电子设备保护膜以及电子设备保护膜的制造方法技术

本发明专利技术提供一种电子设备保护膜以及电子设备保护膜的制造方法，电子设备保护膜包括玻璃层和AB胶层，AB胶层包括依次设置的光学胶层、缓冲层和硅胶层，玻璃层与光学胶层连接，相较于现有技术，因将现有技术AB胶层中PET层更改成缓冲层，缓冲层对玻璃层起到减震缓冲的作用，进而可以降低玻璃层被摔碎的风险；玻璃层对施加于电子设备保护膜上的力进行第一次缓冲作用，而缓冲层对施加于电子设备保护膜上的力起到第二次缓冲作用，即在玻璃层和缓冲层的双层缓冲作用下，使得电子设备保护膜的抗防摔能力得到进一步地提升，进而使得低成本的电子设备保护膜也可以具有现有技术中高成本钢化膜的防摔能力。膜的防摔能力。膜的防摔能力。

【技术实现步骤摘要】
电子设备保护膜以及电子设备保护膜的制造方法


[0001]本专利技术涉及电子设备配件
，特别涉及一种电子设备保护膜以及电子设备保护膜的制造方法。

技术介绍

[0002]手机和平板电脑等电子设备的显示屏上一般都会贴有一层钢化膜，钢化膜可以对电子设备的显示屏起到防刮和防摔保护。具体地，现有的钢化膜主要靠钢化膜中的钢化玻璃来防摔，钢化玻璃的防摔能力是通过莫氏硬度来体现，钢化玻璃随着莫氏硬度的增加(数值变大)，钢化玻璃越不容易破碎，使得钢化膜的防摔能力越好，但也随着钢化玻璃的莫氏硬度的增加，钢化膜的成本与钢化玻璃的硬度成正比且成倍增加，莫氏硬度即具有高硬度的钢化膜对应着高成本高消费，给用户的消费带来负担。
[0003]为迎合大众用户的消费水平，现有钢化膜普遍采用莫氏硬度较低的钢化玻璃制成，以通过降低钢化膜的成本来降低钢化膜的售价，但同时会使得现有钢化膜的防摔能力比较弱，钢化膜还是容易被摔碎，为此，有必要对钢化膜的结构进行改进升级，以提升钢化膜的防摔能力。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本专利技术提出一种电子设备保护膜以及电子设备保护膜的制造方法。
[0005]本申请实施例提供一种电子设备保护膜，包括玻璃层和AB胶层，所述AB胶层包括依次设置的光学胶层、缓冲层和硅胶层，所述玻璃层与所述光学胶层连接，所述玻璃层用于对施加在所述电子设备保护膜上的力进行第一次缓冲，所述缓冲层用于对施加在所述电子设备保护膜上的力进行第二次缓冲。
[0006]在一实施例中，所述缓冲层还包括第一基材层、第二基材层和非牛顿流体层，所述非牛顿流体层设置于所述第一基材层和所述第二基材层之间，所述第一基材层与所述光学胶层连接，所述第二基材层与所述硅胶层连接。
[0007]在一实施例中，所述缓冲层的厚度为H1，其中：75μm≤H1≤200μm。
[0008]在一实施例中，所述非牛顿流体层的厚度为H2，其中：45μm≤H2≤170μm。
[0009]在一实施例中，所述非牛顿流体层包括：
[0010]60％～75％的热塑性弹性体材料、3％～5％的聚硼硅氧烷、3％～5％的硅烷偶联剂、10％～20％的苯基乙烯基硅树脂、1％～3％的光引发剂、1％～3％的稀释溶剂、1％～3％的锚固剂以及1％～3％的催化剂。
[0011]在一实施例中，所述光学胶层的厚度为H3，其中：25μm≤H3≤50μm；
[0012]所述硅胶层的厚度为H4，其中：18μm≤H4≤60μm；
[0013]所述玻璃层的厚度为H5，其中：0.15mm≤H5≤0.55mm。
[0014]本申请实施例还提供一种电子设备保护膜的制造方法，用于制造以上所述的电子设备保护膜，包括以下步骤：
[0015]通过制作得到所述缓冲层；
[0016]将光学胶和硅胶分别涂布于所述缓冲层的相对两侧；
[0017]将所述玻璃层粘接于所述缓冲层涂布有光学胶的一侧，得到所述电子设备保护膜。
[0018]在一实施例中，通过制作得到所述缓冲层，包括：
[0019]将非牛顿流体材料、丙烯酰氧丙基改性硅树脂、部分稀释溶剂甲苯和/或乙酸乙酯通过混合制作，得到缓冲流体材料；
[0020]将所述缓冲流体材料涂布于第一基材层的表面，并对所述缓冲流体材料进行固化处理；将第二基材层覆合于固化后的所述缓冲流体材料远离所述第一基材层的表面，得到所述缓冲层。
[0021]在一实施例中，将非牛顿流体材料、丙烯酰氧丙基改性硅树脂、部分稀释溶剂甲苯和/或乙酸乙酯通过混合制作，得到缓冲流体材料，包括：
[0022]将非牛顿流体材料、丙烯酰氧丙基改性硅树脂、部分稀释溶剂甲苯和/或乙酸乙酯混合后得到混合物，并对混合物升温至50℃
‑
80℃，并搅拌1至2小时，得到所述缓冲流体材料。
[0023]综上所述，本专利技术提供一种电子设备保护膜以及电子设备保护膜的制造方法，相较于现有技术，因将现有技术AB胶层中PET层更改成缓冲层，缓冲层对玻璃层起到减震缓冲的作用，进而可以降低玻璃层被摔碎的风险；玻璃层对施加于电子设备保护膜上的力进行第一次缓冲作用，而缓冲层对施加于电子设备保护膜上的力起到第二次缓冲作用，即在玻璃层和缓冲层的双层缓冲作用下，使得电子设备保护膜的抗防摔能力得到进一步地提升，进而使得低成本的电子设备保护膜也可以具有现有技术中高成本钢化膜的防摔能力。
附图说明
[0024]图1是本专利技术提供的电子设备保护膜的示意图。
[0025]图2是图1中的电子设备保护膜的分解示意图。
[0026]图3是图1中的电子设备保护膜的剖视示意图。
[0027]图4是本专利技术的第一种电子设备保护膜的制造方法流程框图。
[0028]图5是本专利技术的第二种电子设备保护膜的制造方法流程框图。
[0029]图6是本专利技术的第三种电子设备保护膜的制造方法流程框图。
具体实施方式
[0030]在详细描述实施例之前，应该理解的是，本专利技术不限于本申请中下文或附图中所描述的详细结构或元件排布。本专利技术可为其它方式实现的实施例。而且，应当理解，本文所使用的措辞及术语仅仅用作描述用途，不应作限定性解释。本文所使用的“包括”、“包含”、“具有”等类似措辞意为包含其后所列出之事项、其等同物及其它附加事项。特别是，当描述“一个某元件”时，本专利技术并不限定该元件的数量为一个，也可以包括多个。
[0031]如图1至图3所示，本申请的专利技术提供一种电子设备保护膜10，包括玻璃层20和AB胶层，AB胶层包括依次设置的光学胶层30、缓冲层40和硅胶层50，玻璃车层20与光学胶层30连接，具体地，光学胶层30设置于玻璃层20和缓冲层40之间，光学胶层30分别与玻璃层20和
缓冲层40粘接，硅胶层50设置于缓冲层40远离玻璃层20的一侧，硅胶层50与缓冲层40粘接，电子设备保护膜10通过硅胶层50可以稳固地贴设于电子设备的显示屏上，相较于现有技术，因将现有技术AB胶层中PET层更改成缓冲层40，缓冲层40对玻璃层20起到减震缓冲的作用，进而可以降低玻璃层20被摔碎的风险；玻璃层20对施加于电子设备保护膜10上的力进行第一次缓冲作用，而缓冲层40对施加于电子设备保护膜10上的力起到第二次缓冲作用，即在玻璃层20和缓冲层40的双层缓冲作用下，使得电子设备保护膜10的抗防摔能力得到进一步地提升，进而使得低成本的电子设备保护膜40也可以具有现有技术中高成本钢化膜的防摔能力。
[0032]如图2和图3所示，在实施例中，缓冲层40还包括第一基材层41、第二基材层42和非牛顿流体层43，非牛顿流体层43设置于第一基材车层和第二基材层42之间，光学胶层30位于第一基材层41远离第二基材层42的一侧，光学胶层30与第一基材层41连接，硅胶层50位于第二基材层42远离第一基材层41的一侧，硅胶层50与第二基材层42连接，利用第一基材层41以及第二基材层42对非牛顿流体层43进行固定，使得非牛顿流体层43可以稳定存在于光学胶本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电子设备保护膜，其特征在于，包括玻璃层和AB胶层，所述AB胶层包括依次设置的光学胶层、缓冲层和硅胶层，所述玻璃层与所述光学胶层连接，所述玻璃层用于对施加在所述电子设备保护膜上的力进行第一次缓冲，所述缓冲层用于对施加在所述电子设备保护膜上的力进行第二次缓冲。2.如权利要求1所述的电子设备保护膜，其特征在于，所述缓冲层还包括第一基材层、第二基材层和非牛顿流体层，所述非牛顿流体层设置于所述第一基材层和所述第二基材层之间，所述第一基材层与所述光学胶层连接，所述第二基材层与所述硅胶层连接。3.如权利要求1所述的电子设备保护膜，其特征在于，所述缓冲层的厚度为H1，其中：75μm≤H1≤200μm。4.如权利要求2所述的电子设备保护膜，其特征在于，所述非牛顿流体层的厚度为H2，其中：45μm≤H2≤170μm。5.如权利要求2所述的电子设备保护膜，其特征在于，所述非牛顿流体层包括：60％～75％的热塑性弹性体材料、3％～5％的聚硼硅氧烷、3％～5％的硅烷偶联剂、10％～20％的苯基乙烯基硅树脂、1％～3％的光引发剂、1％～3％的稀释溶剂、1％～3％的锚固剂以及1％～3％的催化剂。6.如权利要求1至5任意一项所述的电子设备保护膜，其特征在于，所述光学胶层的厚度为H3，其中：25μm≤H3≤50μm...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋春林，
申请(专利权)人：深圳市图拉斯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：