硅片清洗废水处理机构制造技术

本实用新型专利技术涉及废水处理技术领域，具体为硅片清洗废水处理机构，包括废水处理桶，所述废水处理桶一侧设有进水管，上方设有第一支撑板和第二支撑板，还包括：搅拌部，所述搅拌部通过第一动力源驱动其转动用于搅拌废水，通过第二动力源驱动所述搅拌部升降，使所述搅拌部处于所述废水处理桶的内部或处于所述废水处理桶的外部。本实用新型专利技术通过设置搅拌部，当搅拌叶完成搅拌工作后，搅拌叶移出废水处理桶外，搅拌叶对下沉中的沉淀物不会造成阻碍，避免沉淀物沉淀于搅拌叶上。淀物沉淀于搅拌叶上。淀物沉淀于搅拌叶上。

【技术实现步骤摘要】
硅片清洗废水处理机构


[0001]本技术涉及废水处理
，具体为硅片清洗废水处理机构。

技术介绍

[0002]半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。对于清洗后的废水要进行处理才能够排放，在废水处理的过程中，为了加速反应的速度，往往会采用搅拌叶对废水进行搅拌，使废水在反应时能够反应充分，但是搅拌叶的存在往往会干扰到反应后的沉淀物的沉淀，导致部分沉淀物易沉于搅拌叶的上端从而位于清水层中，使得清水层在排出时掺杂沉淀物。鉴于此，我们提出硅片清洗废水处理机构。

技术实现思路

[0003]为了弥补以上不足，本技术提供了硅片清洗废水处理机构。
[0004]本技术的技术方案是：
[0005]硅片清洗废水处理机构，包括废水处理桶，所述废水处理桶一侧设有进水管，上方设有第一支撑板和第二支撑板，还包括：
[0006]搅拌部，所述搅拌部通过第一动力源驱动其转动用于搅拌废水，通过第二动力源驱动所述搅拌部升降，使所述搅拌部处于所述废水处理桶的内部或处于所述废水处理桶的外部。
[0007]优选的，所述搅拌部包括移动块和第三连接杆，所述第三连接杆穿过所述移动块且所述移动块位于所述第三连接杆上。
[0008]优选的，所述第三连接杆上设有连接柱，所述连接柱在所述第三连接杆上呈圆周分布，所述移动块内设有滑槽，所述第三连接杆转动时所述连接柱在所述滑槽内转动。
[0009]优选的，所述连接柱与所述滑槽的上下两端接触，所述第三连接杆上下移动时带动所述连接柱和所述移动块上下移动。
[0010]优选的，所述第一支撑板的一侧设有凹槽，所述凹槽内设有第四连接杆，所述移动块两侧设有第二连接杆且所述第二连接杆沿着所述第四连接杆移动。
[0011]优选的，所述第三连接杆上设有搅拌叶，所述第一动力源驱动所述第三连接杆和所述搅拌叶转动，所述第二动力源驱动所述第一动力源上下移动带动所述第三连接杆和所述搅拌叶进入所述废水处理桶内或移出所述废水处理桶外。
[0012]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0013]本技术通过设置搅拌部，当搅拌叶完成搅拌工作后，搅拌叶移出废水处理桶
外，搅拌叶对下沉中的沉淀物不会造成阻碍，避免沉淀物沉淀于搅拌叶上，使清水层中不掺杂沉淀物。
附图说明
[0014]图1为本技术的整体结构示意图；
[0015]图2为本技术的部分结构示意图其一；
[0016]图3为本技术第一支撑板的侧面图；
[0017]图4为本技术的部分结构示意图其二。
[0018]图中：1、废水处理桶；2、进水管；3、第一支撑板；4、第二支撑板；5、气缸；6、第一连接杆；7、电机；8、移动块；9、第二连接杆；10、第三连接杆；11、搅拌叶；12、凹槽；13、第四连接杆；14、滑槽；15、连接柱。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0020]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0021]请参阅图1
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4，本技术通过以下实施例来详述上述技术方案：
[0022]硅片清洗废水处理机构，包括废水处理桶1，所述废水处理桶1一侧设有进水管2，上方设有第一支撑板3和第二支撑板4，第一支撑板3的上端与第二支撑板4固定连接，下端与废水处理桶1固定连接，还包括：
[0023]搅拌部，所述搅拌部通过第一动力源驱动其转动用于搅拌废水，通过第二动力源驱动所述搅拌部升降，使所述搅拌部处于所述废水处理桶1的内部或处于所述废水处理桶1的外部。第一动力源为电机7，第二动力源为气缸5，气缸5固定于第二支撑板4上，气缸5下方固定连接有第一连接杆6，第一连接杆6与电机7固定连接。所述搅拌部包括移动块8和第三连接杆10，所述第三连接杆10穿过所述移动块8且所述移动块8位于所述第三连接杆10上。所述第三连接杆10上设有连接柱15，所述连接柱15在所述第三连接杆10上呈圆周分布，所述移动块8内设有滑槽14，所述第三连接杆10转动时所述连接柱15在所述滑槽14内转动。第三连接杆10与连接柱15固定连接。所述连接柱15与所述滑槽14的上下两端接触，所述第三连接杆10上下移动时带动所述连接柱15和所述移动块8上下移动。所述第一支撑板3的一侧设有凹槽12，所述凹槽12内设有第四连接杆13，所述移动块8两侧设有第二连接杆9且所述第二连接杆9沿着所述第四连接杆13移动。第四连接杆13的上下两端均与凹槽12的槽壁固定连接，第四连接杆13穿过第二连接杆9。所述第三连接杆10上设有搅拌叶11，所述第一动力源驱动所述第三连接杆10和所述搅拌叶11转动，所述第二动力源驱动所述第一动力源上
下移动带动所述第三连接杆10和所述搅拌叶11进入所述废水处理桶1内或移出所述废水处理桶1外。搅拌叶11与第三连接杆10固定连接。
[0024]使用时，经过格栅过滤后的废水从进水管2进入废水处理桶1内，废水处理桶1顶端设有圆孔，电机7、第三连接杆10和搅拌叶11通过圆孔进入废水处理桶1内或移出废水处理桶1内外。在废水处理桶1内加入氢氧化钠和聚合氯化铝，使废水中的颗粒物发生絮凝反应，在反应时，启动电机7，电机7带动第三连接杆10转动，从而带动搅拌叶11转动，对废水进行搅拌，加快废水的流速，使废水充分混合反应，混合后的废水出现沉淀物，此时再启动气缸5，气缸5带动第二连接杆9沿着第四连接杆13向上移动，电机7、第三连接杆10和搅拌叶11同时向上移动，搅拌叶11移出废水处理桶1外，搅拌叶11对下沉中的沉淀物不会造成阻碍，避免沉淀物沉淀于搅拌叶11上。沉淀完成后的废水分为上清液和沉淀物，上清液经提升泵提升至厌氧反应器中，沉淀物流入污泥池。
[0025]以上显示和描述了本技术的基本本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.硅片清洗废水处理机构，包括废水处理桶(1)，所述废水处理桶(1)一侧设有进水管(2)，上方设有第一支撑板(3)和第二支撑板(4)，其特征在于，还包括：搅拌部，所述搅拌部通过第一动力源驱动其转动用于搅拌废水，通过第二动力源驱动所述搅拌部升降，使所述搅拌部处于所述废水处理桶(1)的内部或处于所述废水处理桶(1)的外部。2.如权利要求1所述的硅片清洗废水处理机构，其特征在于：所述搅拌部包括移动块(8)和第三连接杆(10)，所述第三连接杆(10)穿过所述移动块(8)且所述移动块(8)位于所述第三连接杆(10)上。3.如权利要求2所述的硅片清洗废水处理机构，其特征在于：所述第三连接杆(10)上设有连接柱(15)，所述连接柱(15)在所述第三连接杆(10)上呈圆周分布，所述移动块(8)内设有滑槽(14)，所述第三连接杆(10)转动时所述连接柱(15)在所述滑槽...

【专利技术属性】
技术研发人员：牛小群，牛犇，余建辉，苏良彬，赖正源，张春，
申请(专利权)人：浙江星宇能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：