一种分区曝光板制造技术

本实用新型专利技术涉及一种分区曝光板，包括标志标志盘，其设有多个透光区域；挡光板，其与所述标志盘同轴且转动连接，所述挡光板分成多个等分的扇形区域，所述挡光板设有与所述扇形区域等大的扇形缺口；当所述标志盘与所述挡光板相对转动时，多个所述透光区域依次进入所述扇形缺口的范围内，所述标志盘和所述扇形缺口非重合的区域设有透光通道；本实用新型专利技术所述的分区挡光板，通过旋转扇形缺口实现对晶圆的分区曝光，加以标志盘的标识，限定晶圆和光刻胶的感光区域，提高了晶圆的利用率，使得试验中光刻胶和晶圆的成本大幅度降低，并节省了人力资源，且操作简单，工作效率高。工作效率高。工作效率高。

【技术实现步骤摘要】
一种分区曝光板


[0001]本技术涉及光刻
，尤其是指一种分区曝光板。

技术介绍

[0002]因为光刻胶、晶圆、去胶液均为半导体工艺耗材，其价格不菲，在工艺开发又起着不可或缺的作用，为节约单次工艺成本，常对单片晶圆进行多位置分区域曝光，以降低工艺成本。从而摸索不同的曝光、显影等条件。
[0003]在光刻技术中，曝光机一般包括光源、掩模版以及透镜。掩模版是一种表面被铬金属形成的图案所覆盖的石英板，光源通过掩模版透光区域并照射到涂有光刻胶的晶片上，使得光刻胶曝光区域发生变性，经过显影液浸泡后，留下衬底表面无光刻胶区域与光刻胶覆盖衬底区域，经过RIE、PVD等工艺处理后，再将光刻胶去除，从而实现将掩膜版上的图形完整复制到晶圆表面。
[0004]现有技术是用一整片的晶圆片进行试验，这样容易造成晶圆片的浪费；在实际使用过程中，若将掩模版上的图案部分投射的需求，即对晶圆表面的光刻胶进行部分曝光，则可以提高晶圆的利用率。因此可以在掩模版和晶片之间加设遮光挡光板，将不需要进行曝光的部分用挡光板遮住以阻挡光线透过，而将光线限制在需要曝光的部分，通过挡光板来控制光照射区域的面积，从而可以实现部分曝光。
[0005]常见方式，如使用铝箔纸剪成3/4挡光圆形与1/4透光圆形，用于分区遮挡掩膜版上方光源，实现对晶圆表面光刻胶的4分区曝光，该方法较为简陋，试验中铝箔纸有易翘起、遮光效率不高等缺陷；另外难以实现重复利用以及较难实现固定角度的旋转。切片法：将一整个晶圆切成若干个区域，涂胶后做不同的曝光剂量试验，该办法缺陷主要为涂胶前切片，旋胶后边缘区域有厚边效应，导致掩膜版不能有效接触光刻胶中心区域造成光的衍射与散射，导致锯齿状图形等缺陷；另一种为涂胶后裂片，此办法难以去除切片带来的颗粒物质等。因为曝光时掩膜版与晶圆表面光刻胶直接接触，极易有光刻胶脱落粘附在掩膜版表面，造成在未清洗掩膜版的前提下，无法进行下一片晶圆的光刻；目前对于非整片的晶圆暂不能实现好的去边办法。

技术实现思路

[0006]为此，本技术所要解决的技术问题在于克服现有技术中铝箔纸分区曝光光刻胶效率不高的缺陷且铝箔纸难以实现固定角度旋转的问题，进而提供一种分区曝光板，精准实现了光刻胶分区曝光，曝光效率高且操作简单。
[0007]为解决上述技术问题，本技术提供了一种分区曝光板，包括标志盘，其设有多个透光区域；
[0008]挡光板，其与所述标志盘同轴且转动连接，所述挡光板分成多个等分的扇形区域，所述挡光板设有与所述扇形区域等大的扇形缺口；当所述标志盘与所述挡光板相对转动时，多个所述透光区域依次进入所述扇形缺口的范围内，所述标志盘和所述扇形缺口非重
合的区域设有透光通道。
[0009]在本技术的一个实施例中，所述标志盘直径小于所述挡光板的直径。
[0010]在本技术的一个实施例中，所述标志盘等分设有多个与所述扇形区域一一对应的标志分区，多个所述透光区域均布在所述标志分区上。
[0011]根在本技术的一个实施例中，多个所述透光区域的形状不一致。
[0012]在本技术的一个实施例中，所述挡光板的中心设有限位柱。
[0013]在本技术的一个实施例中，所述标志盘的中心设有通孔，所述通孔套设在所述限位柱上。
[0014]在本技术的一个实施例中，还包括圆环，所述圆环与所述挡光板同轴设置。
[0015]在本技术的一个实施例中，所述圆环设有圆形凹槽，所述挡光板设置在所述圆形凹槽内。
[0016]在本技术的一个实施例中，所述圆环设有刻度，所述刻度的范围为1
°
～360
°
。
[0017]在本技术的一个实施例中，所述圆环同轴设有限位环，所述限位环设置在所述圆环相对所述标志盘的一侧，所述限位环沿其轴向延伸。
[0018]本技术的上述技术方案相比现有技术具有以下优点：
[0019]本技术所述的一种分区曝光板，包括标志盘，其设有多个透光区域；挡光板，其与所述标志盘同轴且转动连接，所述挡光板分成多个等分的扇形区域，所述挡光板设有与所述扇形区域等大的扇形缺口；当所述标志盘与所述挡光板相对转动时，多个所述透光区域依次进入所述扇形缺口的范围内，所述标志盘和所述扇形缺口非重合的区域设有透光通道；通过旋转扇形缺口实现对晶圆的分区曝光，限定晶圆和光刻胶的感光区域，提高了晶圆的利用率，标志盘设有透光区域，不同透光区域旋转到扇形缺口的上方，光源通过透光区域将透光区域的图案可在光刻胶上起到标识晶圆以曝光区域的作用，进一步提高分区曝光的精准度，节省了人力资源。
附图说明
[0020]为了使本技术的内容更容易被清楚的理解，下面根据本技术的具体实施例并结合附图，对本技术作进一步详细的说明，其中
[0021]图1为本技术优选实施例中分区挡光板的顶视图的结构示意图。
[0022]图2为图1所示的分区挡光板的俯视图的结构示意图。
[0023]图3为图1所示的分区挡光板的侧视图的结构示意图。
[0024]图4为图1所示的分区挡光板的仰视图的结构示意图。
[0025]图5为图1所示的分区挡光板的标志盘的结构示意图。
[0026]图6为图1所示的分区挡光板的圆环的结构示意图。
[0027]说明书附图标记说明：1、圆环；2、挡光板；3、扇形缺口；4、标志盘；5、透光区域；6、限位环；7、限位柱；8、透光通道；9、通孔；10、凹槽。
具体实施方式
[0028]下面结合附图和具体实施例对本技术作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好地理解本技术并能予以实施，但所举实施例不作为对本技术的限定。
[0029]实施例
[0030]在本技术的一个实施例中，参照图1所示，本技术的一种分区曝光板，包括标志盘4，标志盘4为可自由旋转的辅助工具，主要由黑色防静电且不透光材质组成，标志盘4可以应用不锈钢材质、硬氧化铝等机械强度高的材质，确保标志盘4的强度和稳定性，标志盘4设有透光区域5，透光区域5可以是数字以及其他易于人眼分别的图案；光刻机的光源通过透光区域5将图案或者数字可在光刻胶上，透光区域5尺寸大于掩膜版上的图案的尺寸，通过观察晶圆是否有无透光区域5可以判断该区域的光刻胶是否已经经过曝光。
[0031]在本技术的一个实施例中，参照图1所示，还包括挡光板2，其与所述标志盘4同轴且转动连接，挡光板2主要由黑色防静电且不透光材质组成，挡光板2可以应用不锈钢材质、硬氧化铝等机械强度高的材质，确保挡光板2的强度高，稳定性好，遮挡效率高；所述挡光板2设有1/4大的扇形缺口3和四个面积相等的扇形分区，所述扇形缺口3与所述扇形分区等大，需要注意的是，多个面积相等的扇形分区是面积上的划分，并非单个物理结构的拼接；光刻机的1/4光源通过扇形缺口3照射到晶圆上1/4的区域并进行曝光；光刻机的3/4的光源被挡光板2挡住，对应的3本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种分区曝光板，其特征在于，包括，标志盘，其设有多个透光区域；挡光板，其与所述标志盘同轴且转动连接，所述挡光板分成多个等分的扇形区域，所述挡光板设有与所述扇形区域等大的扇形缺口；当所述标志盘与所述挡光板相对转动时，多个所述透光区域依次进入所述扇形缺口的范围内，所述标志盘和所述扇形缺口非重合的区域设有透光通道。2.根据权利要求1所述的一种分区曝光板，其特征在于，所述标志盘直径小于所述挡光板的直径。3.根据权利要求1所述的一种分区曝光板，其特征在于，所述标志盘等分设有多个与所述扇形区域一一对应的标志分区，多个所述透光区域均布在所述标志分区上。4.根据权利要求1所述的一种分区曝光板，其特征在于，多个所述透光区域的形状不一致。5.根据权利要求1所述的一种分区曝光板...

【专利技术属性】
技术研发人员：王智浩，张金胜，冯丽彬，张登巍，李鑫，
申请(专利权)人：苏州鼎芯光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：