一种带水冷结构的坩埚制造技术

本实用新型专利技术提供了一种带水冷结构的坩埚，包括坩埚座、底盖、隔板和转轴，所述坩埚座的上端面开设有坩埚槽，在该坩埚槽内安装有坩埚本体，所述底盖与坩埚座之间设置有密封圈，且底盖与坩埚座固定连接后形成一密封的腔体，隔板设置在该腔体内，且隔板将腔体分隔成进水腔和出水腔，在该进水腔内设置有螺旋状的流道墙，相邻的两个流道墙之间形成有冷却流道，所述转轴包括转轴套和进水管，转轴套与进水管之间形成有环形的出水流道，该出水流道与出水腔相连通，所述进水管与进水腔相连通。本实用新型专利技术具备结构简单，设计合理，方便操作，可以快速对多个坩埚本体同时进行散热，散热的效率高，且可以有效的提高真空镀膜的效率。以有效的提高真空镀膜的效率。以有效的提高真空镀膜的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种带水冷结构的坩埚


[0001]本技术涉及真空镀膜
，具体为一种带水冷结构的坩埚。

技术介绍

[0002]真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上，真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富，总体来说，真空镀膜的主要功能包括改变被镀件表面物理特性，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，或提供所需的光学性能。
[0003]坩埚是真空镀膜技术中必不可少的，它主要用于盛放镀膜材料，通过对镀膜材料高温蒸发达到镀膜的目的，对于不同的镀膜材料加热的温度不同，镀膜过程中需要对坩埚进行降温。目前，传统的做法水冷设计存在以下弊端：1、水冷效率低，容易造成散热不良导致坩埚损坏；2、结构复杂，容易在使用过程中出现漏水渗水问题。
[0004]针对散热问题，申请人设计了一种带水冷结构的坩埚。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种带水冷结构的坩埚，具备结构简单，设计合理，方便操作，可以快速对多个坩埚本体同时进行散热，散热的效率高，且可以有效的提高真空镀膜的效率，解决了上述技术背景所提出的问题。
[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种带水冷结构的坩埚，包括坩埚座、底盖、隔板和转轴，所述坩埚座的上端面开设有坩埚槽，在该坩埚槽内安装有坩埚本体，所述底盖与坩埚座之间设置有密封圈，且底盖与坩埚座固定连接后形成一密封的腔体，隔板设置在该腔体内，且隔板将腔体分隔成进水腔和出水腔，在该进水腔内设置有螺旋状的流道墙，相邻的两个流道墙之间形成有冷却流道，所述转轴包括与底盖固定连接的转轴套以及设置在转轴套内的进水管，所述转轴套由下往上贯穿底盖后延伸至出水腔内，且转轴套与进水管之间形成有环形的出水流道，所述出水流道与出水腔相连通，所述进水管由下往上依次贯穿底盖、出水腔和隔板后与进水腔相连通。
[0007]优选的，所述隔板上开设有通水孔，该通水孔位于冷却流道的末端位置，且通水孔将进水腔和出水腔相连通。
[0008]优选的，所述转轴套上开设有进水孔和出水孔，其中进水孔位于出水孔的下方，且进水孔与进水管相连通，所述出水孔与出水流道相连通。
[0009]优选的，所述坩埚槽设置有多个，多个所述坩埚槽沿着坩埚座的圆周方向均匀分布。
[0010]优选的，所述流道墙由内向外逐渐变高。
[0011]与现有技术相比，本技术的有益效果如下：
[0012]1、本技术提供了一种带水冷结构的坩埚，该坩埚包括坩埚座、底盖、隔板和转轴，整体结构简单，设计合理，其中坩埚座上开设有多个坩埚槽，每个坩埚槽内均安装有坩
埚本体，坩埚本体用于放置镀膜材料，多个坩埚本体可以同时真空镀膜多种镀膜材料，提高镀膜的效率，坩埚座与底盖扣合形成一密封的腔体，在该腔体内设置有隔板，该隔板将腔体分隔成进水腔和出水腔，通过在进水腔内设置螺旋状的流道墙，该流道墙由内向外逐渐变高，冷却水可以由流道墙内部的冷却流道往外部的冷却流道溢出，最终由通水孔进入到出水腔，再由出水腔排出，以此来实现对坩埚本体的冷却散热。
[0013]2、本技术中的转轴包括与底盖固定连接的转轴套以及设置在转轴套内的进水管，其中转轴套与进水管之间形成有环形的出水流道，该出水流道与出水腔相连通，进水管与进水腔相连通，进水管与进水孔接通来给进水腔供水，出水流道与出水孔连通将冷却后的废水排出，达到一个循环冷却的目的，散热效率高，值得大力推广运用。
附图说明
[0014]图1为本技术的整体结构图；
[0015]图2为本技术的主视图；
[0016]图3为本技术图2中A
‑
A的剖视图；
[0017]图4为本技术图3中B的放大图；
[0018]图5为本技术图3中C的放大图；
[0019]图6为本技术坩埚座与流道墙装配后的结构示意图。
[0020]图中的附图标记及名称如下：
[0021]1、坩埚座；2、底盖；3、隔板；4、转轴；41、转轴套；42、进水管；43、出水流道；5、坩埚槽；6、坩埚；7、密封圈；8、进水腔；9、出水腔；10、流道墙；11、冷却流道；12、通水孔；13、进水孔；14、出水孔。
具体实施方式
[0022]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0023]请参阅图1至图6，本技术提供的一种实施例：一种带水冷结构的坩埚，该坩埚包括坩埚座1、底盖2、隔板3和转轴4，其中坩埚座1的上端面开设有坩埚槽5，所述坩埚槽5设置有多个，多个所述坩埚槽5沿着坩埚座1的圆周方向均匀分布，每个所述坩埚槽5内均安装有坩埚本体6，所述底盖2与坩埚座1之间设置有密封圈7，且底盖2与坩埚座1固定连接后形成一密封的腔体，隔板3设置在该腔体内，且隔板3将腔体分隔成进水腔8和出水腔9，进水腔8位于出水腔9的上方，在该进水腔8内设置有螺旋状的流道墙10，相邻的两个流道墙10之间形成有冷却流道11，为了便于冷却水溢出，将所述流道墙10的高度值设计为由内向外逐渐变高，冷却流道11内的冷却水可以由内向外溢出，达到降温的目的，所述转轴4包括与底盖2固定连接的转轴套41以及设置在转轴套41内的进水管42，所述转轴套41由下往上贯穿底盖2后延伸至出水腔9内，且转轴套41与进水管42之间形成有环形的出水流道43，所述出水流道43与出水腔9相连通，所述进水管42由下往上依次贯穿底盖2、出水腔9和隔板3后与进水腔8相连通，所述转轴套41上开设有进水孔13和出水孔14，其中进水孔13位于出水孔14的下
方，且进水孔13与进水管42相连通，所述出水孔14与出水流道43相连通，通过进水孔13与进水管42来给进水腔8提供冷却水，通过出水孔14和出水流道43将冷却水排出，以此达到循环冷却坩埚本体6的目的，大大提高了坩埚本体6的散热效率。
[0024]具体的，所述隔板3上开设有通水孔12，该通水孔12位于冷却流道11的末端位置，且通水孔12将进水腔8和出水腔9相连通。
[0025]请再次参阅图1至图6，本技术中的带水冷结构的坩埚在使用时，坩埚整体安装在真空电镀室的旋转机构(图未示意)上，通过旋转机构来带动整个坩埚旋转，在具体实施时，进水孔13和出水孔14分别与储水装置连通，储水装置内设置有可以将冷却水导入进水管42的水泵，冷却水经进水管42达到进水腔8，并由进水腔8内部的冷却流道11外外部的冷却流道11溢出，最终由通水孔12进入到出水腔9，再由出水流道43排出至储水装置，达到循环冷却的目的。
[0026]对于本领域技术人员而言，显然本技术不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本技术的精神或基本本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种带水冷结构的坩埚，其特征在于：包括坩埚座(1)、底盖(2)、隔板(3)和转轴(4)，所述坩埚座(1)的上端面开设有坩埚槽(5)，在该坩埚槽(5)内安装有坩埚本体(6)，所述底盖(2)与坩埚座(1)之间设置有密封圈(7)，且底盖(2)与坩埚座(1)固定连接后形成一密封的腔体，隔板(3)设置在该腔体内，且隔板(3)将腔体分隔成进水腔(8)和出水腔(9)，在该进水腔(8)内设置有螺旋状的流道墙(10)，相邻的两个流道墙(10)之间形成有冷却流道(11)，所述转轴(4)包括与底盖(2)固定连接的转轴套(41)以及设置在转轴套(41)内的进水管(42)，所述转轴套(41)由下往上贯穿底盖(2)后延伸至出水腔(9)内，且转轴套(41)与进水管(42)之间形成有环形的出水流道(43)，所述出水流道(43)与出水腔(9)相连通，所述进水管(42)...

【专利技术属性】
技术研发人员：李英魁，
申请(专利权)人：四会市华源真空设备有限公司，
类型：新型
国别省市：