一种用于金属器件的环保型解胶剂及制备方法技术

本发明专利技术公开一种用于金属器件的环保型解胶剂，摒弃对环境和人体有负担的解胶剂配方，选择一般无公害的试剂做为配方组分，从原料就保证了其具备的环保低毒性优势；在此基础上，添加合适的助剂，例如：乳化剂、表面活性剂、金属螯合剂、腐蚀抑制剂、软化剂以及纯化水，多组分协同作用使解胶剂发挥不以破坏金属器件表面为代价的而提升整体清洁力的作用；保证直接对胶本身发挥作用，不影响金属器件后续功能的发挥，对半导体加工过程中的大多数的金属有抗腐蚀普适性，剂型稳定不易挥发，并且处理后的解胶剂废液量少易于清理。解胶剂废液量少易于清理。解胶剂废液量少易于清理。

【技术实现步骤摘要】
一种用于金属器件的环保型解胶剂及制备方法


[0001]本专利技术属于化工材料
，具体涉及一种用于金属器件的环保型解胶剂及制备方法。
[0002]技术背景金属材料作为板材、基材等常用材质在日常生活中有广泛的应用，科技创新发展使得其在半导体领域也有很好的使用前景。在半导体领域，单质半导体以金属锗为例，化合物半导体以砷化镓、磷化镓、磷化铟、硫化镉、硒化镉、碲化锌、锌硫化物、硫化物、硒化铅、镓铝砷固溶体、镓锗砷磷固溶体等为其中代表，前后端制造中使用过铝、锡、铜等作为互联材料，由此可见半导体领域涉及的金属材料种类繁多。在半导体的加工过程中，尤其是光刻工业过程中，因为需要在衬底上涂胶，在光刻胶涂覆之前，先将衬底进行预处理，为了提高光刻胶在衬底表面的附着能力，在衬底表面涂上增稠剂，目前常见的增稠剂是六甲基乙硅氮烷、三甲基甲硅烷基二乙胺，后依次经过光刻胶的涂抹、软烘干、曝光、显影、硬烘干、刻蚀和离子注入这一系列的处理，这样的话作为衬底材料的金属器件上难免会残余多种残留物，以光刻胶为主的残留物经过增稠剂的偶联效应后比较难以去除，目前一般用解胶剂进行去除。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于金属器件的环保型解胶剂，以重量计，包括以下组分：
ⅰ
.任意一种或多种具有至少一个氨基的多官能团胺或铵盐，3~16%；
ⅱ
.任意一种或多种极性水溶性有机溶剂，30~70%；
ⅲ
.任意一种或多种腐蚀抑制剂，5~13%；
ⅳ
.任意一种或多种乳化剂，2~12%；
ⅴ
.纯化水，5~15%；
ⅵ
.1~5%的金属螯合剂、1~5%的表面活性剂、1~5%的软化剂中的三种或者任意一种。2.根据权利要求1所述的一种用于金属器件的环保型解胶剂，其特征在于，所述具有至少一个氨基的多官能团胺或铵盐，选自醇胺类化合物、吡啶盐类化合物、吗啉盐类化合物、咪唑啉类化合物、醇醚季铵盐或烷基季铵盐中的一种或多种。3.根据权利要求1所述的一种用于金属器件的环保型解胶剂，其特征在于，所述极性水溶性有机溶剂包括多元醇类化合物、吡咯烷酮类化合物、醇醚类化合物中的至少一种。4.根据权利要求1所述的一种用于金属器件的环保型解胶剂，其特征在于，所述腐蚀抑制剂包括核糖基嘌呤及其衍生物、腺苷及其衍生物或其降解产物、嘌呤糖复合物、吡唑类及其衍生物、磷酸及其衍生物、糖酸及糖酸内酯、抗坏血酸中的一种或多种。5.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：夏品军，
申请(专利权)人：江苏矽研半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：