一种研磨废料沉降系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种研磨废料沉降系统，包括：箱体，用于存放磁性研磨废料的废液，箱体设置有排液口；电磁系统，设置于箱体的下方；浓度计和/或液位计，位于箱体内；其中，浓度计用于检测废液中磁性研磨废料的浓度；液位计用于检测废液的高度；电磁系统用于产生磁场，磁性研磨废料在磁场中下沉并吸附在箱体的底部。在箱体下方设置电磁系统，通过电磁系统形成磁场，使得废液中具有磁性的研磨废料在磁场作用下向下沉降，使得废液中磁性研磨废料的浓度降低。通过本申请的研磨废料沉降系统的沉降后的废料，在输送至厂务端时，不容易下沉而堵塞管路，也可以减轻厂务端机台负载，使得芯片研磨废料的处理更加方便。废料的处理更加方便。废料的处理更加方便。

【技术实现步骤摘要】
一种研磨废料沉降系统


[0001]本技术涉及废料处理
，尤其涉及的是一种研磨废料沉降系统。

技术介绍

[0002]芯片研磨是指通过使用物理和化学结合的方法将芯片减薄至需求厚度的技术，砷化镓(GaAs)研磨废料为含砷危废，GaAs研磨废料的固液分离以及收集更是研磨工艺环节中的重中之重，现有技术中，当前普遍方案是产出端直排至厂务端，由厂务端进行集中处理，由于研磨废料会自动沉降，直排厂务端的管径需要足够大，以避免固态沉淀物堵塞管路，而高浓度含砷废液直排厂务端废液池，还会加大厂务端机台负载。可见，现有技术中产出端的芯片研磨废料存在处理不方便的问题。
[0003]因此，现有技术还有待于改进和发展。

技术实现思路

[0004]本技术要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述缺陷，提供一种研磨废料沉降系统，旨在解决现有技术中产出端的芯片研磨废料存在处理不方便的问题。
[0005]本技术解决技术问题所采用的技术方案如下：
[0006]一种研磨废料沉降系统，其中，其包括：
[0007]箱体，用于存放包含磁性研磨废料的废液，所述箱体设置有排液口；
[0008]电磁系统，设置于所述箱体的下方；
[0009]浓度计和/或液位计，位于所述箱体内；
[0010]其中，所述浓度计用于检测所述废液中磁性研磨废料的浓度；
[0011]所述液位计用于检测所述废液的高度；
[0012]所述电磁系统用于产生磁场，所述磁性研磨废料在所述磁场中下沉并吸附在所述箱体的底部。<br/>[0013]所述的研磨废料沉降系统，其中，所述液位计的高度大于或等于所述浓度计的高度。
[0014]所述的研磨废料沉降系统，其中，所述浓度计的高度大于所述排液口的高度。
[0015]所述的研磨废料沉降系统，其中，所述电磁系统包括：
[0016]若干个电磁线圈，若干个电磁线圈依次排布。
[0017]所述的研磨废料沉降系统，其中，所述箱体的侧壁的底部设置有观察窗。
[0018]所述的研磨废料沉降系统，其中，所述排液口处设置有阀体；
[0019]所述研磨废料沉降系统还包括：
[0020]控制器，分别与所述阀体、所述浓度计、所述液位计电连接。
[0021]所述的研磨废料沉降系统，其中，所述阀体为电磁阀；和/或
[0022]所述箱体有至少两个，各箱体依次连通，下一箱体的入液口与上一箱体的排液口连通。
[0023]所述的研磨废料沉降系统，其中，所述箱体的侧壁向下延伸设置有延伸部，所述延伸部围绕在所述电磁系统外。
[0024]所述的研磨废料沉降系统，其中，所述箱体的侧壁外设置有防磁涂层。
[0025]所述的研磨废料沉降系统，其中，所述箱体采用不锈钢箱体。
[0026]有益效果：本申请中通过在箱体下方设置电磁系统，通过电磁系统形成磁场，使得废液中具有磁性的研磨废料在磁场作用下向下沉降，使得废液中磁性研磨废料的浓度降低，当然，在沉积过程中，尺寸较大、磁性较强的研磨废料更容易沉降。由此可知，通过本申请的研磨废料沉降系统的沉降后的废料，在输送至厂务端时，不容易下沉而堵塞管路，也可以减轻厂务端机台负载，使得芯片研磨废料的处理更加方便。
附图说明
[0027]图1是本技术中研磨废料沉降系统的第一立体图。
[0028]图2是本技术中研磨废料沉降系统的第二立体图。
[0029]图3是本技术中研磨废料沉降系统的剖视图。
[0030]附图标记说明：
[0031]10
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箱体；11
‑
排液口；12
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观察窗；13
‑
延伸部；20
‑
电磁系统；30
‑
浓度计；40
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液位计；50
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阀体。
具体实施方式
[0032]为使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本技术进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
[0033]请同时参阅图1
‑
图3，本技术提供了一种研磨废料沉降系统的一些实施例。
[0034]如图3所示，研磨废料沉降系统包括：
[0035]箱体10，用于存放包含具有磁性的研磨废料的废液，所述箱体10设置有排液口11；
[0036]电磁系统20，设置于所述箱体10的下方；
[0037]浓度计30和/或液位计40，位于所述箱体10内；
[0038]其中，所述浓度计30用于检测所述废液中研磨废料的浓度；
[0039]所述液位计40用于检测所述废液的高度；
[0040]所述电磁系统20用于产生磁场，所述研磨废料在所述磁场中下沉并吸附在所述箱体10的底部。
[0041]值得说明的是，本申请的研磨废料沉降系统应用于产出端，即芯片制造场景下，而不是应用于废料集中处理场景(即厂务端)下，研磨废料沉降系统用于芯片研磨后的废液预处理。也就是说，本申请中研磨废料沉降系统先预处理芯片研磨废液，然后再排送至厂务端进一步处理。需要说明的是，砷化镓(GaAs)芯片通过掺入锰(Mn)等磁性离子替代部分阳离子的位置形成稀磁半导体，从而兼具半导体和磁性的性质，因此，砷化镓芯片研磨的废料属于磁性研磨废料。
[0042]本申请中通过在箱体10下方设置电磁系统20，通过电磁系统20形成磁场，使得废液中具有磁性的研磨废料在磁场作用下向下沉降，使得废液中磁性研磨废料的浓度降低，
当然，在沉积过程中，尺寸较大、磁性较强的研磨废料更容易沉降。由此可知，通过本申请的研磨废料沉降系统的沉降后的废料，在输送至厂务端时，不容易下沉而堵塞管路，也可以减轻厂务端机台负载，使得芯片研磨废料的处理更加方便。
[0043]具体地，本申请还设置有浓度计30或液位计40，通过检测箱体10内废料的浓度或废液的液位，确定箱体10内废液是否要排出。当废料沉降一段时间后，浓度降低至预设浓度时，则可以排出废液。当然箱体10内的废液的高度达到预设高度后，也需要排出废液。当然，箱体10内的废液达到预设高度也需要一定的时间(废液是分多次放入箱体10内或者以较小流量连续排入箱体10内)，这段时间内废料也会进行沉降。因此，通过设置浓度计30和/或液位计40，检测废料的浓度或废液的高度，并作为是否排出废液的参照。
[0044]当然，还可以同时设置液位计40和浓度计30，在浓度达到预设浓度且废液的高度达到预设高度时，才会排出废液。也就是说，满足两个条件时，才会排出废液。
[0045]箱体10内形成容纳槽，废液存放于容纳槽内，电磁系统20设置于箱体10外的底部，浓度计30和液位计40可以设置于容纳槽的内壁上。液位计40沿着竖直方向延伸设置，液位计40可以是具有一定量程的液面位置测量计，即也就是说本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种研磨废料沉降系统，其特征在于，其包括：箱体，用于存放包含磁性研磨废料的废液，所述箱体设置有排液口；电磁系统，设置于所述箱体的下方；浓度计和/或液位计，位于所述箱体内；其中，所述浓度计用于检测所述废液中磁性研磨废料的浓度；所述液位计用于检测所述废液的高度；所述电磁系统用于产生磁场，所述磁性研磨废料在所述磁场中下沉并吸附在所述箱体的底部。2.根据权利要求1所述的研磨废料沉降系统，其特征在于，所述液位计的高度大于或等于所述浓度计的高度。3.根据权利要求1所述的研磨废料沉降系统，其特征在于，所述浓度计的高度大于所述排液口的高度。4.根据权利要求1所述的研磨废料沉降系统，其特征在于，所述电磁系统包括：若干个电磁线圈，若干个电磁线圈依次排布。5.根据权利要求1所述的研磨废料沉降系统，其特征在于，所述箱体的侧壁...

【专利技术属性】
技术研发人员：李尧，梁永隆，
申请(专利权)人：重庆康佳光电技术研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：