运动装置及测量设备制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种运动装置及测量设备，涉及集成电路技术领域。该运动装置包括基座、X向运动机构、Y向运动机构和Z向运动机构，其中，X向运动机构包括X向滑动座和X向压电陶瓷电机，X向压电陶瓷电机连接于基座与X向滑动座之间；Y向运动机构包括Y向滑动座和Y向压电陶瓷电机，Y向压电陶瓷电机连接于X向滑动座与Y向滑动座之间；Z向运动机构包括Z向滑动座和Z向压电陶瓷电机，Z向压电陶瓷电机连接于Y向滑动座与Z向滑动座之间。该测量设备包括测量组件和上述运动装置，测量组件安装于运动装置的Z向滑动座。该运动装置的运动精度高、抗磁干扰强且对测量组件的位置保持性较好。测量组件的位置保持性较好。测量组件的位置保持性较好。

【技术实现步骤摘要】
运动装置及测量设备


[0001]本专利技术涉及集成电路
，具体而言，涉及一种运动装置及测量设备。

技术介绍

[0002]集成电路领域中，为了保证产品的良率，需要在特定环节对晶圆进行量测，包括对键合精度、表面形貌、电路特征等的显微检测，因此需要运动装置承载测量组件到达特定位置以对晶圆等待测量物的测量位置进行测量，然而现有运动装置的运动精度低、抗磁干扰弱且对测量组件的位置保持性较差。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的包括提供一种运动装置及测量设备，以解决现有运动装置的运动精度低、抗磁干扰弱且对测量组件的位置保持性较差的技术问题。
[0004]为解决上述问题，本专利技术提供一种运动装置，包括：
[0005]基座；
[0006]X向运动机构，包括X向滑动座和X向压电陶瓷电机，所述X向压电陶瓷电机连接于所述基座与所述X向滑动座之间，用于驱动所述X向滑动座沿X向运动；
[0007]Y向运动机构，包括Y向滑动座和Y向压电陶瓷电机，所述Y向压电陶瓷电机连接于所述X向滑动座与所述Y向滑动座之间，用于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种运动装置，其特征在于，包括：基座(100)；X向运动机构(200)，包括X向滑动座(210)和X向压电陶瓷电机(220)，所述X向压电陶瓷电机(220)连接于所述基座(100)与所述X向滑动座(210)之间，用于驱动所述X向滑动座(210)沿X向运动；Y向运动机构(300)，包括Y向滑动座(310)和Y向压电陶瓷电机(320)，所述Y向压电陶瓷电机(320)连接于所述X向滑动座(210)与所述Y向滑动座(310)之间，用于驱动所述Y向滑动座(310)沿Y向运动；以及，Z向运动机构(400)，包括Z向滑动座(410)和Z向压电陶瓷电机(420)，所述Z向压电陶瓷电机(420)连接于所述Y向滑动座(310)与所述Z向滑动座(410)之间，用于驱动所述Z向滑动座(410)沿Z向运动。2.根据权利要求1所述的运动装置，其特征在于，所述X向滑动座(210)沿X向滑接于所述基座(100)，所述X向压电陶瓷电机(220)的X向陶瓷片(221)设于所述基座(100)且沿X向延伸，所述X向压电陶瓷电机(220)的X向电机本体(222)安装于所述X向滑动座(210)，且所述X向电机本体(222)的触头与所述X向陶瓷片(221)相配合；和/或，所述X向滑动座(210)沿Y向延伸，所述Y向滑动座(310)沿Y向滑动连接于所述X向滑动座(210)，所述Y向压电陶瓷电机(320)的Y向陶瓷片(321)设于所述X向滑动座(210)且与所述X向滑动座(210)的延伸方向一致，所述Y向压电陶瓷电机(320)的Y向电机本体(322)安装于所述Y向滑动座(310)，且所述Y向电机本体(322)的触头与所述Y向陶瓷片(321)相配合；和/或，所述Y向滑动座(310)沿Z向延伸，所述Z向滑动座(410)沿Z向滑动连接于所述Y向滑动座(310)，所述Z向压电陶瓷电机(420)的Z向陶瓷片(421)设于所述Y向滑动座(310)且与所述Y向滑动座(310)的延伸方向一致，所述Z向压电陶瓷电机(420)的Z向电机本体(422)安装于所述Z向滑动座(410)，且所述Z向电机本体(422)的触头与所述Z向陶瓷片(421)相配合。3.根据权利要求2所述的运动装置，其特征在于，所述基座(100)设有两条均沿X向延伸的X向导轨(510)，且两条所述X向导轨(510)沿Y向间隔排布于所述基座...

【专利技术属性】
技术研发人员：张昊，樊树宝，白龙，
申请(专利权)人：北京华卓精科科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：