直写光刻镜头角度的测量方法、计算设备及存储介质技术

本发明专利技术提供一种直写光刻镜头角度的测量方法、计算设备及存储介质，该直写光刻镜头角度的测量方法包括：控制直写光刻机的光刻镜头对沿z轴方向位于光刻镜头下方的感光标尺光刻至少两个标定图案；控制同一对位相机分别拍摄至少两个标定图案，得到至少两个标定图像；根据至少两个标定图像分别确定对应标定图案中目标特征点在曝光坐标系的目标位置坐标；根据目标位置坐标计算至少两个目标特征相对曝光坐标系的分布角度，将分布角度作为镜头投射区域的投射角度。通过该方法，有利于减小由于直写光刻设备、对位相机、曝光平台之间相对位移产生的位置误差对角度标定误差的影响，使得镜头投射区域的投射角度更准确，有利于电路基板的光刻图案的准确性。的光刻图案的准确性。的光刻图案的准确性。

【技术实现步骤摘要】
直写光刻镜头角度的测量方法、计算设备及存储介质


[0001]本专利技术涉及光刻
，尤其涉及一种直写光刻镜头角度的测量方法、计算设备及存储介质。

技术介绍

[0002]直写光刻技术作为一种无掩模光刻技术是利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料实施变剂量曝光，显影后在抗蚀层表面形成所要求的图形。由于该技术只需通过控制激光强度和扫描刻写路径就可以实现高精度任意图形的刻写，系统较其他刻写方式而言更为简单，成本也更为低廉，因此，该技术适用于高精度单件或小批量的生产，在科研领域也具有广泛的应用。
[0003]其中，曝光设备相关组件之间的位置标定以及光刻镜头的相关参数标定至关重要，是获得期望曝光的前提。
[0004]其中，光刻镜头的相关参数中光刻镜头角度的标定对最终投射到电路基板上位置起到关键性作用，为了更好的保证光刻的精度，需要准确的获取各个光刻镜头的角度，从而使得光刻图案能够投射至电路基板的预期位置，保证光刻精度良好。目前的直写光刻机通常通过相机直接获取光刻镜头的投射图案进行从而相应计算对应的光刻镜头角度，其中，由于相机被光刻镜头本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种直写光刻镜头角度的测量方法，其特征在于，包括如下步骤：控制直写光刻机的光刻镜头对沿z轴方向位于所述光刻镜头下方的感光标尺光刻至少两个标定图案，至少两个所述标定图案中目标特征点的分布方向与所述光刻镜头向曝光平台投射的镜头投射区域方向一致，所述感光标尺设于所述曝光平台并沿曝光坐标系的x轴方向或y轴方向延伸；控制同一对位相机分别拍摄至少两个所述标定图案，得到至少两个标定图像；根据至少两个所述标定图像分别确定对应所述标定图案中所述目标特征点在所述曝光坐标系的目标位置坐标；根据所述目标位置坐标计算至少两个所述目标特征相对所述曝光坐标系的分布角度，将所述分布角度作为所述镜头投射区域的投射角度。2.如权利要求1所述的直写光刻镜头角度的测量方法，其特征在于，所述控制直写光刻机的光刻镜头对沿z轴方向位于所述光刻镜头下方的感光标尺光刻至少两个标定图案，进一步包括：移动所述曝光平台带动所述感光标尺至所述光刻镜头下方的投射范围内；控制所述光刻镜头向所述感光标尺光刻至少两个所述标定图案；所述控制同一对位相机分别拍摄至少两个所述标定图案，得到至少两个标定图像，进一步包括：移动所述对位相机至所述感光标尺的至少两个所述标定图案位于所述对位相机下方的拍摄范围内；控制所述对位相机分别拍摄至少两个所述标定图案，得到至少两个标定图像。3.如权利要求1所述的直写光刻镜头角度的测量方法，其特征在于，所述根据至少两个所述标定图像分别确定对应所述标定图案中所述目标特征点在所述曝光坐标系的目标位置坐标，进一步包括：判断每一所述标定图像中对应所述标定图案的图案特征是否符合预设条件；若每一所述标定图像中对应所述标定图案的图案特征符合所述预设条件，根据所述图案特征计算每一所述标定图案中所述目标特征点的目标位置坐标。4.如权利要求3所述的直写光刻镜头角度的测量方法，其特征在于，所有所述标定图案均为圆形，所述根据至少两个所述标定图像分别确定对应所述标定图案中所述目标特征点在所述曝光坐标系的目标位置坐标，进一步包括：判断每一所述标定图像中所述图案特征的圆度是否符合预设圆度误差范围；若每一所述标定图像中所述图案特征的圆度符合所述预设圆度误差范围，计算所述标定图像中所述图案特征的第一圆心位置坐标；根据所述第一圆心位置坐标确定所述标定图案的第二圆心位置坐标，将所述第二圆心位置坐标作为所述目标特征点的目标位置坐标。5.如权利要求1所述的直写光刻镜头角度的测量方法，其特征在于，所述标定图案设有三个，三个所述标定图案包括一第一标定图案和两个第二标定图案，所述第一标定图案的第一目标特征点位于所述镜头投射区域的...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈志特，王华，黄海浩，张少勋，
申请(专利权)人：广东科视光学技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：