一种厚度可控的量子点色转换层制备方法及其应用技术

本发明专利技术公开了一种厚度可控的量子点色转换层及Micro

【技术实现步骤摘要】
一种厚度可控的量子点色转换层制备方法及其应用


[0001]本专利技术属于半导体显示的
，特别涉及一种厚度可控的量子点色转换层制备方法及在量子点色转换Micro
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LED全彩显示器件的应用。

技术介绍

[0002]与LCD和OLED相比，Micro
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LED具有高亮度、宽色域、高对比度以及响应速度快、分辨率高、使用寿命长等显著优势，在AR/VR、可穿戴设备、手机、汽车、笔记本电脑和电视等几乎所有的显示应用市场领域展现出巨大潜力，被认为是消费电子领域下一个时代的显示技术。
[0003]Micro
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LED的全彩化技术中，将紫外或蓝光Micro
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LED作为激发光源与量子点色转换层结合是一种工艺简单且高效的方法。因此对于量子点色转换层的制备方法的研究具有重大意义，目前主流的量子点色转换层的制备方法主要是喷墨打印和光刻，但是喷墨打印对设备要求高、均匀性较差、制备速度慢，难以实现大面积均匀的量子点色转换层的制备；而光刻技术虽然可以实现高精度分辨率的量子点图案，但掺杂的光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种厚度可控的量子点色转换层制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1)采用蚀刻工艺对透明衬底表面进行图案化，得到凹槽阵列；2)将微通道盖板键合于透明衬底的图案化表面上形成与凹槽阵列对应的若干微通道；3)向微通道中分别通入红色量子点溶液、绿色量子点溶液和蓝色量子点溶液，使量子点溶液充满微通道和对应的凹槽；4)溶剂挥发形成单次量子点层；5)重复步骤3)～4)，增加量子点层厚度至预设厚度；6)剥离微通道盖板，去除透明衬底表面的凹槽阵列之外的量子点，得到位于凹槽阵列中的量子点色转换层。2.根据权利要求1所述的厚度可控的量子点色转换层制备方法，其特征在于：所述微通道盖板具有若干条型槽，步骤2)中，所述各条型槽分别与一列凹槽对应形成微通道；所述微通道具有入口和出口。3.根据权利要求1所述的厚度可控的量子点色转换层制备方法，其特征在于：所述凹槽的深度为3～10μm，所述微通道的高度为20～60μm。4.根据权利要求1所述的厚度可控的量子点色转换层制备方法，其特征在于：所述量子点层的厚度不超过所述凹槽的深度。5.根据权利要求1所述的厚度可控的量子点色转换层制备方法，其特征在于：通过控制量子点的沉积次数控制所述量子点层的厚度。6.根据权利要求1所述的厚度可控的量子点...

【专利技术属性】
技术研发人员：王树立，孔学敏，罗云姝，范小通，刘俊儒，黎赛军，王煜辉，林岳，吴挺竹，陈忠，
申请(专利权)人：厦门大学，
类型：发明
国别省市：