曝光调整方法、装置、设备和计算机可读存储介质制造方法及图纸

本申请的实施例提供了曝光调整方法、装置、设备和计算机可读存储介质。所述方法包括基于在当前环境下对目标物进行一次测量得到的距离值和曝光强度值，对所述测距系统的初始曝光参数进行调整，生成目标曝光参数；根据所述目标曝光参数，对所述目标物进行下一次测量。以此方式，提高了测距的稳定性，同时防止了因为过曝引发的信号失真。因为过曝引发的信号失真。因为过曝引发的信号失真。

【技术实现步骤摘要】
曝光调整方法、装置、设备和计算机可读存储介质


[0001]本申请的实施例涉及影像处理
，尤其涉及曝光调整方法、装置、设备和计算机可读存储介质。

技术介绍

[0002]目前，测距系统的曝光方式大多为固定曝光。但是固定曝光无法兼容多种测距场景，在低反射率或远距离测距场景，往往需要高曝光才能实现测距；在高反射率或近距离测距，高曝光反而容易导致信号过曝，影响测距精度；在实际的应用场景中，被测物体的反射率范围及距离范围跨度非常大，固定曝光的方式很难覆盖所有应用场景，因此测距系统的信噪比效果不能时刻保持较好的状态，进而使得影响测距系统的测距性能无法达到。

技术实现思路

[0003]根据本申请的实施例，提供了一种应用于测距系统的曝光调整方案，提高了测距的稳定性，能够有效防止因为过曝引发的信号失真。
[0004]在本申请的第一方面，提供了一种应用于测距系统的曝光调整方法。该方法包括：基于在当前环境下对目标物进行一次测量得到的距离值和曝光强度值，对所述测距系统的初始曝光参数进行调整，生成目标曝光参数；根据所述目标曝光参数，对所述目标本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光调整方法，应用于测距系统，其特征在于，包括：基于在当前环境下对目标物进行一次测量得到的距离值和曝光强度值，对所述测距系统的初始曝光参数进行调整，生成目标曝光参数；根据所述目标曝光参数，对所述目标物进行下一次测量。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于在当前环境下对目标物进行一次测量得到的距离值和曝光强度值，对所述测距系统的初始曝光参数进行调整，生成目标曝光参数包括：对一次测量得到的距离值和曝光强度值进行评分；将评分后的距离值和曝光强度值输入至曝光计算器，生成曝光参数。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述对一次测量得到的距离值和曝光强度值进行评分包括：其中，对所述距离值进行评分包括：若所述距离值大于距离阈值，则评分为10；若所述距离值小于等于距离阈值，则评分为距离阈值与1000的比值；对所述曝光强度值进行评分包括：若所述曝光强度值大于强度阈值，则评分为10；若所述曝光强度值小于等于强度阈值，则评分为强度阈值与20的比值。4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述曝光计算器包括：；其中，为目标曝光参数；为初始曝光参数；dn为距离值的评分；qn为曝光强度值的评分；a和b为参数。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述a和b参数通过如下方式训练得到：获取N组曝光参数下的不同距离的曝光强度值，得到N组包括曝光参数、采集距离和对应曝光强度值的数据；对所述N组包括曝光参数、采集距离和对应曝...

【专利技术属性】
技术研发人员：王品，何隆棋，何英，吕星宏，
申请(专利权)人：深圳玩智商科技有限公司，
类型：发明
国别省市：