本公开涉及一种校正机构和输送装置,校正机构包括:推板组件,用于设置在输送装置的输送通道的一侧,推板组件能够垂直于输送通道的输送方向移动,以具有靠近输送通道的校正位置和远离输送通道的初始位置,以及凸轮组件,包括凸轮,凸轮上设置有偏离凸轮的旋转轴线的偏心轴,偏心轴的中心轴线与旋转轴线沿竖直方向平行延伸,偏心轴与推板组件连接,凸轮能够绕旋转轴线转动,以使得偏心轴能够带动推板组件在校正位置和初始位置之间往复移动。通过上述技术方案,本公开提供的校正机构和输送装置能够解决硅片由料托输送至花篮的过程中易发生歪斜而导致撞片、卡片、隐裂、碎片的技术问题。碎片的技术问题。碎片的技术问题。
【技术实现步骤摘要】
校正机构和输送装置
[0001]本公开涉及硅片生产
,具体地,涉及一种校正机构和输送装置。
技术介绍
[0002]硅片的生产过程主要包括硅棒成型,切方,切片,脱胶,插片清洗等。硅片的插片清洗工序尤其重要,插片清洗工序根据现有的设备状况,需要把硅片插装在花篮内,并通过花篮完成对硅片的清洗。在硅片插装入花篮的过程中,通常先将硅片集中放置在料托内,再通过输送装置将硅片输送并插装到花篮中。
[0003]在硅片的输送过程中,若硅片发生歪斜,可能会引发硅片的撞片、卡片、隐裂、碎片等一系列问题。
技术实现思路
[0004]本公开的目的是提供一种校正机构和输送装置,以解决硅片由料托输送至花篮的过程中易发生歪斜而导致撞片、卡片、隐裂、碎片的技术问题。
[0005]为了实现上述目的,本公开提供一种校正机构,包括:推板组件,用于设置在输送装置的输送通道的一侧,所述推板组件能够垂直于所述输送通道的输送方向移动,以具有靠近所述输送通道的校正位置和远离所述输送通道的初始位置,以及凸轮组件,包括凸轮,所述凸轮上设置有偏离所述凸轮的旋转轴线的偏心轴,所述偏心轴的中心轴线与所述旋转轴线沿竖直方向平行延伸,所述偏心轴与所述推板组件连接,所述凸轮能够绕所述旋转轴线转动,以使得所述偏心轴能够带动所述推板组件在所述校正位置和所述初始位置之间往复移动。
[0006]可选地,所述推板组件包括:直线导轨,由所述初始位置水平地延伸至所述校正位置,所述直线导轨能够与所述输送通道固定连接,基座,可滑动地连接在所述直线导轨上,所述基座上设置有水平延伸的导向槽,所述导向槽与所述直线导轨相互垂直地延伸,所述偏心轴能够在所述导向槽中滑动,以及推板,连接在所述基座的朝向所述输送通道的一侧,所述推板与所述输送方向平行延伸。
[0007]可选地,所述偏心轴与所述导向槽之间设置有第一轴承,所述偏心轴与所述第一轴承的内圈固定连接,所述第一轴承的外圈可滑动地容纳在所述导向槽中。
[0008]可选地,所述推板组件还包括两个限位件,两个所述限位件分别设置在所述直线导轨的沿其自身延伸方向的两端,沿所述直线导轨的延伸方向两个所述限位件之间的距离可调。
[0009]可选地,所述基座与所述推板之间连接有弹性件,所述弹性件为所述推板提供朝向所述校正位置移动的弹力,所述基座与所述推板之间还设置有预压力缓冲件,所述预压力缓冲件的弹力方向为竖直方向。
[0010]可选地,所述基座上设置有与所述直线导轨平行延伸的导向孔,所述推板上设置有导杆,所述导杆穿过所述导向孔,以使得所述基座能够沿所述导杆滑动,所述弹性件的一
端与所述导向孔连接,另一端与所述导杆连接。
[0011]可选地,所述导向孔的靠近所述校正位置的一端设置有限位凸台,所述导杆上设置有沿径向向外延伸的限位凸沿,所述限位凸沿的朝向所述校正位置的端面与所述限位凸台的朝向所述初始位置的端面相抵接。
[0012]可选地,所述凸轮组件还包括设置在所述凸轮上的回转轴,所述回转轴的中心轴线与所述旋转轴线共线,所述校正机构还包括用于驱动所述凸轮转动的驱动组件,所述驱动组件包括:驱动电机,以及同步带组件,包括主动轮、从动轮以及连接在所述主动轮和所述从动轮之间的同步带,所述主动轮与所述驱动电机的输出端同轴地固定连接,所述从动轮与所述回转轴同轴地固定连接。
[0013]可选地,还包括滚轮组件,所述滚轮组件和所述推板组件相对地设置在所述输送通道的沿输送方向的两侧,所述滚轮组件包括多个沿输送通道的输送方向依次排布的滚轮,所述滚轮的转动轴线沿竖直方向延伸。
[0014]在上述技术方案的基础上,本公开还提供一种输送装置,包括:输送通道,用于将硅片由料托输送至花篮,上述技术方案中的校正机构,以及光电对射机构,设置在所述输送通道中,所述光电对射机构用于检测所述硅片的延伸方向是否偏离所述输送方向,所述光电对射机构与所述校正机构通信连接,所述光电对射机构配置为:当检测到所述硅片的延伸方向偏离所述输送方向时,控制所述凸轮转动。
[0015]通过上述技术方案,在本公开提供的校正机构中,由于偏心轴的中心轴线偏离凸轮的旋转轴线一定的距离,因此,当凸轮绕旋转轴线回转时,偏心轴能够在水平面内围绕旋转轴线转动,由于偏心轴与推板组件连接,因此,偏心轴能够带动推板组件在校正位置和初始位置之间水平地往复移动,推板组件由初始位置移动至校正位置的过程中,能够与硅片接触并将硅片推向输送通道的远离推板组件的一侧,最终硅片的两侧边缘分别能够与推板组件和输送通道接触,从而使得硅片能够沿输送方向延伸,避免硅片在输送过程中发生歪斜而引起撞片、卡片、隐裂、碎片等现象。本公开提供的输送装置具有与上述技术方案中的校正机构相同的技术效果,为了避免不必要的重复,在此不做赘述,此外,该输送装置中设置有光电对射机构,该光电对射机构能够检测硅片是否发生歪斜,当硅片发生歪斜时能够控制校正机构及时对硅片的位置进行校正,提高硅片产品品质率,提高设备的稳定性,降低异常维修工时。
[0016]本公开的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
[0017]附图是用来提供对本公开的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本公开,但并不构成对本公开的限制。在附图中:
[0018]图1是本公开具体实施方式中输送装置的局部结构示意图;
[0019]图2是本公开具体实施方式中校正机构的结构示意图;
[0020]图3是图2中基座与导杆配合的局部剖视图;
[0021]图4是图3中A处的局部放大图。
[0022]附图标记说明
[0023]1‑
推板组件,11
‑
基座,111
‑
导向孔,112
‑
限位凸台,12
‑
推板,121
‑
导杆,122
‑
限位
凸沿,13
‑
直线导轨,14
‑
导向槽,15
‑
限位件,16
‑
弹性件,17
‑
预压力缓冲件,2
‑
凸轮组件,21
‑
凸轮,22
‑
偏心轴,23
‑
第一轴承,24
‑
回转轴,25
‑
第二轴承,3
‑
驱动组件,31
‑
驱动电机,32
‑
同步带组件,321
‑
主动轮,322
‑
从动轮,323
‑
同步带,4
‑
输送通道,5
‑
光电对射机构,6
‑
硅片,7
‑
滚轮组件,71
‑
滚轮,8
‑
机架。
具体实施方式
[0024]以下结合附图对本公开的具体实施方式进行详细说明。应本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种校正机构,其特征在于,包括:推板组件,用于设置在输送装置的输送通道的一侧,所述推板组件能够垂直于所述输送通道的输送方向移动,以具有靠近所述输送通道的校正位置和远离所述输送通道的初始位置,以及凸轮组件,包括凸轮,所述凸轮上设置有偏离所述凸轮的旋转轴线的偏心轴,所述偏心轴的中心轴线与所述旋转轴线沿竖直方向平行延伸,所述偏心轴与所述推板组件连接,所述凸轮能够绕所述旋转轴线转动,以使得所述偏心轴能够带动所述推板组件在所述校正位置和所述初始位置之间往复移动。2.根据权利要求1所述的校正机构,其特征在于,所述推板组件包括:直线导轨,由所述初始位置水平地延伸至所述校正位置,所述直线导轨能够与所述输送通道固定连接,基座,可滑动地连接在所述直线导轨上,所述基座上设置有水平延伸的导向槽,所述导向槽与所述直线导轨相互垂直地延伸,所述偏心轴能够在所述导向槽中滑动,以及推板,连接在所述基座的朝向所述输送通道的一侧,所述推板与所述输送方向平行延伸。3.根据权利要求2所述的校正机构,其特征在于,所述偏心轴与所述导向槽之间设置有第一轴承,所述偏心轴与所述第一轴承的内圈固定连接,所述第一轴承的外圈可滑动地容纳在所述导向槽中。4.根据权利要求2所述的校正机构,其特征在于,所述推板组件还包括两个限位件,两个所述限位件分别设置在所述直线导轨的沿其自身延伸方向的两端,沿所述直线导轨的延伸方向两个所述限位件之间的距离可调。5.根据权利要求2所述的校正机构,其特征在于,所述基座与所述推板之间连接有弹性件,所述弹性件为所述推板提供朝向所述校正位置移动的弹力,所述基座与所述推板之间还设置有预压力缓冲件,所述预压力缓冲件的弹力方向为竖直方向。6.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨金辉,曾春严,杨德玉,王海丰,刘兴仓,
申请(专利权)人:银川隆基硅材料有限公司,
类型:新型
国别省市:
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