一种显示面板、显示装置及制备方法制造方法及图纸

本发明专利技术实施例公开了一种显示面板、显示装置及制备方法。该显示面板包括：阵列基板，阵列基板包括衬底基板和位于衬底基板一侧的封装层，封装层远离衬底基板的一侧表面设置有容置槽；发光单元，位于容置槽内且容置槽内填充有吸光材料，封装层和发光单元远离衬底基板的一侧表面形成有保护膜；在相同刻蚀条件下，保护膜的刻蚀速率小于吸光材料的刻蚀速率。本发明专利技术实施例解决了现有显示面板中因吸光材料残留引起的出光光效差、透过率低的问题，不仅可避免相邻发光单元之间的光晕串扰，还能避免吸光材料的残留以及封装层的碳化引起的遮光效果，保证发光单元良好的出光光效以及显示面板较佳的透光效果。佳的透光效果。佳的透光效果。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板、显示装置及制备方法


[0001]本专利技术实施例涉及显示
，尤其涉及一种显示面板、显示装置及制备方法。

技术介绍

[0002]现有微发光二极管(Micro Light Emitting Diode，Micro
‑
LED)和迷你发光二极管(mini Light Emitting Diode，mini
‑
LED)技术为了降低反射率，改善光晕串扰一般选择用黑色的吸光材料进行间隔，但是对于LED的透明显示屏，透明区及LED一般会先用透明的封装胶将其封装保护，然后再制作黑色吸光材料。在制作黑色吸光材料时，一般会先形成整层的黑色吸光材料，然后将多余的黑色吸光材料去除。
[0003]然而，基于工艺波动以及LED表面特殊的出光结构，透明区及LED图形化衬底结构上方往往会残留一层黑色材料，影响透明区的透过率以及LED的出光光效。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供一种显示面板、显示装置及制备方法，以有效去除多余的黑色吸光材料，解决光晕串扰的同时，保证透明显示屏的透过率和显示效果。
[0005]第一方面，本专利技术实施例提供了一种显示面板，包括：
[0006]阵列基板，所述阵列基板包括衬底基板和位于所述衬底基板一侧的封装层，所述封装层远离所述衬底基板的一侧表面设置有容置槽；
[0007]发光单元，位于所述容置槽内且所述容置槽内填充有吸光材料，所述封装层和所述发光单元远离所述衬底基板的一侧表面形成有保护膜；在相同刻蚀条件下，所述保护膜的刻蚀速率小于所述吸光材料的刻蚀速率。
[0008]第二方面，本专利技术实施例还提供了一种显示装置，包括如第一方面所述的显示面板。
[0009]第三方面，本专利技术实施例还提供了一种显示面板的制备方法，包括：
[0010]制备阵列基板，所述阵列基板包括衬底基板和位于所述衬底基板一侧的封装层，所述封装层远离所述衬底基板的一侧表面设置有容置槽；
[0011]将发光单元键合至所述容置槽内；
[0012]在所述封装层和所述发光单元远离所述衬底基板的一侧表面形成保护膜；
[0013]在键合有所述发光单元的所述封装层远离所述衬底基板的一侧表面形成吸光材料层，以使所述容置槽内填充吸光材料；其中，在相同刻蚀条件下，所述保护膜的刻蚀速率小于所述吸光材料的刻蚀速率；
[0014]对所述吸光材料层进行图案化，去除所述封装层以及所述发光单元远离所述衬底基板的一侧表面的吸光材料。
[0015]本专利技术实施例的技术方案，通过在显示面板中设置阵列基板和发光单元，阵列基板中包括衬底基板和位于衬底基板一侧的封装层，在封装层远离衬底基板的一侧表面设置容置槽，将发光单元容置在容置槽中并填充吸光材料，可以通过吸光材料吸收横向的出射
光线，对发光单元在横向上进行隔绝，避免相邻发光单元之间的光晕串扰。同时，在封装层和发光单元远离衬底基板的一侧表面形成保护膜，且该保护膜的刻蚀速率低于吸光材料的刻蚀速率，能够保证在去除多余的吸光材料时可以优先刻蚀吸光材料，保护膜实现对覆盖的封装层以及发光单元远离衬底基板一侧表面的保护，避免其受到刻蚀，由此能够对多余吸光材料进行充分去除，避免吸光材料的残留以及封装层的碳化引起的遮光效果，保证发光单元良好的出光光效以及显示面板较佳的透光效果。
附图说明
[0016]图1是相关技术中LED透明显示面板的吸光层去除工艺示意图；
[0017]图2是本专利技术实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
[0018]图3是本专利技术实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程图；
[0019]图4是图3所示显示面板制备方法的结构流程图；
[0020]图5是本专利技术实施例提供的另一种显示面板的俯视结构示意图；
[0021]图6是图5所示显示面板在AA
’
处的一种剖面结构示意图；
[0022]图7是本专利技术实施例提供的另一种显示面板的制备方法的流程图；
[0023]图8是图5所示显示面板在AA
’
处的另一种剖面结构示意图；
[0024]图9是本专利技术实施例提供的又一种显示面板的制备方法的流程图；
[0025]图10是图5所示显示面板在AA
’
处的又一种剖面结构示意图；
[0026]图11是本专利技术实施例提供的又一种显示面板的俯视结构示意图；
[0027]图12和图13是图11所示显示面板分别在EE
’
和FF
’
处的剖面结构示意图；
[0028]图14是图5所示显示面板在AA
’
处的再一种剖面结构示意图；
[0029]图15是图5所示显示面板在BB
’
处的剖面结构示意图；
[0030]图16和图17是是图5所示显示面板在AA
’
处的再两种剖面结构示意图；
[0031]图18和图19是图5所示显示面板在CC
’
处的两种剖面结构示意图；
[0032]图20是图5所示显示面板在DD
’
处的剖面结构示意图；
[0033]图21和图22是本专利技术实施例提供的又两种显示面板的局部剖面结构示意图；
[0034]图23
‑
图25是本专利技术实施例提供的又三种显示面板的局部剖面结构示意图；
[0035]图26和图27是本专利技术实施例提供的又两种显示面板的局部剖面结构示意图；
[0036]图28是本专利技术实施例提供的又一种显示面板的局部剖面结构示意图；
[0037]图29为本专利技术实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
[0038]下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本专利技术，而非对本专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本专利技术相关的部分而非全部结构。
[0039]在本专利技术实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本专利技术。需要注意的是，本专利技术实施例所描述的“上”、“下”、“左”、“右”等方位词是以附图所示的角度来进行描述的，不应理解为对本专利技术实施例的限定。此外在上下文中，还需要理解的是，当提到一个元件被形成在另一个元件“上”或“下”时，其不仅能够直接形成在另一个
元件“上”或者“下”，也可以通过中间元件间接形成在另一元件“上”或者“下”。术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0040]本专利技术使用的术语“包括”及其变形是开放性包括，即“包括但不限于”。术语“基于”是“至少部分地基于”。术语“一个实施例”表示“至少一个实施例”。
[0041]需要注意，本专利技术中提及的“第一”、“第二”等概念仅用于对本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：阵列基板，所述阵列基板包括衬底基板和位于所述衬底基板一侧的封装层，所述封装层远离所述衬底基板的一侧表面设置有容置槽；发光单元，位于所述容置槽内且所述容置槽内填充有吸光材料，所述封装层和所述发光单元远离所述衬底基板的一侧表面形成有保护膜；在相同刻蚀条件下，所述保护膜的刻蚀速率小于所述吸光材料的刻蚀速率。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括透光区和非透光区，所述非透光区包括驱动电路区；所述阵列基板还包括TFT阵列层，所述TFT阵列层位于所述衬底基板和所述封装层之间，所述驱动电路区的所述TFT阵列层包括驱动晶体管；所述TFT阵列层包括垂直于所述衬底基板方向上的高度落差并形成有第一侧壁；所述阵列基板中还设置有遮光结构，所述遮光结构包括第一遮光分部，所述第一遮光分部覆盖所述TFT阵列层的至少部分第一侧壁。3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一遮光分部包括在第一方向上相互背离的第一侧边和第二侧边，所述第一方向与所述驱动电路区朝向所述透光区一侧的边缘线垂直，且与所述TFT阵列层的第一侧壁所在平面平行；所述第一侧边延伸至所述TFT阵列层远离所述衬底基板的一侧表面，所述第二侧边延伸至所述衬底基板上。4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述TFT阵列层包括平坦化层，所述平坦化层远离所述衬底基板的一侧表面形成有凹槽；所述阵列基板还包括过渡区，所述过渡区位于所述驱动电路区和所述透光区之间；所述凹槽在所述衬底基板所在平面上的投影位于所述过渡区；所述TFT阵列层的第一侧壁复用为所述凹槽的内壁；部分所述第一遮光分部填充于所述凹槽内。5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽贯穿所述平坦化层且以所述衬底基板的表面为凹槽底部，部分所述第一遮光分部填充于所述凹槽内且接触所述衬底基板的表面。6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽在第一平面上的截面图形包括底边和两条侧边，所述第一平面与所述衬底基板所在平面垂直，且与所述过渡区和所述透光区的交界线垂直；所述底边为所述截面图形靠近所述衬底基板的边，两条所述侧边分别与所述底边相连；两条所述侧边的延长线交叉形成的朝向所述凹槽的夹角为40
°
～80
°
。7.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述平坦化层包括多道所述凹槽，所述凹槽在所述衬底基板所在平面上的投影沿所述过渡区和所述透光区的交界线延伸，多道所述凹槽沿第二方向依次并行排列；其中，所述第二方向与所述过渡区和所述透光区的交界线的延伸方向相交。8.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述TFT阵列层包括驱动电极，所述驱动晶体管的一端与所述驱动电极耦接；所述驱动电极裸露于所述TFT阵列层远离所述衬底
基板的一侧表面，且所述驱动电极与所述容置槽在所述衬底基板所在平面上的投影至少部分交叠，所述发光单元与所述驱动电极电连接；所述遮光结构还包括第二遮光分部，所述第二遮光分部位于所述TFT阵列层远离所述衬底基板的一侧，所述第二遮光分部与所述驱动电极在所述衬底基板所在平面上的投影至少部分交叠且至多部分交叠。9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述遮光结构包括电极开口，所述电极开口与所述驱动电极在所述衬底基板所在平面上的投影至少部分交叠。10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述发光单元包括第一颜色发光单元和第二颜色发光单元，相同驱动条件下，所述第一颜色发光单元的发光亮度大于所述第二颜色发光单元的发光亮度；所述第一颜色发光单元所在位置的所述遮光结构中的所述电极开口小于所述第二颜色发光单元所在位置的所述遮光结构中的所述电极开口。11.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述非透光区还包括走线区，所述走线区的所述TFT阵列层包括至少一条走线；所述遮光结构还包括第四遮光分部，所述第四遮光分部位于所述走线区的所述TFT阵列层背离所述衬底基板的一侧表面，且所述走线在所述衬底基板所在平面上的投影位于所述第四遮光分部在所述衬底基板所在平面上的投影中。12.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述TFT阵列层包括垂直于所述衬底基板方向上的高度落差并形成有第二侧壁；所述遮光结构还包括第五遮光分部，所述第五遮光分部覆盖所述TFT阵列层的至少部分第二侧壁。13.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述走线区位于所述透光区在第三方向上的至少一侧，所述驱动电路区位于所述透光区在第四方向上的至少一侧；其中，所述第三方向和所述第四方向相交且均与所述衬底基板所在平面平行。14.根据权利要求13所述的显示面板，其特征在于，所述发光单元位于所述驱动电路区，多个所述发光单元沿所述第三方向依次排列且组成一组发光单元，所述驱动电路区在所述第四方向上包括至少一组所述发光单元。15.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述容置槽在第二平面上的截面图形包括底边和两条侧边，所述底边为所述截面图形靠近所述衬底基板的边，两条所述侧边分别与所述底...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘晓莉，刘操，钱皓晨，
申请(专利权)人：天马新型显示技术研究院厦门有限公司，
类型：发明
国别省市：