药物化合物的晶型制造技术

本发明专利技术涉及化合物(I)的晶型和制备化合物(I)的晶型的方法。本发明专利技术还提供了包含化合物(I)的晶型的药物组合物。此外，本发明专利技术涉及将化合物(I)的该晶型用作药物以及用于治疗涉及异常水平的葡糖神经酰胺和/或较高水平的鞘糖脂的疾病的方法。的疾病的方法。的疾病的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】药物化合物的晶型


[0001]本专利技术涉及化合物(I)的晶型，
[0002][0003]本专利技术还涉及制备化合物(I)的晶型的方法以及包含化合物(I)的晶型的药物组合物。此外，本专利技术涉及将化合物(I)的该晶型用作药物以及用于治疗涉及异常水平的葡糖神经酰胺和/或较高水平的鞘糖脂的疾病的方法。

技术介绍

[0004]当将化合物用于药物用途时，该化合物的晶体状态可能很重要。这是因为化合物的晶体状态的形态学、颗粒尺寸、多晶型、溶剂化或水合可能影响药剂的过滤、流动、压片、溶解和生物利用度。
[0005]脱氧野尻霉素衍生物是药物化学和药物发现中的重要的一类分子。N
‑
(羟乙基)
‑
脱氧野尻霉素作为用于2型糖尿病的抗糖尿病剂以米格列醇销售。米格列醇还充当多种肠糖苷酶(麦芽糖酶、蔗糖和乳糖酶)的广谱抑制剂(Hillebrand等，Diabetes，1986，第35卷，A93
‑
A93)(Scott和Spencer，Drugs，2000，第59卷，521
‑
549)。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种化合物(I)的晶型，2.根据权利要求1所述的晶型，其中所述晶型为结晶游离碱。3.根据权利要求1或权利要求2所述的晶型，其中所述晶型在X射线粉末衍射图中显示以2θ值表示的在17.8
±
0.2
°
处的反射，其中所述在17.8
±
0.2
°
处的反射为所述X射线粉末衍射图中的四个最强反射之一。4.根据权利要求3所述的晶型，在X射线粉末衍射图中还显示以2θ值表示的在4.1
±
0.2
°
、8.3
±
0.2
°
、12.4
±
0.2
°
、13.6
±
0.2
°
、14.5
±
0.2
°
、14.9
±
0.2
°
、15.2
±
0.2
°
、17.2
±
0.2
°
、19.3
±
0.2
°
、21.2
±
0.2
°
、22.4
±
0.2
°
、22.9
±
0.2
°
和23.3
±
0.2
°
中的一者或更多者处的一个或更多个反射。5.根据权利要求1至4中任一项所述的晶型：(a)具有89℃至96℃的熔点；和/或(b)其中所述晶型基本上不吸湿。6.根据权利要求1或权利要求2所述的晶型，其中所述晶型在X射线粉末衍射图中显示以2θ值表示的在16.9
±
0.2
°
处的反射，其中所述在16.9
±
0.2
°
处的反射为所述X射线粉末衍射图中的四个最强反射之一，任选地其中所述晶型在X射线粉末衍射图中还显示以2θ值表示的在15.2
±
0.2
°
、16.1
±
0.2
°
、16.5...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗伯特，
申请(专利权)人：阿扎法罗斯私人有限公司，
类型：发明
国别省市：