板；
[0009]所述超硬耐刮花层为碳化X。
[0010]作为本专利技术的一种技术优化方案，在所述镀有连接层的基板上溅射超硬耐刮花层包括：
[0011]将所述镀有连接层的基板放置于惰性气体的真空环境中；
[0012]对所述镀有连接层的基板同时溅射中频碳靶材和X靶材，使其产生碳原子和X原子，并沉积于连接层表面，溅射产生的惰性气体离子对沉积的碳原子和X原子进行轰击获得高能量，产生原子间自化合，生成碳化X作为超硬耐刮花层。
[0013]作为本专利技术的一种技术优化方案，所述X靶材为铝、铬、硅、铌中的任意一种。
[0014]作为本专利技术的一种技术优化方案，溅射过程中通入的惰性气体为氦气、氖气、氩气中的任意一种。
[0015]作为本专利技术的一种技术优化方案，所述超硬耐刮花层的厚度为10
‑
100nm。
[0016]作为本专利技术的一种技术优化方案，镀有超硬耐刮花层的基板莫氏硬度大于8。
[0017]作为本专利技术的一种技术优化方案，所述连接层为氧化硅层，氧化硅层的厚度小于
超硬耐刮花层的厚度。
[0018]作为本专利技术的一种技术优化方案，所述基板为透明材质，为玻璃、树脂或柔性PET中的任意中一种。
[0019]一种超硬抗刮花涂层盖板，由上述盖板制作方法制备而来。
[0020]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
[0021]1、本专利技术通过射频磁控溅射反应工艺，生成高硬度碳化X，具有超高的硬度特点，可以实现镀制超过莫氏硬度8的特殊材料效果；常规玻璃基板的莫氏硬度小于3，镀完该超硬耐刮花层后莫氏硬度大于8，使得镀有该超硬耐刮花层的盖板在使用中不易被刮花损坏；
[0022]2、镀有该超硬耐刮花层的盖板适用于3D产品，在弧边处无异色等外观差异，可用于手机、手表的前后盖；并且对于曲面和平面产品都适合。
附图说明
[0023]图1为本专利技术中超硬耐刮花层与基板结合结构示意图。
[0024]图中：1、超硬耐刮花层；2、连接层；3、基板。
具体实施方式
[0025]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0026]在本专利技术中，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“竖直”、“水平”、“横向”、“纵向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系。这些术语主要是为了更好地描述本专利技术及其实施例，并非用于限定所指示的装置、元件或组成部分必须具有特定方位，或以特定方位进行构造和操作。
[0027]并且，上述部分术语除了可以用于表示方位或位置关系以外，还可能用于表示其他含义，例如术语“上”在某些情况下也可能用于表示某种依附关系或连接关系。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解这些术语在本专利技术中的具体含义。
[0028]此外，术语“安装”、“设置”、“设有”、“连接”、“相连”应做广义理解。例如，可以是固定连接，可拆卸连接，或整体式构造；可以是机械连接，或电连接；可以是直接相连，或者是通过中间媒介间接相连，又或者是两个装置、元件或组成部分之间内部的连通。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0029]此外，术语“第一”、“第二”等主要是用于区分不同的装置、元件或组成部分(具体的种类和构造可能相同也可能不同)，并非用于表明或暗示所指示装置、元件或组成部分的相对重要性和数量。除非另有说明，“多个”的含义为两个或两个以上。
[0030]以下将结合附图对本申请的方案如何解决上述技术问题详细介绍。
[0031]请参阅图1，本专利技术公开了一种超硬抗刮花涂层盖板的制作方法，包括：
[0032]在基板3上镀设连接层2；
[0033]在镀有连接层2的基板3上溅射超硬耐刮花层1；基板3、连接层2和超硬耐刮花层3堆叠形成耐刮花的盖板；
[0034]超硬耐刮花层1为碳化X。
[0035]利用碳化X形成的超硬耐刮花层1和连接层2在基板3上堆叠形成盖板。仅有两层堆叠，制作工艺简单，而且制作中产生的应力小，基板3不会发生变形，制备得到的盖板可以适应不同尺寸盖板的使用需求。
[0036]可选地，在镀有连接层2的基板3上溅射超硬耐刮花层1包括：
[0037]将镀有连接层2的基板3放置于惰性气体的真空环境中；
[0038]对镀有连接层2的基板3同时溅射中频碳靶材和X靶材，使其产生碳原子和X原子，并沉积于连接层2表面，用射频离子源使得惰性气体激发成气体离子，溅射产生的惰性气体离子对沉积的碳原子和X原子进行轰击获得高能量，产生原子间自化合，生成碳化X作为超硬耐刮花层1。
[0039]采用同时溅射中频碳靶材和X靶材，能同时产生碳原子和X原子，效率得到提升，并且形成的超硬耐刮花层1更加均匀。
[0040]可选地，X靶材为铝、铬、硅、铌中的任意一种。
[0041]采用铝、铬、硅、铌中的任意一种作为X靶材，经过溅射后可以形成碳化铝、碳化铬、碳化硅、碳化铌中的一种作为超硬耐刮花层1。以碳化硅为例，碳化硅作为超硬耐刮花层1，具有耐磨损、抵抗冷热冲击等优点，可以使产品具有较高的耐磨性和抗刮花能力。
[0042]可选地，溅射过程中通入的惰性气体为氦气、氖气、氩气中的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超硬抗刮花涂层盖板的制作方法，其特征在于，包括：在基板上镀设连接层；在镀有连接层的基板上溅射超硬耐刮花层；基板、连接层和超硬耐刮花层形成耐刮花的盖板；所述超硬耐刮花层为碳化X。2.根据权利要求1所述的一种超硬抗刮花涂层盖板的制作方法，其特征在于，在所述镀有连接层的基板上溅射超硬耐刮花层包括：将所述镀有连接层的基板放置于惰性气体的真空环境中；对所述镀有连接层的基板同时溅射中频碳靶材和X靶材，使其产生碳原子和X原子，并沉积于连接层表面，溅射产生的惰性气体离子对沉积的碳原子和X原子进行轰击获得高能量，产生原子间自化合，生成碳化X作为超硬耐刮花层。3.根据权利要求2所述的一种超硬抗刮花涂层盖板的制作方法，其特征在于，所述X靶材为铝、铬、硅、铌中的任意一种。4.根据权利要求2或3所述的一种超硬抗刮花涂层盖板的制...

【专利技术属性】
技术研发人员：李少华，钱宝，
申请(专利权)人：安徽精卓光显技术有限责任公司，
类型：发明
国别省市：