氟树脂薄膜以及橡胶成型体制造技术

技术编号:37987610 阅读:45 留言:0更新日期:2023-06-30 10:02
提供一种氟树脂薄膜,其含有氟树脂,具有经过改性处理的表面。在通过X射线光电子能谱法评价的所述表面的C1s窄谱中,最大峰的强度设为1时,化学位移284eV的峰的强度为0.80以下。该氟树脂薄膜是具有经过改性处理的表面的薄膜,适于制造具有由该薄膜覆盖的表面的橡胶成型体。成型体。成型体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】氟树脂薄膜以及橡胶成型体


[0001]本专利技术涉及氟树脂薄膜以及橡胶成型体。

技术介绍

[0002]氟树脂薄膜由于化学上稳定,被用作覆盖含橡胶基材的表面的薄膜。具备含橡胶基材和覆盖其表面的氟树脂薄膜的橡胶成型体被用作隔膜、辊、垫片、软管、管等。专利文献1公开了表面被氟树脂薄膜覆盖的隔膜。专利文献1的隔膜对大气中的臭氧、燃料等具有高耐久性。
[0003]另一方面,氟树脂薄膜对其它物质、构件的粘接性一般较低。众所周知,氟树脂薄膜的粘接性通过溅射蚀刻处理等改性处理而提高(参照专利文献2)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本实愿昭53

182502号(日本实开昭55

98854号)的微型薄膜
[0007]专利文献2:日本特开2012

233189号公报

技术实现思路

[0008]专利技术要解决的问题
[0009]对含橡胶基材的粘接性不足时,橡胶成型体容易产生氟树脂薄膜从含橡胶基材浮起等本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种氟树脂薄膜,其含有氟树脂,所述氟树脂薄膜具有经过改性处理的表面,在通过X射线光电子能谱法评价的所述表面的C1s窄谱中,最大峰的强度设为1时,化学位移284eV的峰的强度为0.80以下。2.根据权利要求1所述的氟树脂薄膜,其中,所述表面中的氟/碳元素比即F/C比为0.32以上且1.82以下。3.根据权利要求1或2所述的氟树脂薄膜,其中,所述表面中的碳、氧以及氟的总和设为100原子%时,所述表面中的氧的比例为0.6原子%以上且小于13原子%。4.根据权利要求1~3中任一项所述的氟树脂薄膜,其中,所述表面中的JIS Z8781

4:2013所规定的CIE1976(L
*
,a
*
,b
*
)色空间的b
*
值的绝对值为小于3.1。5.根据权利要求1~4中任一项所述的氟树脂薄膜,其中,对于JIS Z8781

4:2013所规定的CIE1976(L
*
,a
*
,b
*
)色空间的b
*
,所述表面中的值b
*1
与JIS Z8781

4:2013所规定的白色反射标准中的值b*0的差Δb...

【专利技术属性】
技术研发人员:植田成美黑木裕太秋叶府统藤原圭子
申请(专利权)人:日东电工株式会社
类型:发明
国别省市:

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