一种用聚焦离子束加工辐照块体的透射样品制备方法技术

技术编号:38156985 阅读:29 留言:0更新日期:2023-07-13 09:26
本发明专利技术公开了一种用聚焦离子束加工辐照块体的透射样品制备方法,包括以下步骤:1)获取金属薄片;2)对金属薄片进行辐照实验;3)将金属薄片沿直径方向切割成半圆状,将半圆状样品夹持于夹具上,然后将夹具粘接于样品台上;4)通过离子束去除切割过程中产生的变形区域;5)调整样品台的方向,使得离子束方向平行于夹具的侧面,选择距离辐照表面不同深度D进行加工,分别在倾转角度为5.5

【技术实现步骤摘要】
一种用聚焦离子束加工辐照块体的透射样品制备方法


[0001]本专利技术属于金属材料领域,涉及一种用聚焦离子束加工辐照块体的透射样品制备方法。

技术介绍

[0002]核反应产生的大量高能粒子会对反应堆结构材料造成严重的辐照损伤,造成材料力学性能和物理性能的退化。高能粒子(包括质子、中子、轻/重离子等)辐照在材料中引入高密度的空位和间隙原子,辐照点缺陷进一步聚集演化成位错环,层错四面体,气泡和空洞等。大量的辐照缺陷累积使材料发生硬化,脆化,导热率降低等,从而加速材料性能的退化。微观缺陷结构是调控材料宏观性能的关键因素,深入研究辐照缺陷的形成机理,构建缺陷结构与辐照效应的对应关系,对材料的结构设计和性能优化至关重要。
[0003]目前制备表征辐照缺陷的样品主要有两种。一种是纳米厚度样品。根据SRIM软件的模拟结果,高能辐照离子完全穿透纳米厚度样品(认为厚度为100nm),并没有停留在样品中。另外,纳米厚度样品存在上下两个表面,由于表面能量较高,辐照产生的点缺陷倾向于从样品内部迁移到表面,这两个因素导致纳米厚度样品与块体样品中的辐照缺陷有不同的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用聚焦离子束加工辐照块体的透射样品制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)获取金属薄片;2)对金属薄片进行辐照实验;3)将金属薄片沿直径方向切割成半圆状,将半圆状样品夹持于夹具上,然后将夹具粘接于样品台上;4)通过离子束去除切割过程中产生的变形区域;5)调整样品台的方向,使得离子束方向平行于夹具的侧面,选择距离辐照表面不同深度D进行加工,分别在倾转角度为5.5
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及8.5
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进行两侧减薄,得透射电镜样品。2.根据权利要求1所述的用聚焦离子束加工辐照块体的透射样品制备方法,其特征在于,步骤1)的具体操作为:使用砂纸去除金属表面的氧化层,并打磨至10...

【专利技术属性】
技术研发人员:韩卫忠边轶男
申请(专利权)人:西安交通大学
类型:发明
国别省市:

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