【技术实现步骤摘要】
Ta2O5/NiO@Ti3C2Tx片状纳米花材料及其制备方法
[0001]本专利技术涉及纳米复合材料,特别是涉及一种氧化钽、氧化镍和Ti3C2T
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的复合材料及其制备方法。
技术介绍
[0002]氧化钽(Ta2O5)是一种惰性材料,具有禁带宽度高,折射率高,光吸收低,介电常数大以及对pH敏感的特性,也是一种n型材料。基于这些特性,氧化钽可以作为气体传感器和涂层用料,但因为其是一种宽禁带半导体,因此它在室温下的电阻较大,达到10
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Ω/cm2,这不利于电学性能的调控和变化。氧化镍(NiO)是一种p型半导体材料,禁带宽度3.7eV,具有灵敏度高、使用寿命长、制备简单等优点。MXene材料是一种无机化合物由前过渡金属碳、氮化物组成,这种材料具有类似石墨烯材料的层状结构,具有优异的导电性和较高比表面积能够提供更多的活性位点等优点。
[0003]本专利技术专利通过碳球模板氧化钽与氧化镍进行复合,在两种材料的接触界面形成p
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n结,再将得到的材料与MXene材料进行复合,将Ta2O5/NiO空心纳米球嵌入到MXene片状结构中,构成花状纳米片结构的复合材料进一步调节禁带宽度,使得载流子浓度发生改变从而引起电阻变化,同时粗糙的空心纳米球表面可以提供更大的比表面积和更多的活性位点。本专利技术专利提供的复合纳米材料可望在气体传感、光电催化、气体吸附等领域获得应用。
技术实现思路
[0004]本申请的内容部分用于以简要的形式介绍构思,这些构思将在后面的具体实 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种Ta2O5/NiO@Ti3C2T
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片状纳米花材料,其特征在于:由氧化钽、氧化镍和Ti3C2T
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材料复合而成,Ta2O5纳米颗粒和NiO纳米颗粒附着在Ti3C2T
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片层之间,形成包含p
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n结的异质异构复合微纳界面,纳米片纵横交错,聚集形成花状纳米结构,直径为1~5微米,片状纳米花材料具有微纳多孔的三维网络特征,结构均匀,形貌均一。2.一种Ta2O5/NiO@Ti3C2T
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片状纳米花材料的制备方法,其特征在于,其制备方法包括如下步骤:1)获取葡萄糖乙醇分散液,获取Ti3C2T
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分散液;2)将TaCl5溶解到步骤1)中所得的葡萄糖乙醇分散液中,室温搅拌,超声使其混合均匀;3)将醋酸镍加入到步骤2)中所得的混合溶液中,室温搅拌,超声使其混合均匀;4)将步骤3)中所得的混合溶液转移至反应容器中,使用溶剂热法,在真空烘箱内,使混合溶液在反应温度为160℃下,反应时间为8h,冷却至室温;5)将步骤4)中所得到的沉淀产物进行离心分离,收集固体,洗涤,转移到真空烘箱内,在80℃下,干燥12h;6)将步骤5)中所得的粉末研磨,转移到管式炉中,以5℃/min的速率升温到400℃,持续90min,收集中间产物的Ta2O5/NiO空心纳米球材料;7)将步骤6)热处理之后收集到的Ta2O5/NiO空心纳米球材料,加入步骤1)中得到的Ti3C2T
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分散液中,搅拌,超声,再加入去离子水;8)将步骤7)所得到的混合溶液倒入反应釜中,使用溶剂热法,使混合溶液在反应温度为160℃下反应时间为10h,冷却至室温;9)将步骤8)中所得到的沉淀产物进行离心分离,收集固体,洗涤,转移到真空烘箱内,在80℃下,干燥12h;10)将步骤9)中所得的粉末研磨,转移到管式炉中,热处理,收集最终产物的Ta2O5/NiO@Ti3C2T
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片状纳米花...
【专利技术属性】
技术研发人员:吕建国,邵文怡,王宇,马建,马忻忻,
申请(专利权)人:滕州创感电子科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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