一种电容充电方法、电容充电电路及气体激光器技术

本发明专利技术公开了一种电容充电方法、电容充电电路及气体激光器，涉及电容充电技术领域，所述充电方法包括以下步骤：步骤S10，控制至少两个电源同时对电容充电，使得所述电容电压到达第一预设电压值；步骤S20，减少对所述电容充电的电源个数，继续对所述电容进行充电，使所述电容的电压到达目标预设电压值。本发明专利技术在充电开始阶段让两个或两个以上电源工作达到较快充电速率，在接近电容目标充电电压时，让一个电源继续保持充电工作，使得电流和电流上升斜率大幅降低，电流抖动进一步降低，达到提高电容充电电压精度的目的，最终电容充电电压精度优于单一电源单独对电容充电的充电电压精度。优于单一电源单独对电容充电的充电电压精度。优于单一电源单独对电容充电的充电电压精度。

【技术实现步骤摘要】
一种电容充电方法、电容充电电路及气体激光器


[0001]本专利技术涉及电容充电
，特别涉及一种电容充电方法、电容充电电路及气体激光器。

技术介绍

[0002]气体激光器利用气体作为工作物质产生激光的器件。为了控制气体激光器脉冲能量的输出精度，通常是使用储能电容作为载体，储能电容的电压精度直接决定了激光能量输出的稳定性。如何提高储能电容的电压精度，进而提高激光能量稳定度，是气体激光行业要解决的问题。
[0003]现有技术大多数采用单一高精度的电源对储能电容充电，单一高精度的电源在极短的时间内（几微秒~几毫秒）完成对储能电容（1～几百uF）精准电压充电，不断提高充电电源的输出精度，可以提高储能电容的充电电压精度。然而，现有充电电源的精度最高只能做到大约0.1%，即储能电容的充电电压精度只能达到0.1%，难以进一步提高。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例提供一种电容充电方法、电容充电电路及气体激光器，以解决相关技术中现有气体激光器的储能电容采用单一高精度的电源充电，储能电容的充电电压精度只能达到充电电源的输出精度，难以进一步提高的技术问题。
[0005]第一方面，提供了一种电容充电方法，其特征在于，包括以下步骤：控制至少两个电源同时对电容充电，使得所述电容电压到达第一预设电压值；减少对所述电容充电的电源个数，继续对所述电容进行充电，使所述电容的电压到达目标预设电压值。
[0006]一些实施例中，所述控制至少两个电源同时对电容充电，使得所述电容电压到达第一预设电压值；减少对所述电容充电的电源个数，继续对所述电容进行充电，使所述电容的电压到达目标预设电压值，包括：先控制两个电源同时对电容充电，使得所述电容电压到达第一预设电压值；再控制所述两个电源其中一个电源对电容继续充电，使所述电容的电压到达目标预设电压值。
[0007]一些实施例中，所述至少两个电源为三个电源；所述控制至少两个电源同时对电容充电，使得所述电容电压到达第一预设电压值，包括：控制三个电源同时对所述电容充电，使得所述电容电压到达第一预设电压值；所述减少对所述电容充电的电源个数，继续对所述电容进行充电，使所述电容的电压到达目标预设电压值，包括：控制所述三个电源其中的一个电源继续对所述电容充电，使得所述电容电压到达目标预设电压值。
[0008]一些实施例中，所述至少两个电源为三个电源；所述控制至少两个电源同时对电容充电，使得所述电容电压到达第一预设电压
值，包括：控制三个电源同时对所述电容充电，使得所述电容电压到达第一预设电压值；所述减少对所述电容充电的电源个数，继续对所述电容进行充电，使所述电容的电压到达目标预设电压值，包括：控制所述三个电源其中的两个电源继续同时对所述电容充电，使得所述电容电压到达第二预设电压值；继续控制所述三个电源其中的一个电源对所述电容充电，使得所述电容电压到达目标预设电压值。
[0009]一些实施例中，所述至少两个电源的充电电压完全相同且均为目标预设电压值；或者所述至少两个电源的充电电压不完全相同，且其中有一个电源的充电电压为目标预设电压值。
[0010]一些实施例中，所述第一预设电压值不小于所述目标预设电压值的80%。
[0011]一些实施例中，所述控制至少两个电源同时对电容充电，包括：控制所述至少两个电源并联对电容充电。
[0012]一些实施例中，所述至少两个电源的充电电压精度不低于0.1%。
[0013]第二方面，提供了一种电容充电电路，包括：至少两个电源和控制器；所述控制器与所有所述电源电连接，且被配置为：先控制至少两个电源同时对电容充电，使得所述电容电压到达第一预设电压值；减少对所述电容充电的电源个数，继续对所述电容进行充电，使所述电容的电压到达目标预设电压值。
[0014]第三方面，提供了一种气体激光器，包括前述的电容充电电路。
[0015]本专利技术提供的技术方案带来的有益效果包括：本专利技术实施例提供了一种电容充电方法、电容充电电路及气体激光器，所述充电方法首先控制控制至少两个电源同时对电容充电，使得所述电容电压到达第一预设电压值，然后减少对所述电容充电的电源个数，继续对所述电容进行充电，使所述电容的电压到达目标预设电压值。本专利技术在充电开始阶段让两个或两个以上电源工作达到较快充电速率，在接近电容目标充电电压时，让一个电源继续保持充电工作，使得电流和电流上升斜率大幅降低，电流抖动进一步降低，达到提高电容充电电压精度的目的，最终电容充电电压精度优于单一电源单独对电容充电的充电电压精度。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1为本专利技术实施例提供的一种电容充电方法的流程图；图2为本专利技术实施例提供的一种电容充电电路的原理框图；图3为本专利技术实施例提供的一种电容充电方法的一个实施示意图；图4为本专利技术实施例提供的一种电容充电方法的另一个实施示意图；图5为本专利技术实施例提供的一种电容充电方法的又一个实施示意图。
具体实施方式
[0018]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0019]本专利技术实施例提供了一种电容充电方法，以解决现有气体激光器的储能电容采用单一高精度的电源充电，储能电容的充电电压精度只能达到充电电源的输出精度，难以进一步提高的技术问题。
[0020]参见图1所示，本专利技术实施例提供了一种电容充电方法，包括以下步骤：步骤S10，控制至少两个电源同时对电容充电，使得所述电容电压到达第一预设电压值。可选地，可控制至少两个电源并联后对电容充电。
[0021]具体地，参见图2和图3所示，以两个充电电源为例，高压电源HVPS1和高压电源HVPS2并联后连接电容C0，在T1充电时间内，先控制高压电源HVPS1和高压电源HVPS2对电容C0充电，使电容C0的电压至第一预设电压值V1。
[0022]步骤S20，减少对所述电容充电的电源个数，继续对所述电容进行充电，使所述电容的电压到达目标预设电压值。
[0023]再参见图2和图3所示，在接下来的T2充电时间内，再控制高压电源HVPS2继续对电容C0充电，使电容C0的电压从第一预设电压V1至目标预设电压V2，维持目标预设电压V2稳定，稳定时间为T3，然后开始放电，完成电容C0的一个充放电周期。
[0024]从图3可以看出，在开始充电阶段让两个电源工作达到较快充电速率，在接近电容C0的目标充电电压时，只使用一个电源继续保持工作，此时本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电容充电方法，其特征在于，包括以下步骤：控制至少两个电源同时对电容充电，使得所述电容电压到达第一预设电压值；减少对所述电容充电的电源个数，继续对所述电容进行充电，使所述电容的电压到达目标预设电压值。2.根据权利要求1所述的电容充电方法，其特征在于，所述控制至少两个电源同时对电容充电，使得所述电容电压到达第一预设电压值；减少对所述电容充电的电源个数，继续对所述电容进行充电，使所述电容的电压到达目标预设电压值，包括：先控制两个电源同时对电容充电，使得所述电容电压到达第一预设电压值；再控制所述两个电源其中一个电源对电容继续充电，使所述电容的电压到达目标预设电压值。3.根据权利要求1所述的电容充电方法，其特征在于：所述至少两个电源为三个电源；所述控制至少两个电源同时对电容充电，使得所述电容电压到达第一预设电压值，包括：控制三个电源同时对所述电容充电，使得所述电容电压到达第一预设电压值；所述减少对所述电容充电的电源个数，继续对所述电容进行充电，使所述电容的电压到达目标预设电压值，包括：控制所述三个电源其中的一个电源继续对所述电容充电，使得所述电容电压到达目标预设电压值。4.根据权利要求1所述的电容充电方法，其特征在于：所述至少两个电源为三个电源；所述控制至少两个电源同时对电容充电，使得所述电容电压到达第一预设电压值，包括：控制三个电源同时对所述电容充电，使得所述电容电压到达第一预设电压...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴涛，
申请(专利权)人：北京精亦光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：