基板处理设备制造技术

本发明专利技术涉及一种基板处理设备，包括：腔体、支撑腔体的上部的腔体盖、相对腔体盖安装以支撑基板的基座、喷射多种气体的气体喷射器，以及安装于腔体盖中的下垂防止栓。下垂防止栓能够与气体喷射器结合。下垂防止栓包括能供多种气体流动的多条路径。气体流动的多条路径。气体流动的多条路径。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理设备


[0001]本专利技术涉及一种基板处理设备，特别地，涉及一种用于在大面积基板上均匀地形成薄膜的基板处理设备。

技术介绍

[0002]一般来说，为了制造太阳能电池、半导体装置、平板显示设备等，需要在如半导体芯片或玻璃的基板上形成特定的电路图案或是光学图案。为此，可以进行半导体工艺，如将包括特定材料的薄膜沉积在基板上的沉积工艺、通过使用光感材料使薄膜的一部分曝光的曝光工艺，以及移除薄膜中选择性曝光的部分以形成图案的蚀刻工艺等。
[0003]此外，随着基板的面积不断增加，应用于腔体的气体喷射器也应具有大的面积，但可能因为气体喷射器在基板处理工艺中暴露在高温而产生气体喷射器的一侧下垂(Sagging)的问题。
[0004]根据相关技术，在设置于气体喷射器中的多个喷射孔附近可以安装轴体以防止气体喷射器下垂。因为数个喷射孔在气体喷射器中彼此邻设，所以轴体的尺寸(直径)为小的，因此，可能产生无法充分支撑气体喷射器的问题。此外，可能因为轴体的尺寸为小的而产生需要安装数个轴体的问题。此外，可能产生与轴体结合的部分不能喷射气体的问题。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种基板处理设备，包括：腔体；腔体盖，支撑所述腔体的上部；基座，相对所述腔体盖安装以支撑基板；气体喷射器，喷射多种气体；以及下垂防止栓，安装于所述腔体盖中，所述下垂防止栓能够与所述气体喷射器结合，其中，所述下垂防止栓包括供所述多种气体流动的多条路径。2.如权利要求1所述的基板处理设备，其中：所述下垂防止栓的所述多条路径中的至少一者供应第一气体，并且所述下垂防止栓的所述多条路径中的其他路径供应第二气体。3.如权利要求1所述的基板处理设备，其中：所述气体喷射器包括用于气体喷射的多个喷射孔，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：张大洙，金显昌，史胜晔，刘光洙，李智勋，
申请(专利权)人：周星工程股份有限公司，
类型：发明
国别省市：