透镜抛光方法技术

技术编号:38205069 阅读:20 留言:0更新日期:2023-07-21 16:51
本发明专利技术涉及抛光领域,提供一种透镜抛光方法,其中,一种透镜抛光方法,包括:采用CNC球面抛光设备对毛坯进行抛光,得到光圈小于等于2fr的初级透镜;采用迈均抛光设备对所述初级透镜进行抛光,得到光圈小于等于1fr的成品透镜。用以解决现有技术中加工效率低、精度低的缺陷,本发明专利技术提供的透镜抛光方法,通过先采用CNC球面抛光设备对透镜的毛坯进行抛光,使其光圈达到小于等于2fr的精度,缩短透镜的加工时间,提高抛光效率;在采用迈均抛光设备对透镜进一步抛光,使其光圈小于等于1fr,达到高精度的透镜标准,进而满足高精度的透镜的要求下,提高加工效率。提高加工效率。提高加工效率。

【技术实现步骤摘要】
透镜抛光方法


[0001]本专利技术涉及抛光
,尤其涉及一种透镜抛光方法。

技术介绍

[0002]随着光学行业的革新,对于透镜的加工效率及精度提出了更高的要求。目前,传统抛光设备的效率较低已经不能满足透镜行业的飞速发展,现有采用CNC数控加工设备对透镜进行抛光,以提高抛光效率。但是透镜的种类较多,例如,只具有球面的透镜、只具有平面的透镜和既有球面又有平面的透镜,现有的CNC数控加工设备只能满足具有球面的透镜加工,无法实现透镜平面的加工,并且,CNC数控加工设备无法满足高精度的加工要求。

技术实现思路

[0003]本专利技术提供一种透镜抛光方法,用以解决现有技术中加工效率低、精度低的缺陷,实现CNC球面抛光设备进行先抛光,再采用迈均抛光设备进一步抛光的结合抛光方式,提高透镜抛光效率以及提高加工精度。
[0004]本专利技术提供一种透镜抛光方法,包括:
[0005]采用CNC球面抛光设备对毛坯进行抛光,得到光圈小于等于2fr的初级透镜;
[0006]采用迈均抛光设备对所述初级透镜进行抛光,得到光圈小于等于1fr的成品透镜。
[0007]根据本专利技术提供的透镜抛光方法,在采用CNC球面抛光设备对毛坯的平面进行抛光时,包括:
[0008]粗抛,对所述毛坯进行粗抛,去除所述毛坯的精磨破坏层,控制光圈小于10fr,得到一级透镜件;
[0009]一级精抛,对所述一级透镜件进行一级精抛,控制光圈小于4fr,得到二级透镜件;
[0010]二级精抛,对所述二级透镜件进行二级精抛,控制光圈小于2fr,且控制面形误差小于0.5fr,得到所述初级透镜。
[0011]根据本专利技术提供的透镜抛光方法,在采用迈均抛光设备对所述初级透镜的平面进行抛光时,控制光圈小于1fr,总面形偏差均方差小于0.04fr。
[0012]根据本专利技术提供的透镜抛光方法,所述粗抛,包括:
[0013]对所述毛坯施加第一力值;
[0014]控制抛光模具的转速与所述毛坯的转速均为第一转速值,且方向相同;
[0015]控制所述毛坯的角度偏置为0;
[0016]控制所述毛坯的摆动行程为第一行程值,摆动方向为第一方向往复运动,行程计数N次/min,N为正整数,得到所述一级透镜件。
[0017]根据本专利技术提供的透镜抛光方法,所述一级精抛,包括:
[0018]对所述一级透镜件施加第二力值,所述第二力值小于所述第一力值;
[0019]控制所述抛光模具的转速与所述一级透镜件的转速均为第二转速值,且方向不变,所述第二转速值小于所述第一转速值;
[0020]控制所述一级透镜件的角度偏置为0;
[0021]控制所述一级透镜件的摆动行程为第二行程值,摆动方向为第一方向往复运动,行程计数N次/min,N为正整数,所述第二行程值大于所述第一行程值,得到所述二级透镜件。
[0022]根据本专利技术提供的透镜抛光方法,所述二级精抛,包括:
[0023]对所述二级透镜件施加第三力值,所述第三力值小于所述第二力值;
[0024]控制所述抛光模具的转速与所述二级透镜件的转速均为所述第二转速值,且方向不变;
[0025]控制所述二级透镜件的角度偏置为0;
[0026]控制所述二级透镜件的摆动行程为第二行程值,摆动方向为第一方向往复运动,得到所述初级透镜。
[0027]根据本专利技术提供的透镜抛光方法,所述抛光模具为平面模具。
[0028]根据本专利技术提供的透镜抛光方法,还包括在所述采用CNC球面抛光设备对毛坯进行抛光之前,对所述抛光模具进行平修处理,所述平修处理包括:
[0029]控制所述CNC球面抛光设备的研磨面的半径大于等于99999mm;
[0030]和/或,控制所述CNC球面抛光设备的工件形状为双凹;
[0031]对初始模材进行抛光,得到所述抛光模具。
[0032]根据本专利技术提供的透镜抛光方法,在所述采用CNC球面抛光设备对毛坯进行抛光之前,还包括:
[0033]对所述毛坯的中心通孔进行封蜡处理。
[0034]根据本专利技术提供的透镜抛光方法,在采用迈均抛光设备对所述初级透镜进行抛光之后,还包括:
[0035]采用环抛设备对所述成品透镜进行环抛,控制所述成品透镜的光洁度。
[0036]本专利技术提供的透镜抛光方法,通过先采用CNC球面抛光设备对透镜的毛坯进行抛光,使其光圈达到小于等于2fr的精度,缩短透镜的加工时间,提高抛光效率;在采用迈均抛光设备对透镜进一步抛光,使其光圈小于等于1fr,达到高精度的透镜标准,进而满足高精度的透镜的要求下,提高加工效率。
附图说明
[0037]为了更清楚地说明本专利技术或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0038]图1是本专利技术提供的透镜抛光方法的流程示意图之一;
[0039]图2是本专利技术提供的透镜抛光方法的流程示意图之二;
[0040]图3是本专利技术提供的透镜抛光方法的流程示意图之三;
[0041]图4是本专利技术提供的透镜抛光方法的流程示意图之四;
[0042]图5是本专利技术提供的透镜抛光方法的流程示意图之五。
具体实施方式
[0043]为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本专利技术中的附图,对本专利技术中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。
[0044]在本专利技术实施例的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本专利技术实施例和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本专利技术实施例的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0045]在本专利技术实施例的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本专利技术实施例中的具体含义。
[0046]在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本专利技术实施例的至少一个实施本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种透镜抛光方法,其特征在于,包括:采用CNC球面抛光设备对毛坯进行抛光,得到光圈小于等于2fr的初级透镜;采用迈均抛光设备对所述初级透镜进行抛光,得到光圈小于等于1fr的成品透镜。2.根据权利要求1所述的透镜抛光方法,其特征在于,在采用CNC球面抛光设备对毛坯的平面进行抛光时,包括:粗抛,对所述毛坯进行粗抛,去除所述毛坯的精磨破坏层,控制光圈小于10fr,得到一级透镜件;一级精抛,对所述一级透镜件进行一级精抛,控制光圈小于4fr,得到二级透镜件;二级精抛,对所述二级透镜件进行二级精抛,控制光圈小于2fr,且控制面形误差小于0.5fr,得到所述初级透镜。3.根据权利要求1所述的透镜抛光方法,其特征在于,在采用迈均抛光设备对所述初级透镜的平面进行抛光时,控制光圈小于1fr,总面形偏差均方差小于0.04fr。4.根据权利要求2所述的透镜抛光方法,其特征在于,所述粗抛,包括:对所述毛坯施加第一力值;控制抛光模具的转速与所述毛坯的转速均为第一转速值,且方向相同;控制所述毛坯的角度偏置为0;控制所述毛坯的摆动行程为第一行程值,摆动方向为第一方向往复运动,行程计数N次/min,N为正整数,得到所述一级透镜件。5.根据权利要求4所述的透镜抛光方法,其特征在于,所述一级精抛,包括:对所述一级透镜件施加第二力值,所述第二力值小于所述第一力值;控制所述抛光模具的转速与所述一级透镜件的转速均为第二转速值,且方向不变,所述第二转速值小于所述第一转速...

【专利技术属性】
技术研发人员:王金宝
申请(专利权)人:北京创思工贸有限公司
类型:发明
国别省市:

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