高延伸率双面光超薄电解铜箔的制造方法技术

本发明专利技术涉及一种高延伸率双面光超薄电解铜箔的制造方法，（１）电解液中Ｃｕ↑［２＋］含量７０～１００ｇ／Ｌ、Ｈ↓［２］ＳＯ↓［４］含量８０～１５０ｇ／Ｌ；（２）每小时在每立方米４０～６０℃的电解液中同时滴加１２０～２４０ｍｌ　ａ溶液、１２～６０ｍｌ　ｂ溶液、１２～６０ｍｌ明胶溶液，拌匀后，电解液流入阳极槽；（３）电解液在电场作用下，在电流密度５０００～６５００Ａ／ｍ↑［２］进行电化学反应，制得高延伸率双面光超薄电解铜箔。本发明专利技术的铜箔单位面积重量７２～８０ｇ／ｍ↑［２］、抗拉强度＞３８０Ｎ／ｍｍ↑［２］、表面粗糙度Ｒａ≤０．２０μｍ、延伸率＞５％、厚度≤９．５μｍ、毛面光泽度４２０ＧＵ。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种高延伸率双面光超薄电解铜箔的制造方法，其特征在于：　（１）取１０～１００ｇ苯基聚二硫丙烷磺酸钠、１０～１００ｇ聚二硫二丙烷磺酸钠、０．１～１ｇ　２－巯基苯骈咪唑、０．１～１ｇ乙烯硫脲加入１立方米去离子水中溶解，得到ａ溶液；（２）取３０～２００ｇ聚乙二醇分子量２００～６０００、５０～３００ｇ十二烷基硫酸钠、质量浓度３６％的盐酸２．５～４７ｍｌ加入１立方米去离子水中溶解，得到ｂ溶液；　（３）硫酸铜电解液中铜离子含量７０～１００ｇ／Ｌ、硫酸含量８０～１５０ｇ／Ｌ；　（４）将硫酸铜电解液加热到４０～６０℃，每小时在每立方米硫酸铜电解液中同时加入１２０～２４０ｍｌａ溶液、１２～６０ｍｌｂ溶液、１２～６０ｍｌ明胶溶液，拌匀后，电解液进入阳极槽；　（５）电解液在电场作用下，电流密度为５０００～６５００Ａ／ｄｍ↑［２］，进行电化学反应，制成高延伸率双面光超薄电解铜箔。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张辉玲，罗雄标，夏文梅，吴红兵，
申请(专利权)人：梅县金象铜箔有限公司，
类型：发明
国别省市：44[中国|广东]